基本信息:
- 专利标题： 流体杀菌装置
- 申请号：CN202010082729.3 申请日：2020-02-07
- 公开(公告)号：CN111732157A 公开(公告)日：2020-10-02
- 发明人： 加藤刚雄 , 樱井公人 , 越智贵则 , 中川幸信
- 申请人： 东芝照明技术株式会社
- 申请人地址： 日本神奈川县横须贺市船越町1丁目201番1
- 专利权人： 东芝照明技术株式会社
- 当前专利权人： 东芝照明技术株式会社
- 当前专利权人地址： 日本神奈川县横须贺市船越町1丁目201番1
- 代理机构： 北京同立钧成知识产权代理有限公司
- 代理人： 马爽; 藏建明
- 优先权： 2019-056806 2019.03.25 JP
- 主分类号： C02F1/32
- IPC分类号： C02F1/32 ; A61L9/20 ; B01D53/00
摘要：
本发明的课题是不仅抑制光源的温度上升，而且容易更换组件。实施方式的流体杀菌装置包括处理部、光源部、盖构件、及流路构件。处理部对流体进行处理。光源部包括朝向处理部照射紫外线的光源、以及支撑光源的支撑构件。盖构件配置于光源部的前表面侧，保护光源不受流体影响。流路部包括将盖构件加以保持的保持部、以及使处理部与外部连通的流体流路。流体流路的至少一部分位于光源部的侧方，光源部与流路构件热性接触。流路构件包括能拆装地装配光源部的装配部。
IPC结构图谱:
| C | 化学；冶金 |
| --C02 | 水、废水、污水或污泥的处理 |
| ----C02F | 水、废水、污水或污泥的处理 |
| ------C02F1/00 | 水、废水或污水的处理C02F3/00至C02F9/00优先 |
| --------C02F1/30 | .光照法 |
| ----------C02F1/32 | ..用紫外线的 |