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81. 发明公开

CN103459039A 研磨体有权
公开(公告)号：CN103459039A
公开(公告)日：2013-12-18
申请号：CN201180055251.4
申请日：2011-10-11
申请人：阿萨瑞尔-曼德特公司 , P·鲍杜罗夫 , T·彭切夫
发明人： P·鲍杜罗夫 , T·彭切夫
IPC分类号： B02C17/20
CPC分类号： B02C17/20
摘要：本发明涉及一种研磨体，该研磨体用于对滚筒式和其他碾磨机中的含矿岩或土体、惰性材料以及所有其他材料进行破碎和研磨。其应用于矿石富集、建筑材料生产、废物利用以及其他工业行业。所述研磨体包括球状椎体（1）、顶点（6）、基底（2）和边缘（4），球状椎体（1）的成形曲线（5）是圆或另一些几何曲线的一部分，基底（2）是球体或其他三维图形的一部分，该三维图形通过几何曲线的旋转而获得，边缘（4）在顶点（6）和基底（2）之间。在其中一个变体中，椎体（1）和基底（2）通过圆柱体（9）连接。为了研磨体更好的可生产性，在基底（2）的表面上制造具有圆形或其他形状的平坦的点区域（3）。在另一个变体中，在椎体（1）的表面上和在基底（2）和椎体（1）之间的圆柱体（9）的表面上制造点区域（7、8）。在后面的变体中，椎体（1）的顶点（6a）被切平，其平面垂直于主体的轴线或朝着主体的轴线倾斜。在其他变体中，在椎体（1）和基底（2）之间制造或多或少凸状的外围的环形物（10、11、12）。这些环形物的截面形状类似圆形、三角形或矩形。在后面的变体中，具有平坦基底（14）的短圆柱体（13）在基底（2）和切平的顶点（6a）上突出。主体所有的边缘和顶点可以是沿着圆、螺旋或其他几何图形的一部分倒圆。所述研磨体与球形研磨体相比具有更大的面积并在给定空间中具有更大的密度。边缘和顶点的存在增加了碾磨机的生产率。

82. 发明公开

CN102740836A 用于制备商品化纳米颗粒和微粒粉末的方法无效复审申请
公开(公告)号：CN102740836A
公开(公告)日：2012-10-17
申请号：CN201080018041.3
申请日：2010-04-23
申请人：伊休蒂卡有限公司
发明人：艾伦·多德 , 费利克斯·迈泽尔 , 阿德里安·拉塞尔 , 马克·诺雷特 , H·威廉·博施
IPC分类号： A61K9/14 , A61K31/196 , A61K31/5415 , A61K31/53 , A01N39/04 , A61K31/198 , A61K31/565 , A61K31/497 , A01N55/02 , A61K31/405 , A61K31/57 , A61K31/192 , A01N57/20 , A61K31/421 , A61K33/04 , A61K31/18 , A61K31/122 , A61K31/4709 , A61K38/13
CPC分类号： A61K9/1682 , A01N25/10 , A01N25/12 , A01N25/34 , A01N37/38 , A01N47/36 , A01N55/02 , A01N57/20 , A23L33/10 , A23P10/20 , A23P10/30 , A23V2002/00 , A61J3/02 , A61K9/0075 , A61K9/145 , A61K9/146 , A61K9/1617 , A61K9/1623 , A61K9/1635 , A61K9/1652 , A61K31/122 , A61K31/137 , A61K31/18 , A61K31/192 , A61K31/196 , A61K31/198 , A61K31/404 , A61K31/405 , A61K31/415 , A61K31/421 , A61K31/4709 , A61K31/496 , A61K31/497 , A61K31/53 , A61K31/5415 , A61K31/565 , A61K31/57 , A61K33/04 , A61K38/13 , B02C17/20 , B02C19/0056 , A01N39/04 , A01N47/14 , A01N57/12 , A01N59/02
摘要：本发明涉及使用干磨法制备生物活性物质的纳米颗粒和微粒粉末的方法，所述粉末具有改进的粉末处理性质，其使得所述粉末适用于商业用途；还涉及包含这种物质的组合物、使用颗粒形式的所述生物活性物质和/或组合物制备的药物，并涉及使用治疗有效量的作为所述药物施用的所述生物活性物质治疗动物(包括人)的方法。

