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91. 发明专利

TW200736183A 摻雜二氧化鈦之石英玻璃,EUV微影用構件,EUV微影用光罩基板及摻雜二氧化鈦之石英玻璃的製造方法审中-公开
简体标题：掺杂二氧化钛之石英玻璃,EUV微影用构件,EUV微影用光罩基板及掺杂二氧化钛之石英玻璃的制造方法
公开(公告)号：TW200736183A
公开(公告)日：2007-10-01
申请号：TW095145693
申请日：2006-12-07
申请人：信越化學工業股份有限公司 SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
发明人：每田繁 MAIDA, SHIGERU , 山田素行 YAMADA, MOTOYUKI
IPC分类号： C03C , G03F , C03B
CPC分类号： C03B19/1407 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , C03B19/1415 , C03B19/1446 , C03B19/1453 , C03B19/1484 , C03B2201/42 , C03C3/06 , C03C2201/11 , C03C2201/21 , C03C2201/23 , C03C2201/42 , G03F1/24 , G03F1/60 , G21K2201/067
摘要：【解決手段】含有3~12質量%之二氧化鈦,該二氧化鈦之濃度梯度為0.01質量%/��m以下,且厚度為6.35mm之於波長440nm中的表觀穿透率為30%以上為其特徵之摻雜二氧化鈦之石英玻璃。【效果】可提供予以EUV微影用光罩基板等之EUV微影用構件所要求之高表面精細度之均質性高之摻雜二氧化鈦之石英玻璃,由摻雜二氧化鈦之石英玻璃所構成之EUV微影用光罩基板等之EUV微影用構件為平坦度和熱膨脹特性優良者。
简体摘要：【解决手段】含有3~12质量%之二氧化钛,该二氧化钛之浓度梯度为0.01质量%/��m以下,且厚度为6.35mm之于波长440nm中的表观穿透率为30%以上为其特征之掺杂二氧化钛之石英玻璃。【效果】可提供予以EUV微影用光罩基板等之EUV微影用构件所要求之高表面精细度之均质性高之掺杂二氧化钛之石英玻璃,由掺杂二氧化钛之石英玻璃所构成之EUV微影用光罩基板等之EUV微影用构件为平坦度和热膨胀特性优良者。

92. 发明专利

TWI247196B 減小條紋極紫外線元件 REDUCED STRIAE EXTREME ULTRAVIOLET ELEMENTS 有权
简体标题：减小条纹极紫外线组件 REDUCED STRIAE EXTREME ULTRAVIOLET ELEMENTS
公开(公告)号：TWI247196B
公开(公告)日：2006-01-11
申请号：TW092105046
申请日：2003-03-04
申请人：康寧公司 CORNING INCORPORATED
发明人：肯尼埃德哈迪納 KENNETH E. HRDINA , 貝耐特里昂麥林 BRENT RYAN MCLEAN , 詹埃得馬克松 JOHN EDWARD MAXON
IPC分类号： G03F
CPC分类号： B82Y10/00 , B82Y40/00 , C03B19/1446 , C03B19/1484 , C03B2201/42 , C03B2207/62 , C03B2207/66 , C03C3/06 , C03C4/0085 , C03C2201/42 , C03C2203/40 , G03F1/24 , G03F7/70958
摘要：本發明揭示出含有具有低條紋值之氧化鈦矽石玻璃物體以及極紫外線元件。本發明亦揭示出製造以及在玻璃元件以及極紫外線元件中量測條紋之方法以及裝置。
简体摘要：本发明揭示出含有具有低条纹值之氧化钛硅石玻璃物体以及极紫外线组件。本发明亦揭示出制造以及在玻璃组件以及极紫外线组件中量测条纹之方法以及设备。

