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1. 发明申请

WO2021215053A1 光コネクタ用清掃具审中-公开
公开(公告)号：WO2021215053A1
公开(公告)日：2021-10-28
申请号：PCT/JP2020/048804
申请日：2020-12-25
申请人：エヌ・ティ・ティ・アドバンステクノロジ株式会社
发明人：橋本　悦 , 安東　和俊 , 鴨打　輝正
IPC分类号： G02B6/36
摘要：清掃媒体の送出穴（５３）と巻取穴（５４）とが開口する先端面（５１）を有しかつ外周面（５２）を有する清掃用のチップ（４４）が先端部に設けられた光コネクタ用清掃具である。先端面（５１）は、チップ（４４）の先端部を断面山形状に形成する第１の傾斜面（５６）および第２の傾斜面（５７）と、これらと外周面（５２）とを接続する凸曲面（５８）とを有する。第１の傾斜面（５６）は、チップ（４４）の軸線と交差し、ＡＰＣコネクタの先端面の傾斜角より小さい角度で傾斜している。第２の傾斜面（５７）は、前記チップ（４４）の先端のオフセット線（６１）（稜線）がチップ（４４）の軸線と巻取穴（５４）との間に位置するように形成され、ＡＰＣコネクタの先端面の傾斜角以上の角度で傾斜している。凸曲面（５８）は、ＡＰＣコネクタの先端面の傾斜角以上の角度で傾斜している。　チップを回転させる回転機構を使用することなくＰＣコネクタとＡＰＣコネクタの両方を正しく清掃することが可能な光コネクタ用清掃具を提供することができる。

2. 发明申请

WO2021044870A1 光コネクタ研磨用パッド审中-公开
公开(公告)号：WO2021044870A1
公开(公告)日：2021-03-11
申请号：PCT/JP2020/031541
申请日：2020-08-20
申请人：エヌ・ティ・ティ・アドバンステクノロジ株式会社
发明人：青木　賢二 , 小西　正晃 , 杉田　尚樹
IPC分类号： B24B19/00 , G02B6/36
摘要：本願発明の一実施形態は、研磨中の光コネクタと研磨フィルムとの間の空隙を解消する研磨用パッドを提供する。一実施形態の研磨用パッドは、光ファイバおよびフェルールを備えた光コネクタの端面を球面研磨する際に、研磨盤と研磨シートとの間に配置して用いられる。一実施形態の光コネクタ研磨用パッドは、２０％よりも大きい反発弾性を有している。一実施形態の光コネクタ研磨用パッドは、ウレタン系素材で作成することができる。

3. 发明申请

WO2020170539A1 光コネクタ用清掃具审中-公开
公开(公告)号：WO2020170539A1
公开(公告)日：2020-08-27
申请号：PCT/JP2019/046085
申请日：2019-11-26
申请人：エヌ・ティ・ティ・アドバンステクノロジ株式会社
发明人：鴨打　輝正 , 安東　和俊 , 橋本　悦
IPC分类号： G02B6/36
摘要：清掃具本体（３）と、送り側ボビン（１３）と、清掃ヘッド（清掃部）と、巻取側ボビン（１４）と、清掃時に移動する移動体（５）と、移動体（５）と連動して清掃ヘッドに使用前の清掃媒体（６）を送る送り機構（２）と、巻取側ボビン（１４）を駆動する巻取機構（２１）とを備える。送り機構（２）は、清掃媒体が折り返される１箇所の折り返し部を巻取側ボビン（１４）から離間する方向に移動させる。巻取機構（２１）は、巻取側ボビン（１４）の回転体（２５）と係合する駆動片（２８）を有する。駆動片（２）は、回転体（２５）の係合突起（２６）を押す荷重が予め定めた過重に達することにより回転体（２５）に対してスリップする。予め定めた過重とは、送り機構（２）が引き出した清掃媒体（６）を巻き取る際の過重より高い過重であって、送り側ボビン（１３）から清掃媒体（６）が引き出されるように巻取側ボビン（１４）が回る際の過重より低い荷重である。　簡単な構造で清掃媒体を一定の長さで巻取ることが可能で、清掃媒体を一定の長さで引き出す際の抵抗が小さくなる光コネクタ用清掃具を提供できる。

