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    • 94. 发明公开
    • 电子半导体器件和制备电子半导体器件的方法
    • CN110521014A
    • 2019-11-29
    • CN201880012813.9
    • 2018-02-20
    • 诺瓦尔德股份有限公司
    • 乌尔里希·黑格曼马库斯·赫默特托马斯·罗泽诺莫罗·富尔诺
    • H01L51/54H01L51/46H01L51/50
    • 本发明涉及一种电子器件和制备所述电子器件的方法,所述电子器件在第一电极与第二电极之间包含至少一个第一空穴传输层,其中所述第一空穴传输层包含:(i)至少一种由共价键合的原子构成的第一空穴传输基质化合物和(ii)至少一种p型电掺杂剂,所述p型电掺杂剂选自金属盐和选自电中性金属络合物,所述电中性金属络合物包含金属阳离子和由至少4个共价键合的原子构成的至少一种阴离子配体和/或至少一种阴离子,其中所述p型电掺杂剂的金属阳离子选自:碱金属;碱土金属、Pb、Me、Fe、Co、Ni、Zn、Cd;处于氧化态(II)或(III)的稀土金属;Al、Ga、In;以及选自处于氧化态(TV)或更低氧化态的Sn、Ti、Zr、Hf、V、Nb、Ta、Cr、Mo和W;条件是排除:a)包含具有通式(Ia)或(Ib)的阴离子或阴离子配体的p型掺杂剂,其中A1、A2、A3和A4独立地选自CO、SO2或POR1;R1=吸电子基团,其选自:卤素、腈、卤代或全卤代的C1~C20烷基、卤代或全卤代的C6~C20芳基、或具有5~20个成环原子的卤代或全卤代的杂芳基;B1、B2、B3和B4相同或独立地选自:取代或未取代的C1~C20烷基、取代或未取代的C1~C20杂烷基、取代或未取代的C6~C20芳基、取代或未取代的C5~C20杂芳基,或B1和B2形成环;以及b)由Li阳离子和选自高氯酸根和四氟硼酸根的阴离子构成的p型掺杂剂,并且所述第一空穴传输层包含子层,其中按重量和/或体积计以超过可以另外包含在所述子层中的其它组分的总量的量包含所述电掺杂剂。