基本信息:
- 专利标题： 移载系统以及移载机
- 申请号：CN202122341476.X 申请日：2021-09-27
- 公开(公告)号：CN216624316U 公开(公告)日：2022-05-27
- 发明人： 山冈裕 , 仲田悟基 , 植森信隆 , 斋藤刚 , 小沢周作 , 佐藤伸一 , 宇佐美健人 , 仓田昌実 , 佐藤正彦 , 阿部司 , 野口毅
- 申请人： 信越化学工业株式会社
- 申请人地址： 日本东京千代田区大手町二丁目6番1号(邮递区号:100-0004)
- 专利权人： 信越化学工业株式会社
- 当前专利权人： 信越化学工业株式会社
- 当前专利权人地址： 日本东京千代田区大手町二丁目6番1号(邮递区号:100-0004)
- 代理机构： 北京同立钧成知识产权代理有限公司
- 代理人： 贺财俊; 臧建明
- 优先权： 2020-163943 20200929 JP
- 主分类号： H01L33/48
- IPC分类号： H01L33/48 ; H01L21/68 ; H01L21/683
摘要：
本实用新型涉及一种移载系统以及移载机。即：针对排列于第一基板上的元件，一边修正其位置偏移一边使用激光光向第二基板移载。获取第一基板上的元件的实际位置信息，按照基于可容许的位置偏移量所决定的基准进行分组，以各组为单位，以元件的位置限制于可容许的位置偏移量的范围内的方式修正第一基板的位置，从第一基板的背面照射激光而向第二基板移载元件。由此，可针对每个组一边进行位置偏移量的修正一边移载元件，由此具有下述效果，即：可高速制作所移载的所有元件的位置精度在可容许的位置偏移量以内的第二基板。