93. 发明专利

JP5248092B2 Apparatus and method for manufacturing a synthetic silica glass of synthetic silica glass 有权
公开(公告)号：JP5248092B2
公开(公告)日：2013-07-31
申请号：JP2007309145
申请日：2007-11-29
申请人：コバレントマテリアル株式会社 , コバレントマテリアル徳山株式会社
发明人：孝千々松 , 護山門 , 亜紀早川 , 誠二岩井 , 稔夫中島 , 浩人生野
IPC分类号： C03B20/00 , C03B8/04
CPC分类号： C03B19/1446 , C03B19/1407 , C03B19/1484

94. 发明专利

JP5102591B2 Apparatus for producing a synthetic silica glass 有权
公开(公告)号：JP5102591B2
公开(公告)日：2012-12-19
申请号：JP2007309148
申请日：2007-11-29
申请人：コバレントマテリアル株式会社 , コバレントマテリアル徳山株式会社
发明人：孝千々松 , 護山門 , 亜紀早川 , 誠二岩井 , 稔夫中島 , 浩人生野
IPC分类号： C03B8/04 , C03B20/00
CPC分类号： C03B19/1407 , C03B19/1446 , C03B19/1484

95. 发明专利

JP5035516B2 Method of manufacturing a titania-doped quartz glass for photomasks 有权
公开(公告)号：JP5035516B2
公开(公告)日：2012-09-26
申请号：JP2006318172
申请日：2006-11-27
申请人：信越化学工業株式会社
发明人：素行山田 , 繁毎田
IPC分类号： C03C3/06 , C03B8/04 , C03B20/00 , C03C3/076 , G03F1/24 , G03F1/68
CPC分类号： C03B19/1407 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , C03B19/1415 , C03B19/1446 , C03B19/1453 , C03B19/1484 , C03B2201/42 , C03C3/06 , C03C2201/11 , C03C2201/21 , C03C2201/23 , C03C2201/42 , G03F1/24 , G03F1/60 , G21K2201/067

96. 发明专利

JP2012042966A Low striation extreme ultraviolet optical element 审中-公开
标题翻译：低压极限超紫外线光学元件
公开(公告)号：JP2012042966A
公开(公告)日：2012-03-01
申请号：JP2011205771
申请日：2011-09-21
申请人： Corning Inc , コーニングインコーポレイテッド
发明人： HRDINA KENNETH E , JOHN E MAXSON , MCLEAN BRENT R
IPC分类号： G02B1/00 , G02B5/08 , C03B8/04 , C03B19/14 , C03B20/00 , C03C3/06 , C03C4/00 , G03F1/24 , G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号： B82Y10/00 , B82Y40/00 , C03B19/1446 , C03B19/1484 , C03B2201/42 , C03B2207/62 , C03B2207/66 , C03C3/06 , C03C4/0085 , C03C2201/42 , C03C2203/40 , G03F1/24 , G03F7/70958
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an extreme ultraviolet optical element having a low-level striation; and to provide a glass boule for manufacturing the extreme ultraviolet optical element.SOLUTION: This low striation extreme ultraviolet optical element includes silica-titania glass having a polished and shaped surface and having a crest-to-trough striation level smaller than 0.2 MPa, and the glass contains titania in the range of 5-10 wt.%. The glass has a coefficient of thermal expansion (CTE) within a range of +30 ppb/°C to -30 ppb/°C at a temperature between 20-35°C.
摘要翻译：要解决的问题：提供具有低水平条纹的极紫外光学元件; 并提供用于制造极紫外光学元件的玻璃杯。
解决方案：该低条纹极紫外光学元件包括具有抛光和成形表面并且具有小于0.2MPa的波峰至槽条纹水平的二氧化硅 - 二氧化钛玻璃，并且玻璃含有5-10重量级的二氧化钛重量％。在20-35℃的温度下，玻璃的热膨胀系数（CTE）在+ 30ppb /℃至-30ppb /℃的范围内。版权所有（C）2012，JPO＆INPIT

