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1. 发明公开

CN1407952A 从酸性水溶液中分离化合物的方法无效
公开(公告)号：CN1407952A
公开(公告)日：2003-04-02
申请号：CN00816656.0
申请日：2000-06-20
申请人：康宁股份有限公司
发明人： S·A·邓伍迪 , L·蒋 , D·R·鲍尔斯 , F·G·普林斯
IPC分类号： C03B37/014 , B01D53/64 , C03B37/018
CPC分类号： B01D53/64 , C03B19/1446 , C03B37/0144 , C03B37/01846 , C03B2201/31
摘要：披露了一种从包含蒸气态或颗粒状的含锗化合物、蒸气态的酸和水蒸汽的气态混合物中回收锗的方法。将气态混合物与含水的液体接触，使得含锗化合物能有效地溶解在液体中。提高所得混合物的酸度，使得能有效地蒸发含锗化合物。将蒸发的含锗化合物与一种或多种水溶液接触，使得能有效地将含锗化合物溶解和沉淀在一种或多种水溶液的至少一种水溶液中，而后从该一种或多种水溶液的至少一种水溶液中分离出所得的沉淀。在此所述的方法特别很好地适用于从光波导制造过程中产生的废气中回收锗。由该方法回收的锗以后可用于制造半导体、光波导纤维和光学组件。

2. 发明公开

CN104470864A 形成低颗粒缺陷玻璃薄片的静电方法和设备无效
公开(公告)号：CN104470864A
公开(公告)日：2015-03-25
申请号：CN201380026599.X
申请日：2013-05-20
申请人：康宁股份有限公司
发明人： D·W·霍托夫 , B·A·诺尔 , S·维姆利
IPC分类号： C03B19/14
CPC分类号： C03B19/1446 , C03B19/1423 , C03B19/1492 , Y02P40/57 , Y10T428/24355 , Y10T428/268 , C03B19/1407
摘要：使用辊到辊玻璃烟炱沉积和烧结法形成高表面质量的玻璃片。玻璃片的形成包括提供玻璃烟炱颗粒(150)，将第一部分的玻璃烟炱颗粒沉积到沉积表面(122)上以形成支撑烟炱层(152)，用烟炱收集装置(125)将第二部分的玻璃烟炱颗粒静电吸引并收集到带电板的表面上，从沉积表面上去除烟炱层以形成烟炱片(154)，以及对至少部分烟炱片进行加热，以烧结玻璃烟炱颗粒从而形成玻璃片。

3. 发明公开

CN1811649A 微正压控制合成石英玻璃反应器失效
公开(公告)号：CN1811649A
公开(公告)日：2006-08-02
申请号：CN200610000261.9
申请日：2006-01-10
申请人：中国建筑材料科学研究院
发明人：顾真安 , 张向锋 , 饶传东
IPC分类号： G05D16/20 , C03B19/14
CPC分类号： C03B19/1407 , C03B19/1446
摘要：本发明公开了一种微正压控制合成石英玻璃反应器，包括一封闭炉体，置于炉体中的基础杆和基础杆端头的沉积砣面，炉体上部设向沉积砣面投料的燃烧器，下部设排风通道，其中，排风通道中设有闸板，排风通道连接排风风机；炉体上部还设一连通炉体内部和外界的测试管，测试管炉外端的一支通过阀门连通氮气管，另一支依次连通一过滤器和通过一软细气管连通一差压变送器，差压变送器电连接一控制单元，控制单元电控制排风风机。本发明能实时检测炉膛的微正压值，实时控制入口和出口气体的流量和流速，使炉膛气氛保持1.5－3mm水柱的微正压，从而提高沉积效率和沉积速率，减少料的损耗，提高合成石英玻璃锭的产品质量，降低能耗。

