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71. 发明授权

KR101076491B1 티타니아 도핑 석영 유리, ＥＵＶ 리소그래피용 부재,ＥＵＶ 리소그래피용 포토마스크 기판 및 티타니아 도핑석영 유리의 제조 방법 有权
标题翻译： TITANIA-DOPED QUARTZ GLASS AND MAKING METHOD，EUV LITHOGRAPHIC MEMBER AND PHOTOMASK SUBSTRATE
公开(公告)号：KR101076491B1
公开(公告)日：2011-10-24
申请号：KR1020060123770
申请日：2006-12-07
申请人： 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤
发明人： 마이다,시게루 , 야마다,모또유끼
IPC分类号： C03C17/00 , C03C17/06
CPC分类号： C03B19/1407 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , C03B19/1415 , C03B19/1446 , C03B19/1453 , C03B19/1484 , C03B2201/42 , C03C3/06 , C03C2201/11 , C03C2201/21 , C03C2201/23 , C03C2201/42 , G03F1/24 , G03F1/60 , G21K2201/067
摘要： EUV 리소그래피용포토마스크기판등의 EUV 리소그래피용부재에요구되는높은표면정밀도를부여하는균질성이높은티타니아도핑석영유리를제공할수 있고, 티타니아도핑석영유리를포함하는 EUV 리소그래피용포토마스크기판등의 EUV 리소그래피용부재는평탄도나열팽창특성이우수해진다.

72. 发明专利

TW201350320A 用以形成低顆粒瑕疵之薄玻璃片的靜電方法及設備审中-公开
简体标题：用以形成低颗粒瑕疵之薄玻璃片的静电方法及设备
公开(公告)号：TW201350320A
公开(公告)日：2013-12-16
申请号：TW102118080
申请日：2013-05-22
申请人：康寧公司 , CORNING INCORPORATED
发明人：賀特丹尼爾瓦倫 , HAWTOF, DANIEL WARREN , 諾爾布靈頓艾倫 , NOLL, BRENTON ALLEN , 菲姆利司黎尼法斯 , VEMURY, SRINIVAS
IPC分类号： B32B17/06 , B32B37/00 , C03C15/00 , B05D1/06
CPC分类号： C03B19/1446 , C03B19/1423 , C03B19/1492 , Y02P40/57 , Y10T428/24355 , Y10T428/268
摘要：使用捲軸式玻璃煙灰沈積及燒結製程形成高表面品質玻璃片。玻璃片形成涉及以下步驟：提供玻璃煙灰顆粒；在沈積表面上沈積玻璃煙灰顆粒的第一部分以形成支撐煙灰層；將玻璃煙灰顆粒的第二部分靜電吸引及收集至荷電板的表面上；從沈積表面移除煙灰層以形成煙灰片；及加熱煙灰片的至少一部分以燒結玻璃煙灰顆粒以形成玻璃片。
简体摘要：使用卷轴式玻璃烟灰沉积及烧结制程形成高表面品质玻璃片。玻璃片形成涉及以下步骤：提供玻璃烟灰颗粒；在沉积表面上沉积玻璃烟灰颗粒的第一部分以形成支撑烟灰层；将玻璃烟灰颗粒的第二部分静电吸引及收集至荷电板的表面上；从沉积表面移除烟灰层以形成烟灰片；及加热烟灰片的至少一部分以烧结玻璃烟灰颗粒以形成玻璃片。