83. 发明公开

CN102036752A 制备稳定的氧封端半导体纳米粒子的方法失效转让
公开(公告)号：CN102036752A
公开(公告)日：2011-04-27
申请号：CN200980118525.2
申请日：2009-04-09
申请人：开普敦大学
发明人：大卫·托马斯·布里顿 , 马尔吉特·黑廷
IPC分类号： B02C23/06 , B02C17/20 , B02C17/00 , C01B33/02 , B22F9/04
CPC分类号： B02C23/06 , B02C17/00 , B02C17/20 , B22F9/20 , B22F2009/041 , B22F2009/043 , B22F2009/049 , B22F2999/00 , C01B19/002 , C01B19/007 , C01B33/02 , C01B33/113 , C01G21/21 , C01G28/00 , C01G30/00 , C01P2002/82 , C01P2004/04 , C01P2006/40 , C09K11/62 , C09K11/668 , C09K11/70 , C09K11/74 , C09K11/75 , C09K11/881 , C09K11/883 , C22C1/0491 , B22F9/04
摘要：本发明提供一种制备具有稳定表面的无机半导体纳米粒子的方法。所述方法包括提供无机块状半导体材料，如硅或锗，并且在选择的还原剂的存在下研磨该块状半导体材料。所述还原剂起如下作用：将半导体材料的一种或多种组成元素的氧化物化学还原，或者通过优先氧化来防止这样的氧化物形成，从而提供具有允许纳米粒子之间的电接触的稳定表面的半导体纳米粒子。在磨机中进行研磨，在所述磨机中，研磨介质和/或磨机的一个或多个部件中包含选择的还原剂。例如可以使用以下磨机来进行研磨：具有锤击作用的高能磨机，其中磨机的研杵、磨机的研钵或两者由选择的还原剂组成；或者低能、搅拌介质磨机，如球磨机、棒磨机等，其中研磨介质、磨机的衬里或两者由还原剂组成。研磨介质或磨机典型地由选自包括下列各项的组中的金属组成：铁、铬、钴、镍、锡、钛、钨、钒和铝，或含有一种或多种所述金属的合金。在所述方法的另一个实施方案中，选择的还原剂包括在块状半导体材料的研磨过程中在磨机中容纳的液体。所述液体典型地为含有盐酸、硫酸、硝酸、乙酸、甲酸或碳酸、或者它们的混合物中任一项的酸性溶液。本发明扩展至用于进行所述方法的磨机。

84. 发明授权

CN101282790B 提高矿石、矿物和精矿的研磨效率的方法有权
公开(公告)号：CN101282790B
公开(公告)日：2011-01-26
申请号：CN200680037674.2
申请日：2006-08-08
申请人：斯特拉塔技术有限公司
发明人：格雷戈里·S·安德森 , 丹尼尔·C·阿里 , 约瑟夫·D·皮斯
IPC分类号： B02C4/00 , B02C7/00 , B02C15/00 , B02C17/00
CPC分类号： B02C17/16 , B02C17/20 , B02C17/24
摘要：减小颗粒状物的粒度的方法，该方法包括：将原料加入到具有至少500kW功率的研磨机中，该研磨机具有至少50kW/每立方米的研磨机研磨容积的比耗用功率，和研磨机包括研磨介质，该研磨介质包含具有不少于2.4吨/m3的比重和在约0.8到8mm范围内的粒度的颗粒状原料，在研磨机中研磨原料并从研磨机中排出产品，该产品所具有的粒度范围使得产品的D80是至少约20微米。

