基本信息:
- 专利标题： 一种绝缘栅双极性晶体管的制造方法
- 申请号：CN201310289822.1 申请日：2013-07-11
- 公开(公告)号：CN104282555B 公开(公告)日：2017-03-15
- 发明人： 王万礼 , 王根毅 , 邓小社 , 芮强
- 申请人： 无锡华润上华半导体有限公司
- 申请人地址： 江苏省无锡市国家高新技术产业开发区新洲路8号
- 专利权人： 无锡华润上华半导体有限公司
- 当前专利权人： 无锡华润上华科技有限公司
- 当前专利权人地址： 江苏省无锡市国家高新技术产业开发区新洲路8号
- 代理机构： 无锡互维知识产权代理有限公司
- 代理人： 王爱伟
- 主分类号： H01L21/331
- IPC分类号： H01L21/331
摘要：
本发明公开了一种绝缘栅双极性晶体管的制造方法，包括，提供第一导电类型的半导体衬底，该半导体衬底具有第一主面和第二主面；在所述半导体衬底的第一主面形成第一导电类型的离子注入层；在所述半导体衬底的第一主面外延形成第一导电类型的漂移区；将所述离子注入层形成场终止层；基于所述漂移区形成所述绝缘栅双极性晶体管的第一主面结构；自所述半导体衬底的第二主面开始减薄所述半导体衬底直到露出所述场终止层；在形成有所述场终止层的所述半导体衬底的第二主面继续形成所述绝缘栅双极性晶体管的剩余第二主面结构。本发明不需要专用设备，现有NPT生产设备就可以完成整个流程。
公开/授权文献:
- CN104282555A 一种绝缘栅双极性晶体管的制造方法 公开/授权日：2015-01-14
IPC结构图谱:
| H | 电学 |
| --H01 | 基本电气元件 |
| ----H01L | 半导体器件；其他类目未包含的电固体器件 |
| ------H01L21/00 | 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备 |
| --------H01L21/02 | .半导体器件或其部件的制造或处理 |
| ----------H01L21/027 | ..未在H01L21/18或H01L21/34组中包含的为进一步的光刻工艺在半导体之上制作掩膜 |
| ------------H01L21/18 | ...器件有由周期表第Ⅳ族元素或含有/不含有杂质的AⅢBⅤ族化合物构成的半导体，如掺杂材料 |
| --------------H01L21/26 | ....用波或粒子辐射轰击的 |
| ----------------H01L21/33 | .....包括3个或更多电极的器件 |
| ------------------H01L21/331 | ......晶体管 |