73. 发明专利

TW200628401A 高純度氧化矽粉的製造方法與裝置以及高純度氧化矽粉 METHOD AND APPARATUS FOR FABRICATING HIGH PURITY SILICA POWDER AND HIGN PURITY SILICA POWDER 审中-公开
简体标题：高纯度氧化硅粉的制造方法与设备以及高纯度氧化硅粉 METHOD AND APPARATUS FOR FABRICATING HIGH PURITY SILICA POWDER AND HIGN PURITY SILICA POWDER
公开(公告)号：TW200628401A
公开(公告)日：2006-08-16
申请号：TW095101689
申请日：2006-01-17
申请人：信越化學工業股份有限公司 SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
发明人：神尾剛 KAMIO, TAKESHI , 高野徹 TAKANO, TORU , 三好一美 MIYOSHI, KATSUMI , 寺正美 TERASHIMA, MASAMI
IPC分类号： C01B , B01D
CPC分类号： C03B19/1446 , C01B33/126 , C03B19/106
摘要：一種高純度氧化矽製品的製造方法，包括利用石英系玻璃原料的汽相水解反應而生成玻璃粒子的工程、使玻璃粒子堆積而製造多孔質石英玻璃體的工程、將玻璃粒子的一部分作為氧化矽粉進行回收的工程，其特徵在於，包含：將從製造多孔質石英玻璃體的工程排出之含有玻璃粒子的排氣，導入到具有陶瓷過濾器的分離裝置中之工程；利用陶瓷過濾器將玻璃粒子作為氧化矽粉進行分離及回收之工程；將回收的氧化矽粉加在脫氣裝置上而使其體密度為0.1～0.7g／cm^3之工程。
简体摘要：一种高纯度氧化硅制品的制造方法，包括利用石英系玻璃原料的汽相水解反应而生成玻璃粒子的工程、使玻璃粒子堆积而制造多孔质石英玻璃体的工程、将玻璃粒子的一部分作为氧化硅粉进行回收的工程，其特征在于，包含：将从制造多孔质石英玻璃体的工程排出之含有玻璃粒子的排气，导入到具有陶瓷过滤器的分离设备中之工程；利用陶瓷过滤器将玻璃粒子作为氧化硅粉进行分离及回收之工程；将回收的氧化硅粉加在脱气设备上而使其体密度为0.1～0.7g／cm^3之工程。

74. 发明专利

JP4470581B2 Method of manufacturing a quartz glass manufacturing furnace and quartz glass 有权
公开(公告)号：JP4470581B2
公开(公告)日：2010-06-02
申请号：JP2004147547
申请日：2004-05-18
申请人：株式会社ニコン
发明人：豊山口 , 厚樹龍
IPC分类号： C03B8/04 , C03B20/00 , G03F1/54 , G03F1/68
CPC分类号： C03B19/1446 , C03B2207/06 , C03B2207/12 , C03B2207/20

75. 发明专利

JP2009132550A Manufacturing apparatus of synthetic silica glass, and manufacturing method of synthetic silica glass 有权
标题翻译：合成二氧化硅玻璃的制造装置及合成二氧化硅玻璃的制造方法
公开(公告)号：JP2009132550A
公开(公告)日：2009-06-18
申请号：JP2007309145
申请日：2007-11-29
申请人： Covalent Materials Corp , Covalent Materials Tokuyama Corp , コバレントマテリアル徳山株式会社 , コバレントマテリアル株式会社
发明人： CHIJIMATSU TAKASHI , YAMAKADO MAMORU , HAYAKAWA AKI , IWAI SEIJI , NAKAJIMA TOSHIO , IKUNO HIROTO
IPC分类号： C03B20/00 , C03B8/04
CPC分类号： C03B19/1446 , C03B19/1407 , C03B19/1484
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a manufacturing apparatus of synthetic silica glass and a manufacturing method of synthetic silica glass which can produce synthetic silica glass without containing striae and without the internal defect.
SOLUTION: The manufacturing apparatus of synthetic silica glass is one that is provided with a closed furnace body 2, a plurality of air inlets 4a located in an upper part of the furnace body, discharge ports 5a located in a lower part of the furnace body, a target 6 for forming an ingot and rotatably installed within the furnace body, and a burner 7 for synthesizing silica glass, and further the air inlets 4a are always located in a lower position than the adhering surface of the molten silica of the ingot, and are installed in a direction such that the gas supplied from the air inlets 4a does not directly strike the ingot and diagonally downward against the horizontal direction, wherein the gas supplied from the air inlets 4a is formed as a swiveling downward flow swiveling in the same direction as the rotating direction of the target 6 for forming the ingot.
COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT
摘要翻译：要解决的问题：提供合成石英玻璃的制造装置和合成石英玻璃的制造方法，其可以生产不含条纹并且没有内部缺陷的合成石英玻璃。解决方案：合成石英玻璃的制造装置是设置有封闭炉体2，位于炉体上部的多个空气入口4a，位于炉体下部的排出口5a 炉体，用于形成锭子并可旋转地安装在炉体内的靶材6和用于合成石英玻璃的燃烧器7，并且进一步的空气入口4a总是位于比熔融二氧化硅的熔融二氧化硅的粘合表面更低的位置并且安装在使得从空气入口4a供应的气体不直接撞击铸锭并相对于水平方向倾斜向下的方向上安装，其中从空气入口4a供应的气体形成为向下旋转的旋转向下流动与用于形成锭的靶6的旋转方向相同的方向。版权所有（C）2009，JPO＆INPIT

