基本信息:
- 专利标题： 用于测量辐射束的方法和光刻设备
- 申请号：CN202080014154.X 申请日：2020-01-30
- 公开(公告)号：CN113439237B 公开(公告)日：2025-04-08
- 发明人： A·J·唐科布洛克 , Y·乔杜里 , M·H·F·詹森
- 申请人： ASML荷兰有限公司
- 申请人地址： 荷兰维德霍温
- 专利权人： ASML荷兰有限公司
- 当前专利权人： ASML荷兰有限公司
- 当前专利权人地址： 荷兰维德霍温
- 代理机构： 北京市金杜律师事务所
- 代理人： 赵林琳
- 优先权： 19156895.5 2019.02.13 EP
- 国际申请： PCT/EP2020/052250 2020.01.30
- 国际公布： WO2020/164918 EP 2020.08.20
- 进入国家日期： 2021-08-12
- 主分类号： G03F7/20
- IPC分类号： G03F7/20
摘要：
本发明提供了一种包括投射系统的设备，该投射系统具有光轴并且被配置为投射辐射束。该设备包括被布置为测量由投射系统投射的辐射束的测量单元，该测量单元包括开口、以及感测表面，在使用时辐射束穿过开口，感测表面横向于光轴延伸并且被布置为测量穿过开口的辐射束。光刻设备被配置为在多个测量位置之间、在横向于光轴的平面中移动感测表面。辐射束限定上述平面中的视图，并且测量单元被配置为使得感测表面在每个测量位置捕获视图的一部分，该一部分比100％的视图小。本发明包括一种相对应的方法。
公开/授权文献:
- CN113439237A 用于测量辐射束的方法和光刻设备 公开/授权日：2021-09-24