4. 发明公开

CN106810056A 一种高纯石英生产装置有权转让
公开(公告)号：CN106810056A
公开(公告)日：2017-06-09
申请号：CN201710166298.7
申请日：2017-03-20
申请人：无锡市孚艾科技有限公司
发明人：单兰英
IPC分类号： C03B20/00 , C03B19/14 , B01D46/00 , B01D53/00
CPC分类号： C03B19/1407 , C03B19/1423 , B01D46/00 , B01D53/00 , B01D2257/2045 , C03B19/1446
摘要：本发明提供一种高纯石英生产装置，包括反应炉和塔体：由内而外由炉膛、隔热层、保温层及金属材料制作而成的炉罩组成，炉膛设有至少1个炉膛排气口，所述炉膛排气口穿过隔热层、保温层及炉座；炉顶设有炉顶进气口、炉顶排气口；所述炉顶排气口位置等于或高于炉顶进气口位置，且位于炉顶的两侧；炉膛排气口以及所述炉顶排气口分别连接到废气处理装置；塔体设置在所述炉膛的底部；包括垂直设置在地面上的塔体支架，设置在塔体支架一侧的导轨，设置在导轨上的基座，基座能够在电机的作用下，沿所述导轨上下移动；基座上设有产品座，产品座能够在电机的作用下，在基座上移动和旋转，本发明的生产装置能够有效地避免外界的污染以及生产过程中废气的安全处理。

5. 发明授权

US07585598B2 Titania-doped quartz glass and making method, EUV lithographic member and photomask substrate 有权
标题翻译：二氧化钛掺杂石英玻璃和制备方法，EUV光刻元件和光掩模基板
公开(公告)号：US07585598B2
公开(公告)日：2009-09-08
申请号：US11634270
申请日：2006-12-06
申请人： Shigeru Maida , Motoyuki Yamada
发明人： Shigeru Maida , Motoyuki Yamada
IPC分类号： G03F1/00 , C03C3/06 , G02B1/00
CPC分类号： C03B19/1407 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , C03B19/1415 , C03B19/1446 , C03B19/1453 , C03B19/1484 , C03B2201/42 , C03C3/06 , C03C2201/11 , C03C2201/21 , C03C2201/23 , C03C2201/42 , G03F1/24 , G03F1/60 , G21K2201/067
摘要： A titania-doped quartz glass containing 3-12 wt % of titania at a titania concentration gradient less than or equal to 0.01 wt %/μm and having an apparent transmittance to 440 nm wavelength light of at least 30% at a thickness of 6.35 mm is of such homogeneity that it provides a high surface accuracy as required for EUV lithographic members, typically EUV lithographic photomask substrates.
摘要翻译：在二氧化钛浓度梯度小于或等于0.01重量％/重量的情况下，含有3-12重量％的二氧化钛的二氧化钛掺杂的石英玻璃，并且对于440nm波长具有至多30％的表观透射率，厚度为6.35mm 具有这样的同质性，其提供了EUV光刻元件（通常为EUV光刻光掩模基板）所需的高表面精度。

