基本信息:
- 专利标题： 施力可调节测量装置
- 申请号：CN201710792270.4 申请日：2017-09-05
- 公开(公告)号：CN107422752B 公开(公告)日：2024-04-12
- 发明人： 李芳 , 程海洋 , 雍占琦 , 王伟丽
- 申请人： 机科发展科技股份有限公司
- 申请人地址： 北京市海淀区首体南路2号
- 专利权人： 机科发展科技股份有限公司
- 当前专利权人： 机科发展科技股份有限公司
- 当前专利权人地址： 北京市海淀区首体南路2号
- 代理机构： 北京华夏正合知识产权代理事务所
- 代理人： 韩登营; 高伟
- 主分类号： G05D15/00
- IPC分类号： G05D15/00 ; G01B21/00
摘要：
本发明提供一种能够提高施力调节效率的施力可调节测量装置。本发明的施力可调节测量装置具有测量单元(3)与可调节施力单元(2)，所述测量单元(3)上能够放置被测物体并对该被测物体定位，所述可调节施力单元(2)具有对所述被测物体施力的压头(22)，在所述被测物体被所述压头(22)施力的状态下，所述测量单元(3)进行检测。施力可调节测量装置还具有传输单元(1)，所述传输单元(1)具有驱动所述压头(22)移动的伺服机构(11)。所述可调节施力单元(2)具有监测所述压头(22)对被测物体施加的压力的压力传感器(21)。
公开/授权文献:
- CN107422752A 施力可调节测量装置 公开/授权日：2017-12-01
IPC结构图谱:
| G | 物理 |
| --G05 | 控制；调节 |
| ----G05D | 非电变量的控制或调节系统 |
| ------G05D15/00 | 机械力或应力的控制；机械压力的控制 |