97. 发明专利

JP4668890B2 Synthetic silica glass manufacturing equipment, synthetic silica glass manufacturing method 有权
公开(公告)号：JP4668890B2
公开(公告)日：2011-04-13
申请号：JP2006328125
申请日：2006-12-05
申请人：コバレントマテリアル徳山株式会社 , コバレントマテリアル株式会社
发明人：稔夫中島 , 孝千々松 , 護山門 , 誠二岩井 , 亜紀早川 , 定弘足立
IPC分类号： C03B8/04 , C03B20/00
CPC分类号： C03B19/1407 , C03B19/1446

98. 发明专利

JP2011020895A Method for manufacturing synthetic quartz glass 有权
标题翻译：制造合成石英玻璃的方法
公开(公告)号：JP2011020895A
公开(公告)日：2011-02-03
申请号：JP2009167780
申请日：2009-07-16
申请人： Shin-Etsu Chemical Co Ltd , 信越化学工業株式会社
发明人： OTSUKA HISATOSHI , SHIROTA KAZUO , SEKIZAWA OSAMU , FURUKAWA YASUMASA , OSHIMA TAKASHI
IPC分类号： C03B8/04 , C03B20/00 , G02B1/00 , G03F1/60
CPC分类号： C03B19/1446
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for manufacturing synthetic quartz glass that can prevent unfixed floating soot from adhering to a melt growth face of an ingot and prevent bubbles from generating in the growing quartz glass and reduce the flow rate of oxygen and hydrogen gases supplied from a burner and thus improve energy efficiency. SOLUTION: A raw material to form quartz glass is supplied into a high-temperature flame gas region formed by the burner. The synthetic quartz glass is manufactured from the quartz soot that is generated from the raw material to form quartz glass. A surrounding jacket to surround both the whole burner and a growth part of the synthetic quartz glass as well as a gas-exhausting tunnel to cover the surrounding jacket and to surround both the downstream part of the high-temperature flame gas region and the growth part of the synthetic quartz glass are installed. A gas for discharging the floating soot flows through the surrounding jacket and the gas-exhausting tunnel in the direction of discharging the floating soot. The high-temperature flame gas containing the floating soot is thus discharged along with the gas for discharging the floating soot. COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT
摘要翻译：要解决的问题：提供一种制造合成石英玻璃的方法，其可以防止未固定的浮动烟灰附着在锭的熔融生长面上，并防止在生长的石英玻璃中产生气泡并降低氧气的流速和从燃烧器供应的氢气，从而提高能量效率。解决方案：将形成石英玻璃的原料供应到由燃烧器形成的高温火焰气体区域中。合成石英玻璃由原料生成的石英烟灰制成石英玻璃。环绕护套围绕整个燃烧器和合成石英玻璃的生长部分，以及用于覆盖周围护套并且围绕高温火焰气体区域的下游部分和生长部分的排气通道的合成石英玻璃。用于排出浮动烟灰的气体沿着排出浮动烟灰的方向流过周围的夹套和排气通道。因此，含有浮动烟灰的高温火焰气体与用于排出浮动烟灰的气体一起排出。版权所有（C）2011，JPO＆INPIT

