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41. 发明专利

TWI530593B 多陽極控制裝置及具有該裝置的電鍍設備有权
简体标题：多阳极控制设备及具有该设备的电镀设备
公开(公告)号：TWI530593B
公开(公告)日：2016-04-21
申请号：TW103127528
申请日：2014-08-11
申请人：亞智科技股份有限公司 , MANZ TAIWAN LTD.
发明人：李玟澄 , LEE, WEN CHENG , 郭富強 , GUO, FU QIANG , 欒濤 , LUAN, TAO , 陳良 , CHEN, LIANG , 韓小風 , HAN, XIAO FENG , 周慶松 , CHOU, CHING SUNG
IPC分类号： C25D21/12

42. 发明专利

TW201611320A 卷對卷製程設備及其系統审中-公开
简体标题：卷对卷制程设备及其系统
公开(公告)号：TW201611320A
公开(公告)日：2016-03-16
申请号：TW103130501
申请日：2014-09-03
申请人：亞智科技股份有限公司 , MANZ TAIWAN LTD.
发明人：游柏清 , YU, PO-CHING , 陳傳宜 , CHEN, CHUAN-YI , 鄒家弘 , TSOU, CHIA-HUNG , 陳家達 , CHEN, CHIA-TA
IPC分类号： H01L31/18 , H01L31/042
CPC分类号： Y02E10/50 , Y02P70/521
摘要：本發明是一種卷對卷製程設備，適用於在一基板上進行一化學反應。基板具有相對的第一板面及第二板面。卷對卷製程設備包括一反應槽、一收捲單元、一放捲單元及一加熱裝置。反應槽設有一開口，反應槽用以容置一化學藥液。開口提供基板的第一板面與反應槽內的化學藥液接觸。收捲單元及放捲單元分別對應設置於反應槽的相對兩側。加熱裝置設置於收捲單元與放捲單元之間且對應開口。加熱裝置用以加熱基板之第二板面，使基板升溫並與化學藥液產生化學反應。
简体摘要：本发明是一种卷对卷制程设备，适用于在一基板上进行一化学反应。基板具有相对的第一板面及第二板面。卷对卷制程设备包括一反应槽、一收卷单元、一放卷单元及一加热设备。反应槽设有一开口，反应槽用以容置一化学药液。开口提供基板的第一板面与反应槽内的化学药液接触。收卷单元及放卷单元分别对应设置于反应槽的相对两侧。加热设备设置于收卷单元与放卷单元之间且对应开口。加热设备用以加热基板之第二板面，使基板升温并与化学药液产生化学反应。

43. 发明专利

TW201604331A 電鍍連結器及電鍍設備审中-公开
简体标题：电镀链接器及电镀设备
公开(公告)号：TW201604331A
公开(公告)日：2016-02-01
申请号：TW103124458
申请日：2014-07-16
申请人：亞智科技股份有限公司 , MANZ TAIWAN LTD.
发明人：周慶松 , CHOU, CHING SUNG , 郭富強 , GUO, FU QIANG , 欒濤 , LUAN, TAO , 陳良 , CHEN, LIANG , 韓小風 , HAN, XIAO FENG , 李玟澄 , LEE, WEN CHENG
IPC分类号： C25D17/16
摘要：一種電鍍連結器及電鍍設備，電鍍連結器包括一導電架、設於導電架的一導電接頭以及複數電導轉接柱，導電接頭連結一電纜，電纜具有電纜線芯，並以電纜線芯之材質的導電率為第一導電率，而導電接頭之材質的導電率為第二導電率，且電纜之最小截面積乘以第一導電率之值為被除數值，與第二導電率乘以電導轉接柱之數量之值為除數值相除後，所獲得的商數值小於或等於導電接頭之最小截面積。
简体摘要：一种电镀链接器及电镀设备，电镀链接器包括一导电架、设于导电架的一导电接头以及复数电导转接柱，导电接头链接一电缆，电缆具有电缆线芯，并以电缆线芯之材质的导电率为第一导电率，而导电接头之材质的导电率为第二导电率，且电缆之最小截面积乘以第一导电率之值为被除数值，与第二导电率乘以电导转接柱之数量之值为除数值相除后，所获得的商数值小于或等于导电接头之最小截面积。

44. 实用新型

TWM515910U 氣液混合機構與製程設備有权
简体标题：气液混合机构与制程设备
公开(公告)号：TWM515910U
公开(公告)日：2016-01-21
申请号：TW104213303
申请日：2015-08-18
申请人：亞智科技股份有限公司 , MANZ TAIWAN LTD.
发明人：梁婕歆 , LEUNG, CHIEH HSIN , 范左昀 , FAN, TSO YUN , 黃進堂 , HUANG, CHIN TANG
IPC分类号： B01F3/04 , H01L21/00

