
基本信息:
- 专利标题: 一种直写设备的剂量控制系统及控制方法
- 申请号:CN202510178418.X 申请日:2025-02-18
- 公开(公告)号:CN120178609A 公开(公告)日:2025-06-20
- 发明人: 李杰 , 刘让周 , 刘鹏 , 盛开宇 , 毛源豪
- 申请人: 中国电子科技集团公司第四十八研究所
- 申请人地址: 湖南省长沙市天心区新开铺路1025号
- 专利权人: 中国电子科技集团公司第四十八研究所
- 当前专利权人: 中国电子科技集团公司第四十八研究所
- 当前专利权人地址: 湖南省长沙市天心区新开铺路1025号
- 代理机构: 湖南兆弘专利事务所(普通合伙)
- 代理人: 廖元宝
- 主分类号: G03F7/20
- IPC分类号: G03F7/20 ; H01L21/67 ; G06F9/30
摘要:
本发明公开了一种直写设备的剂量控制系统及控制方法,系统包括曝光指令产生模块,用于产生曝光控制指令;前级数据缓冲模块用于缓存曝光控制指令数据;曝光时钟预处理模块,用于读取曝光控制指令数据,如果在曝光控制指令数据中读到曝光时钟调整指令,则控制时钟调整模块输出需求频率的时钟;后级数据缓冲模块用于缓存曝光控制指令数据;状态寄存器模块用于保存时钟调整状态值;时钟调整模块用于输出需求频率的时钟;时钟选择模块用于输出时钟;指令执行模块用于读取并执行曝光控制指令数据,将指令执行结果更新到输出控制接口模块;输出控制接口模块用于接收控制值并实现物理接口的输出更新。本发明具有低成本、高精度等优点。