4. 发明申请

WO2020144981A1 シナリオ提供システム、シナリオ提供装置、シナリオ実行端末、シナリオ提供方法、シナリオ実行方法及びプログラム审中-公开
公开(公告)号：WO2020144981A1
公开(公告)日：2020-07-16
申请号：PCT/JP2019/047429
申请日：2019-12-04
申请人：エヌ・ティ・ティ・アドバンステクノロジ株式会社
发明人：山本　顕範 , 服部　孝志 , 野口　明子 , 宮崎　宗一
IPC分类号： G06F3/0482 , G06F8/30 , G06Q50/10
摘要：シナリオ提供装置は、シナリオファイルと、シナリオを構成する処理の実行に用いられる変数の設定値を記述するためのカスタマイズ用ファイルと、シナリオを選択するためのメニューとを記憶する。シナリオ提供装置のメニュー提供部は、シナリオ実行端末にメニューを表示させ、表示させたメニューに含まれる選択肢の中からシナリオ実行端末において選択された選択肢に応じてシナリオを決定する。シナリオ提供装置のシナリオ提供部は、決定されたシナリオのシナリオファイル及びカスタマイズ用ファイルを送信する。シナリオ実行端末のシナリオ実行部は、シナリオファイルが示すシナリオに、ユーザがカスタマイズ用ファイルに記述した変数の設定値を代入して実行する。

5. 发明申请

WO2016111245A1 測量機审中-公开
标题翻译：调查仪器
公开(公告)号：WO2016111245A1
公开(公告)日：2016-07-14
申请号：PCT/JP2016/000035
申请日：2016-01-06
申请人：エヌ・ティ・ティ・アドバンステクノロジ株式会社 , アイレック技建株式会社
发明人：八木　生剛 , 齋藤　文雄 , 長沼　和則 , 菅井　栄一 , 小平　徹 , 澤口　明 , 萩野　日出輝 , 渡邉　武士 , 石津　紀行 , 武村　秀
IPC分类号： G01C15/00
CPC分类号： G01S7/4814 , G01C15/00 , G01S17/10 , G01S17/36
摘要：　光ビームを送受する測量機を一列に配置する測量方式において必要な位置や姿勢のパラメータの全てまたは一部を提供し、誤差要因を減らし測量精度を向上した測量機を実現する。波長可変光源からの光を発出可能な１ないし複数の発出口と、隣接する測量機から発出された光または反射された光を受光する１ないし複数の受光部を有する測量機。発出口からの発出光が扇状のパターンであり、かつ、扇状に拡がる方向と垂直方向に、出射角度が光の波長の単調な関数として変わるように発出され、隣接する測量機から発出され受光される波長、または、隣接する測量機によって反射された光を発出した測量機自身が受光する波長を求めることで、測量機の相対的位置関係及び姿勢のパラメータの少なくとも一つを測定する。
摘要翻译：提供了一种测量仪器：为测量方法提供部分或全部必要的位置和姿势参数，其中接收光束的测量仪器排列成一列; 减少错误的原因; 提高测量精度。测量仪器具有：能够从可变波长光源发射光的至少一个发光端口; 以及接收从相邻测量仪器发射或反射的光的至少一个光接收部分。从发光口发出的光为扇形图案，并且沿与风扇形状扩展方向垂直的方向发射，使得发射角随着光的波长的单调函数而变化。测量仪器的相对位置和姿势的至少一个参数是通过查找相邻测量仪器发出和接收的光的波长或由相邻测量仪器反射并由测量仪器接收的光的波长来测量的，发出光。

