基本信息:
- 专利标题： 异型腔内壁蒸镀磁控溅射靶系统
- 申请号：CN202411830712.6 申请日：2024-12-12
- 公开(公告)号：CN119663206A 公开(公告)日：2025-03-21
- 发明人： 董鹏 , 王艳江 , 赵洋 , 李军
- 申请人： 上海科技大学
- 申请人地址： 上海市浦东新区华夏中路393号
- 专利权人： 上海科技大学
- 当前专利权人： 上海科技大学
- 当前专利权人地址： 上海市浦东新区华夏中路393号
- 代理机构： 上海光华专利事务所(普通合伙)
- 代理人： 许亦琳; 余明伟
- 主分类号： C23C14/35
- IPC分类号： C23C14/35 ; C23C14/24 ; C23C14/04
摘要：
本发明异型腔内壁蒸镀磁控溅射靶系统，涉及对超导加速腔体内壁溅射镀膜的高能脉冲磁控溅射领域。本发明包括适于装载超导加速腔体的真空机构、设于超导加速腔体内腔中的磁控溅射靶机构和与磁控溅射靶机构连接的驱动机构。本发明实现了环状靶材在超导加速腔体内腔中的升降，从而使等离子体能够在超导加速腔体内腔中指定的区域放电以完成对相应区域的镀膜，同时能够控制负电极电源的功率以及环状靶材的溅射时间来实现均匀镀膜，有利于控制薄膜厚度的均匀性和粘附性；此外，驱动机构具有较大行程的移动范围，能够满足对多cell超导加速腔体蒸镀薄膜的需求。