会员体验
专利管家(专利管理)
工作空间(专利管理)
风险监控(情报监控)
数据分析(专利分析)
侵权分析(诉讼无效)
联系我们
交流群
官方交流:
QQ群: 891211   
微信请扫码    >>>
现在联系顾问~
热词
    • 42. 发明公开
    • HALBLEITERSTRUKTUREN, VERFAHREN ZUR STEUERUNG VON DEREN LEITFÄHIGKEIT UND FÜHLELEMENTE AUF DER BASIS DIESER HALBLEITERSTRUKTUREN
    • 半导体结构,方法控制导电性和感测元件在这个半导体结构的基础。
    • EP0456825A1
    • 1991-11-21
    • EP90905344.9
    • 1989-12-29
    • ZOTOV, Vladislav DmitrievichBODROV, Vladimir NikolaevichVINOGRADOVA, Elena PetrovnaSEROV, Anatoly Trofimovich
    • ZOTOV, Vladislav DmitrievichBODROV, Vladimir NikolaevichVINOGRADOVA, Elena PetrovnaSEROV, Anatoly Trofimovich
    • H01L29/02
    • H01L29/00H01L29/82
    • Halbleiterstruktur, in der sich die Beimischungskonzentrationen in einem solchen Verhältnis befinden, dass die Anzahl von durch die Beimischung des ersten Leitfähigkeitstyps erzeugten, durch eine dritte Beimischung kompensierten Ladungsträgern der Anzahl von durch die Beimischung eines zweiten Leitfähigkeitstyps erzeugten Ladungsträgern in wesentlichen gleich ist oder diese um maximal eine Grössenordnung überschreitet. Im Verfahren zur Steuerung der Leitfähigkeit der Halbleiterstruktur (1) wird der Stromwert bei der Stromkanalbildung in einem Bereich eingestellt, bei dem in der Halbleiterstruktur (1) eine periodische Änderung der Leitfähigkeit im Stromkanal entsteht, die zu einer Änderung der Leitfähigkeit der gesamten Halbleiterstruktur (1) führt, und am Ausgang der Halbleiterstruktur (1) eine Impulsfolge erzeugt, wobei für die Strukturen (1), bei denen die Anzahl der durch die Beimischung des ersten Leitfähigkeitstyps erzeugten, durch eine dritte Beimischung kompensierten Ladungsträger die Anzahl der durch die Beimischung des zweiten Leitungstyps erzeugten Ladungsträger um nicht mehr als eine Grössenordnung überschreitet, auf die Struktur (1) bei der Stromkanalbildung eingewirkt werden muss. Die Frequenz der Leitfähigkeitsänderung in der Stromkanalzone der Struktur (1) wird durch mindestens eine äussere Einwirkung gesteuert.
    • 其中检查该混合物的浓度之间的关系做了通过在第一型导电性的外加剂产生的载波的数目和由第三混合补偿的半导体结构基本上等于,或由不超过一个顺序超出,载波的数量 在第二型导电性的外加剂产生通过。 在用于控制半导体结构(1)的导电性的方法中,在形成当前列的过程中的电流的值,其中在该半导体结构(1)显示电导率导致周期性变化的范围内建立 整个半导体结构(1)和脉冲序列的导电性的变化,在所述半导电结构(1)的输出端获得。 对于(1),其中由第一类型导电性的外加剂产生并补偿由第三混合载波的数量不超过一个数量级超过由第二型导电性的外加剂产生的载波的数目的结构中,它是 需要将当前列的形成过程中适用于外部影响到该结构(1)。 至少一个外部影响的应用,用于控制导电性的结构(1)的当前列的区域内的频率变化。