6. 发明申请

WO2015140924A1 多層膜反射鏡、分光装置、および高次高調波の分光方法审中-公开
标题翻译：多层镜像，光谱仪和高分辨率光谱法
公开(公告)号：WO2015140924A1
公开(公告)日：2015-09-24
申请号：PCT/JP2014/057341
申请日：2014-03-18
申请人：エヌ・ティ・ティ・アドバンステクノロジ株式会社
发明人：市丸　智 , 畑山　雅俊 , 高橋　栄治
IPC分类号： G02B5/08 , G01N21/27 , G02B5/28
CPC分类号： G02B5/085
摘要：　本発明に係る多層膜反射鏡（２Ａ、２Ｂ、２）は、第１材料から成る軽元素層（２１）と、前記第１材料よりも屈折率の大きい第２材料から成る重元素層（２２）とが交互に複数積層され、入射される光のうち一部の波長範囲を選択的に反射する多層膜反射鏡である。前記多層膜反射鏡は、前記波長範囲内において夫々入射角での反射帯域幅（Ｗ）が、夫々略等しいことを特徴とする。
摘要翻译：根据本发明的多层反射镜（2A，2B，2）具有这样的结构，其中包括第一材料和多个重元素层（22）的多个光元件层（21）包括具有折射率大于第一材料的折射率交替层叠，并且选择性地反射入射在其上的波长范围内的光。在多层反射镜中，每个入射角的反射带宽（W）在波长范围内基本相同。

7. 发明申请

WO2007119852A1 多層膜型回折格子审中-公开
标题翻译：多层膜类型衍射光栅
公开(公告)号：WO2007119852A1
公开(公告)日：2007-10-25
申请号：PCT/JP2007/058291
申请日：2007-04-16
申请人：独立行政法人日本原子力研究開発機構 , 株式会社島津製作所 , エヌ・ティ・ティ・アドバンステクノロジ株式会社 , 小池雅人 , 石野雅彦 , 岩井信之 , 笹井浩行 , 竹中久貴 , 畑山雅俊
发明人：小池雅人 , 石野雅彦 , 岩井信之 , 笹井浩行 , 竹中久貴 , 畑山雅俊
IPC分类号： G02B5/18
CPC分类号： G02B5/1809 , B82Y10/00 , G02B5/1861 , G21K1/062
摘要：　多層膜をラミナー型回折格子表面に形成して回折効率を増したい場合、(1)最大反射率が得られる溝深さ等の条件、(2)多層膜の拡張Bragg条件、(3)入射光と回折光の方向の相関を規定する条件式、(4) ラミナー型回折格子面の凸部と凹部の幅の比の４つの条件を満たす必要があるが統一的な設計指針が与えられていなかった。本発明は、このような課題を解決するためになされたものであり、総合的な設計指針だけでなく最適な多層膜物質対を与えるものであり、その目的は、回折格子を用いた分光が効率の低下のため困難である波長０．１～１ｎｍの領域において、回折効率、分解能が共に高い回折格子を提供することにある。
摘要翻译：为了通过在层状衍射光栅表面上形成多层膜来提高衍射效率，需要满足四个条件：[1]能够获得最佳反射率的槽深度的条件; [2]多层膜延伸布拉格条件; 定义入射光和衍射光的方向之间的相关性的条件表达式; 和[4]层叠型衍射光栅表面上的凸部的宽度与凹部的宽度的比。但是，并没有统一的设计方针。本发明通过给出一般的设计指南和最佳多层物质对来解决这个问题，以便在0.1至1nm的波长区域中提供具有高衍射效率和高分辨率的衍射光栅，其中使用衍射光栅由于降低效率而变得困难。

