基本信息:
- 专利标题： 一种用于实现精密相位校正的光学超构表面薄膜
- 申请号：CN202210685269.2 申请日：2022-06-15
- 公开(公告)号：CN114966941A 公开(公告)日：2022-08-30
- 发明人： 李子乐
- 申请人： 武汉大学苏州研究院
- 申请人地址： 江苏省苏州市苏州工业园区独墅湖科技创新区林泉街377号公共学院5号楼
- 专利权人： 武汉大学苏州研究院
- 当前专利权人： 武汉大学苏州研究院
- 当前专利权人地址： 江苏省苏州市苏州工业园区独墅湖科技创新区林泉街377号公共学院5号楼
- 代理机构： 武汉科皓知识产权代理事务所
- 代理人： 胡琦旖
- 主分类号： G02B5/30
- IPC分类号： G02B5/30
摘要：
本发明属于光学技术领域，公开了一种用于实现精密相位校正的光学超构表面薄膜，包括基底和位于基底上的纳米阵列，纳米阵列包括多个纳米结构，纳米阵列中的所有纳米结构具有相同的高度，纳米阵列中的每个纳米结构的横向尺寸根据目标相位调控信息优化得到，光学超构表面薄膜用于对入射光进行相位校正。本发明通过改变各位置处纳米结构的横向尺寸实现精密相位校正，性能优越、设计灵活。