76. 发明专利

JP2009067660A Synthetic silica glass production device, and method for producing synthetic silica glass using the same 有权
标题翻译：合成二氧化硅玻璃生产装置及其制造合成二氧化硅玻璃的方法
公开(公告)号：JP2009067660A
公开(公告)日：2009-04-02
申请号：JP2007240512
申请日：2007-09-18
申请人： Covalent Materials Tokuyama Corp , コバレントマテリアル徳山株式会社
发明人： HAYAKAWA AKI , YAMAKADO MAMORU , ADACHI SADAHIRO , CHIJIMATSU TAKASHI
IPC分类号： C03B20/00 , C03B8/04
CPC分类号： C03B19/1407 , C03B19/1446
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a synthetic silica glass production device where the sticking of silica glass powder is suppressed over the whole region of an inside wall in a furnace, and synthetic silica glass of high quality can be produced, and to provide a method for producing synthetic silica glass using the same.
SOLUTION: In the synthetic glass production device 1 where an Si-based compound gas, an O
2 gas and an H
2 gas are jetted into a furnace 2 from a burner 4, so as to be burnt, silica glass is deposited on a heat resistant substrate as a target 3, so as to form an ingot, the upper part of the furnace 2 is provided with a nozzle 5 jetting the gases, and the gases are jetted from the nozzle 5, so as to form a gas flow lowering while being circled along the inside wall face in the furnace.
COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT
摘要翻译：要解决的问题：为了提供在炉内的内壁的整个区域上抑制二氧化硅玻璃粉末粘附的合成二氧化硅玻璃制造装置，并且可以生产高质量的合成石英玻璃，并且提供使用其制造合成石英玻璃的方法。解决方案：在合成玻璃制备装置1中，将Si基化合物气体，O SB 2气体和H 2 SB 3气体从炉2中燃烧器4，为了被烧制，将石英玻璃作为靶3沉积在耐热基材上，以形成锭，炉2的上部设有喷射气体的喷嘴5，并且从喷嘴5喷射气体，以便沿着炉内的内壁面盘绕而形成气流降低。版权所有（C）2009，JPO＆INPIT

77. 发明专利

JP4095826B2 Apparatus for producing a synthetic silica glass 有权
公开(公告)号：JP4095826B2
公开(公告)日：2008-06-04
申请号：JP2002133951
申请日：2002-05-09
申请人：コバレントマテリアル徳山株式会社
发明人：浩人生野
IPC分类号： C03B8/04 , G02B1/00
CPC分类号： C03B19/1407 , C03B19/1446
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an apparatus for manufacturing synthetic silica glass to improve deposition efficiency and to reduce the inclusion of foam. SOLUTION: The apparatus for manufacturing the synthetic silica glass has a target 4 for forming an ingot disposed within a furnace casing, a lifting device 5 for lifting the target 4, a burner 6 disposed above the furnace casing 3 facing the target 4 to hydrolyze a silicon compound in an oxyhydrogen flame, an exhaust flow passage 7 disposed in communicative connection with the furnace casing 3 so as to exhaust air from the lower side of the furnace casing 3, an exhauster 8 disposed in communicative connection with the exhaust flow passage 7, and exhaust pressure regulating means 9 for regulating the exhaust pressure in the exhaust flow passage 7. COPYRIGHT: (C)2004,JPO

