基本信息:
- 专利标题： 用于硬掩模组合物的单体、包含该单体的硬掩模组合物、以及使用该硬掩模组合物形成图案的方法
- 申请号：CN201280065648.6 申请日：2012-11-29
- 公开(公告)号：CN104024940B 公开(公告)日：2018-05-01
- 发明人： 金润俊 , 田桓承 , 赵娟振 , 尹龙云 , 李忠宪 , 权孝英 , 崔有廷
- 申请人： 第一毛织株式会社
- 申请人地址： 韩国庆尚北道
- 专利权人： 第一毛织株式会社
- 当前专利权人： 第一毛织株式会社
- 当前专利权人地址： 韩国庆尚北道
- 代理机构： 北京康信知识产权代理有限责任公司
- 代理人： 余刚; 张英
- 优先权： 10-2011-0147384 2011.12.30 KR
- 国际申请： PCT/KR2012/010203 2012.11.29
- 国际公布： WO2013/100409 KO 2013.07.04
- 进入国家日期： 2014-06-30
- 主分类号： G03F7/11
- IPC分类号： G03F7/11 ; G03F1/38 ; G03F7/004 ; G03F7/26 ; H01L21/027
摘要：
本发明涉及一种由式1表示的用于硬掩模组合物的单体、包含该单体的硬掩模组合物、以及使用该硬掩模组合物形成图案的方法。
摘要（英）：
Disclosed are a monomer for a hardmask composition represented by the following Chemical Formula 1, a hardmask composition including the monomer, and a method of forming a pattern using the same. In Chemical Formula 1, A, A′, L and n are the same as in the detailed description.
公开/授权文献:
- CN104024940A 用于硬掩模组合物的单体、包含该单体的硬掩模组合物、以及使用该硬掩模组合物形成图案的方法 公开/授权日：2014-09-03