45. 外观设计

TWD173263S 陽極網(二) 有权
简体标题：阳极网(二)
公开(公告)号：TWD173263S
公开(公告)日：2016-01-21
申请号：TW104302994
申请日：2014-08-27
申请人：亞智科技股份有限公司 , MANZ TAIWAN LTD.
设计人：李玟澄 , LEE,WEN CHENG , 郭富強 , GUO,FU QIANG , 欒濤 , LUAN,TAO , 陳良 , CHEN,LIANG , 韓小風 , HAN,XIAO FENG , 周慶松 , CHOU,CHING SUNG

46. 外观设计

TWD172902S 陽極網(一) 有权
简体标题：阳极网(一)
公开(公告)号：TWD172902S
公开(公告)日：2016-01-01
申请号：TW103305010
申请日：2014-08-27
申请人：亞智科技股份有限公司 , MANZ TAIWAN LTD.
设计人：李玟澄 , LEE, WEN CHENG , 郭富強 , GUO, FU QIANG , 欒濤 , LUAN, TAO , 陳良 , CHEN, LIANG , 韓小風 , HAN, XIAO FENG , 周慶松 , CHOU, CHING SUNG

47. 发明专利

TW201508090A 基板轉移暨處理系統及其設備审中-公开
简体标题：基板转移暨处理系统及其设备
公开(公告)号：TW201508090A
公开(公告)日：2015-03-01
申请号：TW102131318
申请日：2013-08-30
申请人：亞智科技股份有限公司
发明人：陳傳宜 , CHEN, CHUAN YI , 游柏清 , YU, PO CHING , 藍受龍 , LAN, SHOU LONG , 陳智偉 , CHEN, CHIH WEI
IPC分类号： C23C18/00
摘要：一種基板轉移暨處理系統及其設備。其中基板轉移暨處理設備適用於使一處理液體均勻在一基板上進行製程步驟，基板轉移暨處理設備包含：一槽體；至少一反應槽室，設置於槽體內，用以提供處理液體與基板進行製程步驟，每一反應槽室包含一用以容置處理液體的處理容積；一限位單元，設置於槽體內，用以限制基板立於槽體內；及一流體循環系統，至少具有一驅動裝置，流體循環系統驅動該處理液體於處理容積內循環流動，用以使處理液體均勻在立於槽體內的基板上進行一製程步驟。
简体摘要：一种基板转移暨处理系统及其设备。其中基板转移暨处理设备适用于使一处理液体均匀在一基板上进行制程步骤，基板转移暨处理设备包含：一槽体；至少一反应槽室，设置于槽体内，用以提供处理液体与基板进行制程步骤，每一反应槽室包含一用以容置处理液体的处理容积；一限位单元，设置于槽体内，用以限制基板立于槽体内；及一流体循环系统，至少具有一驱动设备，流体循环系统驱动该处理液体于处理容积内循环流动，用以使处理液体均匀在立于槽体内的基板上进行一制程步骤。

48. 实用新型

TWM495446U 水平電鍍機及其快拆式磁性聯結器有权
简体标题：水平电镀机及其快拆式磁性连接器
公开(公告)号：TWM495446U
公开(公告)日：2015-02-11
申请号：TW103220116
申请日：2014-11-13
申请人：亞智科技股份有限公司 , MANZ TAIWAN LTD.
发明人：李玟澄 , LEE, WEN CHENG , 郭富強 , GUO, FU QIANG , 欒濤 , LUAN, TAO
IPC分类号： F16D65/18 , C25D21/12

49. 发明专利

TWI470110B 用於化學沉積設備的夾固裝置有权
简体标题：用于化学沉积设备的夹固设备
公开(公告)号：TWI470110B
公开(公告)日：2015-01-21
申请号：TW101136118
申请日：2012-09-28
申请人：亞智科技股份有限公司 , MANZ TAIWAN LTD.
发明人：陳傳宜 , CHEN, CHUAN YI , 游柏清 , YU, PO CHING , 藍受龍 , LAN, SHOU LONG , 陳智偉 , CHEN, CHIH WEI
IPC分类号： C23C16/44
CPC分类号： F16B2/10

50. 发明专利

TWI393589B 液幕形成裝置及液幕形成方法有权
简体标题：液幕形成设备及液幕形成方法
公开(公告)号：TWI393589B
公开(公告)日：2013-04-21
申请号：TW098111984
申请日：2009-04-10
申请人：亞智科技股份有限公司
发明人：顏英哲 , 李玟澄
IPC分类号： B05C11/10 , B05C3/18 , B08B1/02

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