99. 发明专利

JP2009132551A Manufacturing apparatus of synthetic silica glass 有权
标题翻译：合成二氧化硅玻璃的制造装置
公开(公告)号：JP2009132551A
公开(公告)日：2009-06-18
申请号：JP2007309148
申请日：2007-11-29
申请人： Covalent Materials Corp , Covalent Materials Tokuyama Corp , コバレントマテリアル徳山株式会社 , コバレントマテリアル株式会社
发明人： CHIJIMATSU TAKASHI , YAMAKADO MAMORU , HAYAKAWA AKI , IWAI SEIJI , NAKAJIMA TOSHIO , IKUNO HIROTO
IPC分类号： C03B8/04 , C03B20/00
CPC分类号： C03B19/1407 , C03B19/1446 , C03B19/1484
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a manufacturing apparatus of synthetic silica glass which can manufacture synthetic silica glass without containing striae and without the internal defect. SOLUTION: The manufacturing apparatus of synthetic silica glass is one that is provided with a furnace body 2, a discharge port 5a located in the furnace body 2, a discharge means 9 connected to the discharge port, a target 6 for forming an ingot and rotatably installed within the furnace body, and a burner 7 for synthesizing silica glass that is located so that the tip of it is facing to the target 6, wherein the furnace body 2 is provided with a muffle 3 made of a refractory at the top of which the burner 7 for synthesizing silica glass is installed, a first furnace part 4 located below the muffle 3 and having a diameter larger than the inner diameter of the muffle 3, and a second furnace part 5 located below the first furnace part 4 and having a diameter larger than the inner diameter of the first furnace part 4. COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT
摘要翻译：要解决的问题：提供一种合成石英玻璃的制造装置，其可以制造不含条纹并且没有内部缺陷的合成石英玻璃。解决方案：合成石英玻璃的制造装置是设置有炉体2，位于炉体2中的排出口5a，与排出口连接的排出装置9，用于形成并且可旋转地安装在炉体内，以及用于合成二氧化硅玻璃的燃烧器7，其位于使其尖端面向靶6，其中炉体2在炉体2处设置有由耐火材料制成的马弗管3 其顶部安装有用于合成石英玻璃的燃烧器7，位于马弗管3下方并且具有大于马弗管3的内径的直径的第一炉部分4和位于第一炉部分4下方的第二炉部分5 并且其直径大于第一炉部分4的内径。版权所有（C）2009，JPO＆INPIT

100. 发明专利

JP2009013034A Apparatus for producing base material for synthetic quartz glass and method for producing base material for synthetic quartz glass by using the same 有权
标题翻译：用于生产合成石英玻璃的基材的装置及其制造用于合成石英玻璃的基材的方法
公开(公告)号：JP2009013034A
公开(公告)日：2009-01-22
申请号：JP2007179939
申请日：2007-07-09
申请人： Nikon Corp , 株式会社ニコン
发明人： YAMAZAKI MASAYUKI
IPC分类号： C03B8/04 , C03B20/00
CPC分类号： C03B19/1407 , C03B19/1446
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an apparatus for producing a base material for synthetic quartz glass, in which glass fine particles not caught on the accumulating/growing surface of a soot body (an accumulated intermediate) can be sufficiently prevented from being accumulated on the wall of a synthesis furnace and secondary particles can be sufficiently prevented from being taken in the accumulating/growing surface of the soot body.
SOLUTION: The apparatus for producing the base material for synthetic quartz glass is provided with: the hollow synthesis furnace 10; a burner 11 for jetting a silicon compound and combustion gas into the synthesis furnace 10 to form a flame; a target 12 for accumulating glass fine particles produced in the flame to form the accumulated intermediate (the soot body) 13; a discharge port 14 formed on the ceiling surface of the synthesis furnace 10; and an air supply port 15 formed around the arranged part of the burner 11 of the synthesis furnace 10.
COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT
摘要翻译：要解决的问题：提供一种用于生产合成石英玻璃基材的设备，其中可以充分防止未被捕获在烟灰体的累积/生长表面上的玻璃细颗粒（累积的中间体）成为积聚在合成炉的壁上，可以充分防止二次颗粒被吸入烟灰体的积聚/生长表面。解决方案：用于生产合成石英玻璃基材的设备设有：中空合成炉10; 用于将硅化合物和燃烧气体喷射到合成炉10中以形成火焰的燃烧器11; 用于积聚在火焰中产生的玻璃微粒以形成积聚的中间体（烟灰体）13的靶12; 形成在合成炉10的顶面上的排出口14; 以及形成在合成炉10的燃烧器11的配置部分周围的供气口15.版权所有（C）2009，JPO＆INPIT

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