基本信息:
- 专利标题： 制膜系统及制膜装置
- 申请号：CN202220401629.7 申请日：2022-02-28
- 公开(公告)号：CN218089887U 公开(公告)日：2022-12-20
- 发明人： 桥上洋
- 申请人： 信越化学工业株式会社
- 申请人地址： 日本东京千代田区丸之内一丁目4番1号(邮编:100-0005)
- 专利权人： 信越化学工业株式会社
- 当前专利权人： 信越化学工业株式会社
- 当前专利权人地址： 日本东京千代田区丸之内一丁目4番1号(邮编:100-0005)
- 代理机构： 北京同立钧成知识产权代理有限公司
- 代理人： 董建姣; 刘芳
- 优先权： 2021-032594 20210302 JP
- 主分类号： C30B25/14
- IPC分类号： C30B25/14 ; C30B29/16 ; C23C16/448 ; C23C16/455 ; C23C16/44 ; C23C16/40
摘要：
本实用新型是一种可制成能够更容易均匀地形成高品质的膜的制膜系统与制膜装置，包括：将原料溶液雾化而形成原料雾的机构；将原料雾与载气混合而形成混合气的机构；载台，载置基体；将混合气从混合气供给单元供给至基体并在基体上进行制膜的机构；对制膜后的混合气进行排气的机构；通道板，以隔着空间与基体相向的方式配置于基体上；以及凸部，以遮挡混合气的气流偏离从混合气供给单元朝向排气单元的方向的方式形成于通道板的一部分和/或载台的一部分，通道板与凸部以形成比通道板与基体之间的空间中的最短距离d1小的宽度d2的空隙的方式配置。