专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

41. 发明公开

CN101012357A 用来化学机械抛光层间介电层的组合物和方法无效
公开(公告)号：CN101012357A
公开(公告)日：2007-08-08
申请号：CN200710006190.8
申请日：2007-01-29
申请人：罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司
发明人： S·J·莱恩 , C·余
IPC分类号： C09G1/16 , C08J5/14 , B24B29/00 , H01L21/304
CPC分类号： H01L21/31053 , C09G1/02
摘要：本发明提供一种可用来对半导体晶片上的二氧化硅和硼－磷酸盐－硅酸盐玻璃进行抛光的水性组合物，该组合物包含0.01－5重量％的羧酸聚合物、0.02－6重量％的磨料、0.01－10重量％的聚乙烯基吡咯烷酮、0－5重量％的阳离子化合物、0－5重量％的两性离子化合物和余量的水，所述聚乙烯基吡咯烷酮的平均分子量为100－1000000克/摩尔。

42. 发明公开

CN1931521A 一种圆形晶片斜面研磨和抛光方法无效
公开(公告)号：CN1931521A
公开(公告)日：2007-03-21
申请号：CN200610104386.6
申请日：2006-08-11
申请人：周海
发明人：周海
IPC分类号： B24B9/16 , C09G1/02 , C09G1/16
摘要：本发明属于光电子和光学领域使用的人工晶片的倒角斜面的加工工艺技术领域，该加工工艺在人工晶片的倒角斜面专用研磨抛光设备上，配以相应的研磨膏或者抛光膏，从而实现对人工晶片的倒角斜面的快速稳定的研磨或者抛光。人工晶片的倒角斜面专用研磨抛光设备的特征如附图1所示，在晶片2旋转过程中，通过磨头3的反向独立旋转，以及磨头3的左右摆动，从而实现磨头3对晶片2倒角斜面的研磨或者抛光。利用球面磨头3与晶片2接触，从而将晶片2自动定心，再通过真空泵将晶片2吸在研磨轴1上，从而实现晶片2在研磨轴1上的定位和夹紧。本发明既可以用于晶片的斜面研磨，也可以用于晶片的斜面抛光，只是需要更换磨头和辅料。对于斜面研磨，用球墨铸铁制成的研磨头，在研磨头内涂上研磨膏，研磨膏的配方是：90％的钠基润滑脂、9％的粒度是W7的微粉、1％的稳定剂。微粉的材料根据晶片的材料确定。对于斜面抛光，用环氧树脂抛光头，在抛光头内涂上抛光膏，抛光膏的配方是：90％的钠基润滑脂、9％的粒度是W0.5的微粉、1％的稳定剂。微粉的材料根据晶片的材料确定。本发明能够使得人工晶片的倒角斜面的研磨、抛光后宽度尺寸稳定，角度一致，能够使抛光斜面的粗糙度＜0.4微米，能够避免人工晶片在后续的平面研磨和抛光加工过程中产生崩边，从而提高人工晶片的加工质量。同时本发明能够缩短人工晶片的倒角斜面的研磨、抛光时间，降低晶片的生产成本。

43. 发明公开

CN1671813A 地板用水合树脂分散体以及使用这种水合树脂分散体的地板抛光组合物无效
公开(公告)号：CN1671813A
公开(公告)日：2005-09-21
申请号：CN03817386.7
申请日：2003-07-17
申请人：约翰逊迪瓦西公司
发明人：纐缬明美 , 船木秀纪 , 中村民男
IPC分类号： C09G1/16
CPC分类号： C09G1/16
摘要：本发明提供一种地板抛光组合物，这种抛光组合物具有优异的光泽、抗黑色印记性、抗磨损性以及存储稳定性，尤其是这种抛光组合物具有可擦除性、附着性、抗污渍性、防水性。地板用水合树脂分散体中不含芳香乙烯基单体，因此，这种抛光组合物不会造成房屋不适综合症，该抛光组合物也不合金属交联结构，因此，这种组合物具有极好的环境安全性。地板水合树脂分散体中含有共聚物，共聚物由作为结构基本单元的单体单元(a)、(b)和(c)组成，这种水合树脂分散体分散在水中，其中所述水合树脂分散体中每种单体单元占单体总量的比例为：单体(a)在单体总量中所占的重量百分比在1～70％(a)之间，单体(a)是具有脂环结构的乙烯基单体；单体(b)在单体总量中所占的重量百分比在5～50％之间，单体(b)是带有羧基基团的乙烯基单体；单体(c)在单体总量中所占的重量百分比在5～90％之间，单体(c)是不同于上述单体(a)和单体(b)的非芳香乙烯基单体。本发明还提供含有这种分散体的地板抛光组合物。

