基本信息:
- 专利标题： 均匀面阵恒定束宽线性约束最小方差波束形成方法及装置
- 申请号：CN202510013946.X 申请日：2025-01-06
- 公开(公告)号：CN119544016A 公开(公告)日：2025-02-28
- 发明人： 须彬彬 , 佘超 , 蒋志颀
- 申请人： 公安部第一研究所
- 申请人地址： 北京市海淀区首都体育馆南路一号
- 专利权人： 公安部第一研究所
- 当前专利权人： 公安部第一研究所
- 当前专利权人地址： 北京市海淀区首都体育馆南路一号
- 代理机构： 北京君琅知识产权代理有限公司
- 代理人： 周燕
- 主分类号： H04B7/06
- IPC分类号： H04B7/06 ; G10L21/0216
摘要：
本发明公开了一种均匀面阵恒定束宽线性约束最小方差波束形成方法及装置，利用平面阵列权值矩阵可表示为两级子阵权值矩阵二维卷积形式的性质，分别单独设计两级子阵，具备固定波束鲁棒性高、复杂度低和自适应波束干扰噪声抑制能力强的优点，同时满足了期望方向上恒定波束宽度和干扰方向上形成宽零陷抑制的要求，设计简单复杂度低，能支持实时性要求高的应用。本发明采用了二维切比雪夫加窗的恒定波束宽度固定波束方法，利用随频率调整的窗参数，不仅保持了波束宽度的恒定，还可有效控制旁瓣电平。