基本信息:
- 专利标题： 一种基于亚胺的高性能紫外屏蔽光刻胶及其制备方法
- 申请号：CN202411830691.8 申请日：2024-12-12
- 公开(公告)号：CN119439624A 公开(公告)日：2025-02-14
- 发明人： 张帅 , 李婧 , 吴禄锟 , 张占文 , 王宇光 , 朱方华 , 徐嘉靖
- 申请人： 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
- 申请人地址： 四川省绵阳市科学城绵山路64号
- 专利权人： 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
- 当前专利权人： 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
- 当前专利权人地址： 四川省绵阳市科学城绵山路64号
- 代理机构： 绵阳远卓弘睿知识产权代理事务所(普通合伙)
- 代理人： 贾晓燕
- 主分类号： G03F7/027
- IPC分类号： G03F7/027 ; H05K9/00
摘要：
本发明公开了一种基于亚胺的高性能紫外屏蔽光刻胶及其制备方法，包括：制备中间体亚胺基二苯酚，使用中间体亚胺基二苯酚合成亚胺基共聚单体；将亚胺基共聚单体与树脂共混得到光刻胶前驱体；将光刻胶前驱体和引发剂共混得到具有优秀紫外屏蔽能力和力学性能的光刻胶。本发明制备的含有亚胺基和氨酯基的亚胺基共聚单体，氨酯基提供氢键位点增加相容性，亚胺诱导形成π‑π堆积，氢键和π‑π堆积的形成使得体系从HOMO跃迁到LUMO所需能量降低，提高了聚合物的紫外屏蔽能力；亚胺与苯环共轭的刚性骨架增强了聚合物的强度；分子间的弱相互作用增加聚合物能量耗散能力，光刻胶固化成型后具有优异的紫外屏蔽性能和力学性能，具有非常广泛的应用前景。