85. 发明公开

CN101657510A 加工霞石正长岩粉末以生产超细粒径产品的方法有权
公开(公告)号：CN101657510A
公开(公告)日：2010-02-24
申请号：CN200880004251.X
申请日：2008-01-23
申请人：尤尼明公司
发明人：路易斯·M.·施莱辛格 , 毛里西奥·杜兰·桑切斯 , 杰拉尔多·埃尔南德斯·冈萨雷斯 , 阿特米奥·冈萨雷斯·阿塞韦多
IPC分类号： C09D11/00
CPC分类号： B02C17/16 , B02C17/1845 , B02C17/20 , C04B33/025 , C04B35/19 , C04B35/6261 , C04B2235/3472 , C04B2235/5436 , C04B2235/5463 , C08K3/34 , C09D7/61 , C09D7/68 , C09D7/69 , Y10T428/2982
摘要：将具有粒径分布的霞石正长岩颗粒状原料转化为用于随后商业应用的超细微粒成品的方法，该超细微粒成品具有小于约6微米的最大粒径。该方法包括：提供具有大于约20微米的受控的最大粒径的干燥原料；通过使干燥状态下的原料垂直向下通过连续的高速搅拌的球磨机来研磨该原料，由此将该原料研磨成粒径分布比该原料的粒径分布显著减小的中间体粉末；然后利用沿设定路径快速移动的高速气流使来自球磨机的中间体粉末通过风力分级机，以将所述超细微粒产品沿该路径传送并离开分级机，以及使包含比超细产物大的颗粒的粗颗粒材料分离，然后从分级机中排出。

86. 发明公开

CN101133002A 基于氧化锆和氧化铈的烧结珠有权
公开(公告)号：CN101133002A
公开(公告)日：2008-02-27
申请号：CN200680006597.4
申请日：2006-02-27
申请人：圣戈班欧洲设计研究中心
发明人：伊曼纽尔·诺妮特 , 瑞玛·霍达科夫卡亚 , 莫什·林克 , 马塞尔·严促 , 安德烈·熊恩 , 埃里克·哈努斯
IPC分类号： C04B35/486
CPC分类号： C04B35/486 , B02C17/20 , C04B35/624 , C04B35/6261 , C04B35/62625 , C04B35/63 , C04B35/632 , C04B35/636 , C04B2235/3217 , C04B2235/3225 , C04B2235/3229 , C04B2235/3232 , C04B2235/3262 , C04B2235/3267 , C04B2235/3272 , C04B2235/3281 , C04B2235/3284 , C04B2235/3294 , C04B2235/5445 , C04B2235/72 , C04B2235/77 , C04B2235/94 , C04B2235/96
摘要：本发明涉及一种烧结珠，其表现为下述化学分析，其在总量100％中按重量百分数计为：ZrO2+HfO2：78％－85％；CeO2：≥15％；Al2O3：＞0.1％；添加剂：＞0.1％；杂质：＜1％；所述添加剂选自MnO、MnO2、Fe2O3、CuO、TiO2、Y2O3、Sb2O3、ZnO和它们的混合物。本发明还涉及所述烧结珠在微研磨和微分散中的应用。

87. 发明公开

CN101039754A 研磨方法和产品失效转让
公开(公告)号：CN101039754A
公开(公告)日：2007-09-19
申请号：CN200580034444.6
申请日：2005-08-01
申请人：通用汽车公司
发明人： J·D·金 , 李伟 , S·H·区
IPC分类号： B02C17/00 , B01J23/00 , C01F17/00
CPC分类号： C01G35/00 , B01J23/002 , B01J23/8476 , B01J35/004 , B01J37/0036 , B01J2523/00 , B02C17/20 , C01B3/042 , C01G23/003 , C01G33/00 , C01G35/006 , Y02E60/364 , B01J2523/24 , B01J2523/57 , B01J2523/847
摘要：使用至少两种不同大小的钇稳定的氧化锆球的混合物更有效地研磨颗粒材料。该方法有利于具有高活性的光催化剂的制备。

