基本信息:
- 专利标题： 可抗污染的连续式电浆制程系统
- 申请号：CN202210607545.3 申请日：2022-05-31
- 公开(公告)号：CN117187770A 公开(公告)日：2023-12-08
- 发明人： 李原吉 , 刘品均 , 杨峻杰 , 蔡明展 , 卢志铭
- 申请人： 友威科技股份有限公司
- 申请人地址： 中国台湾桃园市
- 专利权人： 友威科技股份有限公司
- 当前专利权人： 友威科技股份有限公司
- 当前专利权人地址： 中国台湾桃园市
- 代理机构： 北京汇智英财专利代理有限公司
- 代理人： 陈践实
- 主分类号： C23C14/56
- IPC分类号： C23C14/56 ; C23C14/34
摘要：
本发明提供一种可抗污染的连续式电浆制程系统，其包括一铝基材、一缓冲机台以及一制程机台，缓冲机台具有一缓冲腔体以及一第一运输模组，缓冲腔体具有一放置铝基材的存放区，第一运输模组用以使铝基材沿一X方向进行位移；制程机台连接缓冲机台，制程机台具有一制程腔体、一第二运输模组以及一电浆模组，制程腔体连通于缓冲腔体，第二运输模组对应于第一运输模组而接收铝基材，电浆模组能够对铝基材进行离子轰击而使铝原子附着于制程腔体的一内壁面；借此，能够配合连续式溅镀设备，而避免后续制程的污染问题。