基本信息:
- 专利标题： 防护薄膜框架、防护薄膜及包括其的装置及系统
- 申请号：CN202121082154.1 申请日：2021-05-20
- 公开(公告)号：CN215932363U 公开(公告)日：2022-03-01
- 发明人： 簗瀬优
- 申请人： 信越化学工业株式会社
- 申请人地址： 日本东京千代田区大手町二丁目6番1号(邮编:100-0004)
- 专利权人： 信越化学工业株式会社
- 当前专利权人： 信越化学工业株式会社
- 当前专利权人地址： 日本东京千代田区大手町二丁目6番1号(邮编:100-0004)
- 代理机构： 北京同立钧成知识产权代理有限公司
- 代理人： 杨贝贝; 臧建明
- 优先权： 2020-097943 20200604 JP
- 主分类号： G03F1/64
- IPC分类号： G03F1/64
摘要：
本实用新型的课题在于提供一种减少附着于防护薄膜框架的表面的异物落下的防护薄膜框架、及使用所述框架的防护薄膜。本实用新型提供一种防护薄膜框架，其为框状的防护薄膜框架，包括防护薄膜框架本体、及被覆所述防护薄膜框架本体的绝缘层；以及提供一种防护薄膜，其包括所述防护薄膜框架、及经由粘合剂或粘接剂而设置于所述防护薄膜框架的上端面的防护薄膜膜片；且提供一种带防护薄膜的曝光原版、曝光装置、曝光系统、半导体的制造系统及液晶显示板的制造系统。