88. 发明公开

CN101035869A 金红石基的颜料及其制备方法无效
公开(公告)号：CN101035869A
公开(公告)日：2007-09-12
申请号：CN200580032899.4
申请日：2005-08-16
申请人：霍伊巴赫有限公司
发明人： R·霍伊巴赫
IPC分类号： C09C3/04 , B02C17/20 , C09C1/00 , B02C17/22 , C09C1/34
CPC分类号： C09C1/0084 , B02C17/16 , B02C17/20 , B02C17/22 , C01P2002/30 , C01P2002/52 , C01P2004/51 , C01P2004/53 , C01P2004/62 , C01P2004/80 , C01P2006/80 , C09C1/0096 , C09C1/34 , C09C1/36 , C09C1/3623 , C09C3/041
摘要：本发明涉及一种细粒、明亮和高遮盖性的金红石基颜料。该颜料的特征在于，所述颜料没有表现出含有与应用技术相关的、由于磨机磨损产生的活性金属或金属化合物，但具有粒径为50～1000nm的粒度分布，并且在单峰、双峰、三峰或更多峰几率分布情况下具有230～400nm的主峰最大值，其中在双峰或更多峰几率分布时，在400～1000nm任选出现小于主峰最大值25％的副峰最大值。制备这种颜料的方法的特征在于，具有金红石结构的无机混合相氧化物颜料在加有耐化学和机械内衬的搅拌器球磨机中在水性悬浮液中通过高功率研磨而处理，直到调节为以上描述的粒度分布和近乎等轴的、磨圆的微粒形状。在此任选提供助剂，以对本发明颜料进行粘度调节和对表面进行调理。所述颜料与现有技术相比，表现出改善的光泽、较小的白度或较小的发亮、相对高的色调饱和度，以及表现出极高的、在该物质类型中以前不可利用的遮盖能力，同时相对于现有技术的细粒金红石而言表现出较小的光活性。此外在实际中没有表现出不利的磨损性，没有可能的研磨残余物与所使用的基质之间的相互作用。

89. 发明公开

CN1486218A 颗粒材料的研磨失效
公开(公告)号：CN1486218A
公开(公告)日：2004-03-31
申请号：CN01821995.0
申请日：2001-11-13
申请人：英默里斯矿物有限公司
发明人： D·A·皮尔斯
IPC分类号： B02C17/16 , B02C17/20
CPC分类号： B02C17/22 , B02C17/16 , B02C17/163 , B02C17/20
摘要：一种用于研磨颗粒固体材料悬浮液的设备(1)。该设备(1)包括研磨室(2)、用来将颗粒固体材料悬浮液引入研磨室(2)的装置(7，8)以及叶轮(6)，该叶轮旋转并借此在研磨室(2)内搅拌颗粒磨料和颗粒固体材料悬浮液。叶轮(6)具有至少一叶片(12)，所述叶片(12)具有沿着叶轮(6)旋转方向(R)的导向面(14)，该导向面相对于叶轮(6)的旋转平面倾斜。在优选实施例中，所述导向面(14)的上边缘为前缘而其下边缘为每个叶片(12)的后缘，因而叶轮(6)用来向下朝研磨室(2)底部驱动研磨室(2)内的材料，借此挤压研磨室(2)内的所述材料。包括环形板的挡板构件(16)可在研磨室(2)内设置在叶轮(6)上方的预定高度处，因而将研磨室(2)内的所述材料保持在受挤压状态。

90. 发明授权

CN1098126C 硅酸锆研磨方法失效
公开(公告)号：CN1098126C
公开(公告)日：2003-01-08
申请号：CN95191549.5
申请日：1995-12-08
申请人：科尔-麦克基化学有限责任公司
发明人：托马斯·I·布朗布里奇 , 菲利普·M·斯多里
IPC分类号： B02C21/00
CPC分类号： B02C23/18 , B02C17/20
摘要：本发明提供了一种在高能磨机内研磨粉末的方法，其包括形成含有绝对密度约为4-6g/cc的天然硅酸锆砂研磨介质的研磨浆料的步骤。本发明还提供了一种包括绝对密度约为4-6g/cc的天然硅酸锆砂的研磨介质。

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