基本信息:
- 专利标题： 一种在真空系统中双面镀膜的翻转装置和镀膜方法
- 申请号：CN202411757922.7 申请日：2024-12-03
- 公开(公告)号：CN119710605A 公开(公告)日：2025-03-28
- 发明人： 金波佳 , 苏文虎 , 张剑锋 , 马红菊 , 侯晶 , 张帅 , 潘峰 , 朱玉洁 , 王震
- 申请人： 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
- 申请人地址： 四川省成都市武侯区科园1路3号
- 专利权人： 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
- 当前专利权人： 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
- 当前专利权人地址： 四川省成都市武侯区科园1路3号
- 代理机构： 四川中代知识产权代理有限公司
- 代理人： 陈晓静
- 主分类号： C23C14/50
- IPC分类号： C23C14/50 ; C23C16/458
摘要：
本发明提供了一种在真空系统中双面镀膜的翻转装置和镀膜方法，属于半导体晶圆镀膜技术领域。包括箱体、闸门、轨道组件以及夹持组件；箱体具有相互连通的镀膜腔体和翻转腔体，镀膜腔体用于安装镀膜器件；闸门安装于箱体以分隔镀膜腔体和翻转腔体；轨道组件安装于翻转腔体；夹持组件与轨道组件导向配合，以在镀膜腔体和翻转腔体之间往复移动，夹持组件用于夹取位于镀膜腔体中的样品，并将样品移动至翻转腔体中翻面。本发明通过设置样品在翻转腔体中翻面，镀膜腔体和翻转腔体连通，避免在镀膜过程中将样品取出翻面导致样品被污染的情况出现；并且，由于不需要在镀膜腔体中翻面，可适当缩小镀膜腔体的尺寸，从而提高对镀膜腔体的抽真空效率。