44. 发明授权

CN1191040C 处理表面,特别是皮革表面,例如皮鞋表面的装置失效转让
公开(公告)号：CN1191040C
公开(公告)日：2005-03-02
申请号：CN00805992.6
申请日：2000-03-24
申请人：莎拉李/迪有限公司
发明人： J·A·G·W·兹曼斯 , P·霍特克金 , P·A·胡斯特 , P·H·A·N·屈恩
IPC分类号： A47L23/05 , B65D47/44 , C09G1/16
CPC分类号： A47L23/05 , B65D47/44
摘要：一种用液体物质处理表面，特别是纺织品表面或皮革表面，例如，举例来说，皮鞋的上表面的装置，该装置包括一个储存器，该储存器具有存储这种物质的容器和海绵状体，从容器吸入的物质经过该海绵状体可分散到表面上。在容器和海绵状体之间设有至少一个接收室，该接收室具有与容器连通的流入口，该流入口在装置不工作条件下是关闭的，并且可在海绵状体相对于该海绵状体接触的平面运动时打开，同时物质从接收室通过海绵状体经过延迟吸入。

45. 发明公开

CN1246506A 皮衣保养剂无效
公开(公告)号：CN1246506A
公开(公告)日：2000-03-08
申请号：CN99119079.3
申请日：1999-09-15
申请人：宋志刚
发明人：宋志刚 , 赵秀杰
IPC分类号： C09G1/16
摘要：本发明涉及一种皮衣保养剂,它由丙烯酸树脂乳液为主料,副以高细度颜料膏、皮革加脂剂、皮革营养剂、745号光亮剂、特效柔软剂、SW有机硅皮革滑爽剂,经混合、搅拌、灌装等常规方法制备而成。它可充分补足洗后皮质所缺少的脂类,靠皮质自然吸收,因而皮质柔软,亮度自然,皮毛细孔畅通,弹性好,永不变色,不生裂纹,可延长皮衣的使用寿命。

46. 发明公开

CN1152596A 一种气雾剂型含高分子组分的去污、上光、保护剂失效
公开(公告)号：CN1152596A
公开(公告)日：1997-06-25
申请号：CN96120220.3
申请日：1996-10-21
申请人：厦门大学
发明人：戴李宗
IPC分类号： C09G1/16
摘要：本发明涉及一种基于非蜡物质的抛光组合物。由聚二甲基硅氧烷6～9份、抗静电剂0.8～1.2份、香精0.2份、溶剂汽油80～90份及高分子材料溶液3～6份组成。经喷涂去污后的材料表面不仅能形成一层光亮的有机硅树脂膜，还能形成一层具韧性和弹性的高分子保护层，并对材料表面微小损伤及擦痕有填平、修补作用，达到去污、上光、保护一次完成的目的。适用于车辆、皮革、家具、家用电器、电镀件及金属等材料表面去污、上光、保护。

