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    • 28. 发明公开
    • 苯并噻唑衍生物
    • CN1731999A
    • 2006-02-08
    • CN02823604.1
    • 2002-11-18
    • 弗·哈夫曼-拉罗切有限公司
    • A·弗洛尔R·雅各布-劳特恩R·D·诺可罗司C·里莫
    • A61K31/428A61K31/429A61K31/44A61P25/16A61P25/28C07D277/82C07D417/12C07D409/12C07D477/12
    • C07D277/68C07D417/12
    • 本发明涉及通式I化合物及其可药用酸加成盐,其中R是氢;-(CH2)n-苯基,所述基团可任选被卤素、低级烷基、低级烷氧基、三氟甲基或-N(R’)-C(O)-低级烷基取代;-(CH2)n-吡啶基,所述基团可任选被低级烷基取代;-(CH2)n-C3-6-环烷基,所述基团可任选被羟基取代;-(CH2)n-N(R’)-C3-6-环烷基,所述基团可任选被羟基取代;-(CH2)n-苯并[1,3]-二氧杂环戊烯基;-(CR’2)n-噻吩基,所述基团可任选被低级烷基取代;-(CR’2)n-噻唑基,所述基团可任选被低级烷基取代;-(CH2)n-C(O)-噻吩基,所述基团可任选被卤素取代;-(CH2)n-呋喃基,所述基团可任选被低级烷基取代;-(CH2)n-C(O)-(CH2)n-噻吩基;-(CHR’)n-苯并呋喃-2-基;-(CH2)n-苯并[b]噻吩基,所述基团可任选被低级烷基取代;-(CH2)n-N(R’)-C(O)-苯基,所述基团可任选被卤素或低级烷氧基取代;-(CH2)n-C(O)-苯基,所述基团可任选被低级烷氧基取代;-(CH2)n-C(O)-2,3-二氢-苯并[1,4]二氧杂环己烯-6-基;-(CH2)n-N(R’)-C(O)-吡啶基;-(CH2)n-四氢呋喃基;-CH-二苯基;-CH(苯基)-吡啶基;-(CH2)n-1-氧代-1,3-二氢-异吲哚-2-基;-(CH2)n-1,3-二氧代-1,3-二氢-异吲哚-2-基;-(CH2)n-CH(苯基)-四氢吡喃基;-(CH2)n-1-氧代-1,2,3,4-四氢-异喹啉-3-基或-(CH2)n-S-[1,3,4]噻唑-2-基,所述基团可任选被氨基取代;R’是氢或低级烷基,其中在R’2的情况下,其是彼此独立的;且n是0、1、2、3或4。式I化合物对A2A-受体具有良好的亲和性,因此可用于治疗涉及该受体的疾病。