6. 发明授权

US06238462B1 Methods for the separation of compounds from acidic aqueous solutions 有权
标题翻译：从酸性水溶液中分离化合物的方法
公开(公告)号：US06238462B1
公开(公告)日：2001-05-29
申请号：US09353202
申请日：1999-07-14
申请人： Steven A. Dunwoody , Lei Jiang , Dale R. Powers , Freddie G. Prince
发明人： Steven A. Dunwoody , Lei Jiang , Dale R. Powers , Freddie G. Prince
IPC分类号： B01D5314
CPC分类号： B01D53/64 , C03B19/1446 , C03B37/0144 , C03B37/01846 , C03B2201/31
摘要： A method is disclosed for recovering germanium from a gaseous mixture which includes a germanium-containing compound in vapor or particulate form, acid in vapor form, and water vapor. The gaseous mixture is contacted with a liquid containing water under conditions effective to dissolve the germanium-containing compound in the liquid. The acidity of the resulting liquid mixture is increased under conditions effective to vaporize the germanium-containing compound. The vaporized germanium-containing compound is contacted with one or more aqueous solutions under conditions effective to dissolve and precipitate the germanium-containing compound in at least one of the one or more aqueous solutions, and the resulting precipitate is separated from the at least one of the one or more aqueous solutions. The methods described herein are particularly well suited for recovering germanium from the waste gases produced during optical waveguide manufacturing processes. Germanium recovered by this method can thereafter be used in the production of semiconductors, optical waveguide fibers and optical components.
摘要翻译：公开了一种用于从气体混合物中回收锗的方法，所述气体混合物包括蒸气或颗粒形式的含锗化合物，蒸汽形式的含酸化合物和水蒸气。在有效溶解含锗化合物的液体中的条件下，气态混合物与含有液体的液体接触。所得液体混合物的酸度在有效蒸发含锗化合物的条件下增加。蒸发的含锗化合物在有效溶解和沉淀至少一种一种或多种水溶液中的含锗化合物的条件下与一种或多种水溶液接触，并将所得沉淀物从至少一种一种或多种水溶液。本文描述的方法特别适用于从光波导制造过程中产生的废气中回收锗。然后通过该方法回收的锗可以用于半导体，光波导纤维和光学部件的制造。

7. 再颁专利

USRE40586E1 Reduced striae extreme ultra violet elements 有权
标题翻译：减少条纹极端的紫外线元素
公开(公告)号：USRE40586E1
公开(公告)日：2008-11-25
申请号：US11880424
申请日：2007-07-20
申请人： Kenneth E. Hrdina , John E. Maxon , Brent R. Mclean
发明人： Kenneth E. Hrdina , John E. Maxon , Brent R. Mclean
IPC分类号： C03C3/06 , C03C3/076 , G21K1/06 , G02B5/08 , G02B5/10
CPC分类号： B82Y10/00 , B82Y40/00 , C03B19/1446 , C03B19/1484 , C03B2201/42 , C03B2207/62 , C03B2207/66 , C03C3/06 , C03C4/0085 , C03C2201/42 , C03C2203/40 , G03F1/24 , G03F7/70958
摘要： Titania-containing silica glass bodies and extreme ultraviolet elements having low levels of striae are disclosed. Methods and apparatus for manufacturing and measuring striae in glass elements and extreme ultraviolet elements are also disclosed.
摘要翻译：公开了含有二氧化钛的二氧化硅玻璃体和具有低水平条纹的极紫外线元件。还公开了用于制造和测量玻璃元件和极紫外元件中的条纹的方法和装置。

8. 发明申请

US20020028300A1 Manufacturing method of optical waveguide 审中-公开
标题翻译：光波导的制造方法
公开(公告)号：US20020028300A1
公开(公告)日：2002-03-07
申请号：US09852139
申请日：2001-05-09
发明人： Takuya Komatsu , Kazutaka Nara , Kazuhisa Kashihara
IPC分类号： B05D005/06 , B05D003/08
CPC分类号： C03B19/1446 , C23C16/4412 , C23C16/453 , Y02P40/57
摘要： The invention provides a manufacturing method of an optical waveguide able to precisely manufacture the optical waveguide having a waveguide construction as designed, and improve yield as one example. In this manufacturing method, a hydrolysis reaction of raw material gas of glass is caused within an oxygen-hydrogen flame by flowing the raw material gas, oxygen gas and hydrogen gas from a burner, and an optical waveguide forming area is formed by depositing glass particulates on a substrate. The oxygen-hydrogen flame is injected toward the optical waveguide forming area in a slanting direction on the substrate. An exhaust pipe is arranged on the discharging side of an injecting flow. Surplus glass particulates unattached to the optical waveguide forming area are sucked and exhausted by the exhaust pipe. The surplus glass particulates are sucked and exhausted by the exhaust pipe by inclining a suction port side of the exhaust pipe by an angle within a range from 5null to 30null with respect to a face of the substrate.
摘要翻译：本发明提供一种光波导的制造方法，其能够精确地制造具有设计的波导结构的光波导，并且作为一个示例提高产量。在该制造方法中，通过使来自燃烧器的原料气体，氧气和氢气流动而在氧 - 氢火焰内引起玻璃原料气体的水解反应，并且通过沉积玻璃微粒形成光波导形成区域在基板上。在基板上沿着倾斜方向朝向光波导形成区域注入氧 - 氢火焰。排气管布置在喷射流的排放侧。未连接到光波导形成区域的剩余玻璃微粒被排气管吸引并排出。通过使排气管的吸入口侧相对于基板的表面倾斜5°〜30°的范围内的角度，将多余的玻璃微粒吸引排气。