78. 发明专利

JP2004359519A Manufacturing method of synthetic silica glass porous material and its manufacturing unit 审中-公开
公开(公告)号：JP2004359519A
公开(公告)日：2004-12-24
申请号：JP2003162417
申请日：2003-06-06
申请人： Toshiba Ceramics Co Ltd , 東芝セラミックス株式会社
发明人： ISOMURA YOSHITOSHI , EZAKI MASANOBU , GOTO HIROYUKI
IPC分类号： C03B8/04 , C03B20/00
CPC分类号： C03B19/1446
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a manufacturing method of a synthetic silica glass porous material which can restrain the attachment of minute particles of the synthetic silica glass on the inner wall of a reactor regardless of the size of the synthetic silica glass porous material and the drafting capacity of drafting equipment.
SOLUTION: In this manufacturing method of the synthetic silica glass porous material, in which the minute particles of the synthetic silica glass produced by hydrolysis of a silicon compound in an oxyhydrogen flame 6a is deposited at the lower end of a support rod 4, which is located vertically in a reactor 1 under forced ventilation and pulled up while rotating, the inner wall of the reactor is kept at a temperature of 300-1,000°C.
COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

79. 发明专利

JP2003327436A Apparatus for manufacturing synthetic silica glass 有权
标题翻译：制造合成二氧化硅玻璃的装置
公开(公告)号：JP2003327436A
公开(公告)日：2003-11-19
申请号：JP2002133951
申请日：2002-05-09
申请人： Tokuyama Toshiba Ceramics Co Ltd , 徳山東芝セラミックス株式会社
发明人： IKUNO HIROTO
IPC分类号： G02B1/00 , C03B8/04
CPC分类号： C03B19/1407 , C03B19/1446
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an apparatus for manufacturing synthetic silica glass to improve deposition efficiency and to reduce the inclusion of foam.
SOLUTION: The apparatus for manufacturing the synthetic silica glass has a target 4 for forming an ingot disposed within a furnace casing, a lifting device 5 for lifting the target 4, a burner 6 disposed above the furnace casing 3 facing the target 4 to hydrolyze a silicon compound in an oxyhydrogen flame, an exhaust flow passage 7 disposed in communicative connection with the furnace casing 3 so as to exhaust air from the lower side of the furnace casing 3, an exhauster 8 disposed in communicative connection with the exhaust flow passage 7, and exhaust pressure regulating means 9 for regulating the exhaust pressure in the exhaust flow passage 7.
COPYRIGHT: (C)2004,JPO
摘要翻译：要解决的问题：提供一种用于制造合成石英玻璃的装置，以提高沉积效率并减少泡沫的包含。解决方案：用于制造合成石英玻璃的设备具有用于形成设置在炉壳内的锭的靶4，用于提升靶4的提升装置5，设置在炉壳3上方的面向靶4的燃烧器6 在氢氧焰中水解硅化合物，排气流路7设置成与炉壳3连通，以从炉壳3的下侧排出空气;排气器8，设置成与排气流连通; 通道7和排气压力调节装置9，用于调节排气流通道7中的排气压力。版权所有（C）2004，JPO

80. 发明专利

JP2003505320A Method of separating the compound from the acidic aqueous solution 审中-公开
公开(公告)号：JP2003505320A
公开(公告)日：2003-02-12
申请号：JP2001511382
申请日：2000-06-20
申请人：コーニングインコーポレイテッド
发明人：ジャン，レイ , エイダンウッディー，スティーヴン , アールパワーズ，デイル , ジープリンス，フレディー
IPC分类号： C01G17/00 , B01D53/64 , C03B19/14 , C03B37/014 , C03B37/018
CPC分类号： B01D53/64 , C03B19/1446 , C03B37/0144 , C03B37/01846 , C03B2201/31
摘要： (57)【要約】蒸気または粒子形態にあるゲルマニウム含有化合物、蒸気形態の酸、および水蒸気を含有する気体混合物からゲルマニウムを回収する方法が開示されている。気体混合物は、液体中にゲルマニウム含有化合物を溶解させるのに効果的な条件下で水含有液体と接触させられる。得られた液体混合物の酸度は、ゲルマニウム含有化合物を気化させるのに効果的な条件下で上昇される。気化されたゲルマニウム含有化合物は、ゲルマニウム含有化合物を１つ以上の水溶液の内の少なくとも１つの中に溶解させ、沈殿させるのに効果的な条件下でその１つ以上の水溶液と接触させられ、得られた沈殿物が、１つ以上の水溶液の内の１つから分離される。ここに開示された方法は、光導波路製造プロセス中に生成される廃棄気体からゲルマニウムを回収するのに特にうまく適している。この方法により回収されたゲルマニウムは、その後、半導体、光導波路ファイバおよび光学成分の製造に使用できる。

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