1 |
H01L半导体器件;其他类目未包含的电固体器件
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142 |
2 |
C07C无环或碳环化合物
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118 |
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C08L高分子化合物的组合物
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106 |
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H01B电缆;导体;绝缘体;导电、绝缘或介电材料的选择
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97 |
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B01J化学或物理方法,例如,催化作用、胶体化学;其有关设备
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96 |
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C08F仅用碳—碳不饱和键反应得到的高分子化合物
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91 |
7 |
C09D涂料组合物,例如色漆、清漆、天然漆;填充浆料;化学涂料或油墨的去除剂;油墨;改正液;木材着色剂;用于着色或印刷的浆料或固体;原料为此的应用
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90 |
8 |
C07D杂环化合物
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89 |
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C08G用碳—碳不饱和键以外的反应得到的高分子化合物
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58 |
10 |
C09K不包含在其他类目中的各种应用材料;不包含在其他类目中的材料的各种应用
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51 |
11 |
A61K医用、牙科用或梳妆用的配制品
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12 |
C03C玻璃、釉或搪瓷釉的化学成分;玻璃的表面处理;由玻璃、矿物或矿渣制成的纤维或细丝的表面处理;玻璃与玻璃或与其他材料的接合
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45 |
13 |
C09J黏合剂;一般黏合方法(非机械部分);其他类目不包括的黏合方法;黏合剂材料的应用
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45 |
14 |
B32B层状产品,即由扁平的或非扁平的薄层,例如泡沫状的、蜂窝状的薄层构成的产品
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H01M用于直接转变化学能为电能的方法或装置,例如电池组
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16 |
B41M印刷、复制、标记或拷贝工艺;彩色印刷
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17 |
G03F图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
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18 |
C04B石灰;氧化镁;矿渣;水泥;其组合物,例如砂浆、混凝土或类似的建筑材料;人造石;陶瓷;耐火材料;天然石的处理
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19 |
C08J加工;配料的一般工艺过程;不包括在C08B,C08C,C08F,C08G或C08H小类中的后处理
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C01B非金属元素;其化合物
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