9. 发明申请

WO2006027889A1 無害化方法およびその実施に用いる設備审中-公开
标题翻译：用于实施方法的脱氧方法和设备
公开(公告)号：WO2006027889A1
公开(公告)日：2006-03-16
申请号：PCT/JP2005/012507
申请日：2005-07-06
申请人：信越化学工業株式会社 , 神尾剛 , 津村寛 , 長尾貴章
发明人：神尾剛 , 津村寛 , 長尾貴章
IPC分类号： B01D53/68 , B01D53/77 , B01D53/40
CPC分类号： B01D53/68 , B01D2251/304 , B01D2257/2025 , C03B19/1446 , C03B37/0144
摘要：　石英系ガラス微粒子を堆積させて多孔質体を製造し、塩素を含む雰囲気下で加熱処理して脱水・透明ガラス化する光ファイバ用ガラス母材または合成石英用ガラス母材の製造工程において、製造工程で発生する塩素を含む排ガスを無害化する方法であって、塩素の無害化に使用するＮａＯＨ水溶液とＮａ２Ｓ２Ｏ３水溶液を予め混合して塩素除害設備に投入する。これにより、塩素を含む排気ガスの無害化処理を容易に行うことができ、環境事故を起こすことのない排ガスの無害化方法を提供する。
摘要翻译：本发明涉及一种在用于光纤的玻璃基材的生产过程中产生的含有氯的废气的解毒方法或其中沉积石英玻璃微粒以制造多孔材料的合成石英的玻璃基材，然后在含氯气氛中进行热处理脱水和透明玻璃化。在该方法中，将NaOH水溶液和Na

10. 发明申请

WO2006085676A3 PROCESS AND APPARATUS FOR PRODUCING POROUS QUARTZ GLASS BASE 审中-公开
标题翻译：用于生产多孔石英玻璃基底的方法和装置
公开(公告)号：WO2006085676A3
公开(公告)日：2006-10-19
申请号：PCT/JP2006302595
申请日：2006-02-08
申请人： ASAHI GLASS CO LTD , IWATA KEI , UTO TAKAO , SAKUMA TAKUYA
发明人： IWATA KEI , UTO TAKAO , SAKUMA TAKUYA
IPC分类号： C03B19/14 , C03B37/014
CPC分类号： C03B19/1446 , C03B37/0144 , Y02P40/57
摘要： The present invention provides a process for producing a porous quartz glass base, which comprises hydrolyzing a silicon compound in an oxyhydrogen flame in a reaction furnace to generate and deposit fine silica particles on a starting member, thereby forming a porous quartz glass base, wherein a gas discharge pipe for discharging an unnecessary gas from the reaction furnace is heated. According to the present invention, fine silica particles can be prevented from adhering to a gas discharge pipe for discharging the unnecessary hydrogen chloride gas generated in producing a porous quartz glass base.
摘要翻译：本发明提供一种多孔石英玻璃基底的制造方法，该方法包括在反应炉中水解含氢氢火焰中的硅化合物，以在起始部件上产生并沉积二氧化硅微粒，从而形成多孔石英玻璃基底，其中，用于从反应炉排出不需要的气体的排气管被加热。根据本发明，可以防止二氧化硅微粒附着在用于排出生产多孔石英玻璃基底中产生的不必要的氯化氢气体的排气管。

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