47. 发明公开

CN1068362A 多功能清洁发光剂及制做方法失效
公开(公告)号：CN1068362A
公开(公告)日：1993-01-27
申请号：CN91104755.7
申请日：1991-07-04
申请人：云南省热带作物科学研究所
发明人：廖振民
IPC分类号： C11D3/382 , C09G1/16
摘要：本发明涉及到由阴离子表面活性剂和非离子表面活性剂组成的清洗发光剂及其制备方法。本发明所述的清洁发光剂由以下成分组成：橡胶籽油80～120份、氢氧化钾10～25份、钾盐类8～40份、非离子表面活性剂10～40份、添加剂2～8份、水700～1000份。本发明所述的清洁发光剂，可广泛用于飞机、车辆、电器、皮革、家具等的去污上光。

48. 发明授权

CN115029768B 一种应用于金属件固体电解抛光的颗粒物及应用方法有权
公开(公告)号：CN115029768B
公开(公告)日：2023-06-06
申请号：CN202210550249.4
申请日：2022-05-20
申请人：广东省科学院化工研究所
发明人：庞浩 , 廖兵 , 洪培萍 , 余越
IPC分类号： C25F3/16 , C09G1/16
摘要：本发明公开了一种应用于金属件固体电解抛光的颗粒物及应用方法。这种颗粒物为具有多孔结构的固体颗粒；所述颗粒物含有羟基基团；所述颗粒物的孔道内部和/或表面含有电解质。本发明提供的用于金属件固体电解抛光的颗粒物，相对于物理抛光和化学抛光，其能够对金属件不便于研磨的部位进行充分的抛光，且在抛光过程中无需大量的化学氧化药剂和电解液，环境友好且安全性高。此外，颗粒物可以在使用一段时间后进行再生，大大提高使用寿命，降低成本。

49. 发明公开

CN113201284A 一种高抛光度CMP抛光液及其制备方法有权
公开(公告)号：CN113201284A
公开(公告)日：2021-08-03
申请号：CN202110445740.6
申请日：2021-04-24
申请人：深圳市撒比斯科技有限公司
发明人：王继宝 , 周翠苹
IPC分类号： C09G1/02 , C09G1/14 , C09G1/16 , C09G1/18
摘要：本申请涉及化学机械抛光的领域，具体公开了一种高抛光度CMP抛光液及其制备方法。高抛光度CMP抛光液，每100重量份的抛光液中包括磨料10‑45份、pH调节剂2‑7份、表面活性剂0.03‑0.3份、水溶性环糊精0.5‑2.5份、聚乙二醇0.03‑0.15份、水补足100份；其制备方法为：将磨料与水混合均匀后依次投入水溶性环糊精和聚乙二醇混合均匀，接着投入pH调节剂和表面活性剂混合均匀制得高抛光度CMP抛光液。本申请的高抛光度CMP抛光液具有抛光度高的优点。

50. 发明公开

CN112342097A 一种无水洗车液及其制备方法无效
公开(公告)号：CN112342097A
公开(公告)日：2021-02-09
申请号：CN202011248323.4
申请日：2020-11-10
申请人：四川殿邦科技有限公司
发明人：严群英
IPC分类号： C11D1/83 , C11D3/20 , C11D3/37 , C11D3/12 , C11D3/16 , C11D3/40 , C11D3/50 , C11D3/60 , C09G1/10 , C09G1/16
摘要：本发明公开了一种无水洗车液及其制备方法，属于车辆保养技术领域，无水洗车液，包括以下质量份的组分：车漆保护剂10‑25份，泥沙松动剂2‑20份，划痕修补剂1‑9份，界面活化剂1‑20份，上光剂5～20份，稀释剂20‑60份，香精0.2‑1份以及色素0.01‑0.5份；通过车漆保护剂高效保护车漆，擦拭过程对车漆零损伤；界面活化剂复配，实现高效去污、灰尘松动与包裹，去污、保护二合一；划痕修补剂的粒径为10～200nm，且掺杂金属氧化物纳米颗粒具有较低的光催化活性和晶体棱角，有利于提高车漆寿命、减少细微划痕。绿色、清洁、无污染、节水、节能、低成本；清洁、上光一步完成，节省施工时间，节省车主时间。

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式