8. 发明申请

WO2007046471A1 突入電流低減回路および電気機器审中-公开
标题翻译： RUSH电流减少电路和电气设备
公开(公告)号：WO2007046471A1
公开(公告)日：2007-04-26
申请号：PCT/JP2006/320858
申请日：2006-10-19
申请人：エヌ・ティ・ティ・アドバンステクノロジ株式会社 , 日本電信電話株式会社 , 株式会社共進電機製作所 , 菅野伸 , 服部光男 , 佐藤保 , 井口賢司
发明人：菅野伸 , 服部光男 , 佐藤保 , 井口賢司
IPC分类号： H02M7/12 , H02M7/537
CPC分类号： H02M7/125 , Y10T307/625
摘要：　ダイオードブリッジ（ＤＢ２）のプラス側の出力節点は、トランジスタ（Ｑ１）のドレインに接続され、トランジスタ（Ｑ１）のソースは、ダイオードブリッジ（ＤＢ２）のマイナス側の出力節点に接続されている。抵抗（Ｒ１）の一端がトランジスタ（Ｑ１）のドレインに接続され、抵抗（Ｒ１）の他端がトランジスタ（Ｑ１）のゲートに接続されている。抵抗（Ｒ２）の一端がトランジスタ（Ｑ１）のゲートに接続され、抵抗（Ｒ２）の他端がトランジスタ（Ｑ１）のソースに接続されている。コンデンサ（Ｃ１）が抵抗（Ｒ２）に並列に接続されている。
摘要翻译：二极管桥（DB2）的正面上的输出节点连接到晶体管（Q1）的漏极，并且晶体管（Q1）的源极连接到二极管桥的负侧的输出节点（ DB2）。电阻器（R1）的一端连接到晶体管（Q1）的漏极，电阻器（R1）的另一端连接到晶体管（Q1）的栅极。电阻器（R2）的一端连接到晶体管（Q1）的栅极，晶体管（R2）的另一端连接到晶体管（Q1）的源极。电容器（C1）并联连接到电阻器（R2）。

9. 发明申请

WO2002092286A1 研磨フィルム及びその製造方法审中-公开
标题翻译：磨料薄膜及其制造方法
公开(公告)号：WO2002092286A1
公开(公告)日：2002-11-21
申请号：PCT/JP2002/004275
申请日：2002-04-26
申请人：日本ミクロコーティング株式会社 , エヌ・ティ・ティ・アドバンステクノロジ株式会社 , 山﨑亨 , 馬場哲也 , 村田治
发明人：山﨑亨 , 馬場哲也 , 村田治
IPC分类号： B24D3/00
CPC分类号： B24D11/001 , B05D5/02 , B24B19/226 , B24D3/28 , B32B27/14 , G02B6/3863 , Y10T428/24372 , Y10T428/2993
摘要： An abrasive film capable of finish-polishing to a smooth surface with no unpolished area; and a method of producing the same. An abrasive film prepared by forming an abrasive layer (5) on the surface of a plastic film (1). The abrasive layer (5) is formed by fixing mixed particles consisting of silica particles (2) having a first average particle diameter and silica particles (3) having a second average particle diameter different from the first average particle diameter that are selected from the average particle diameter range of 0.001 - 10 mu m, by a resin binder (4). Reticular cracks (6) are formed in the surface of the abrasive layer (5) to arrest the swarf produced during polishing. The particle size distribution of the mixed particles consisting of silica particles having the first and second average particle diameters shows a peak at two different particle diameter values respectively corresponding to the first and second average particle diameters.
摘要翻译：一种研磨膜，能够在没有未磨光区域的光滑表面进行抛光; 及其制造方法。通过在塑料膜（1）的表面上形成研磨层（5）而制备的研磨膜。研磨层（5）通过固定由具有第一平均粒径的二氧化硅颗粒（2）和具有不同于第一平均粒径的第二平均粒径的二氧化硅颗粒（3）组成的混合颗粒而形成，所述第二平均粒径选自平均粒径粒径为0.001〜10μm的树脂粘合剂（4）。在研磨层（5）的表面形成网状裂纹（6），以阻止在研磨过程中产生的切屑。由具有第一和第二平均粒径的二氧化硅颗粒组成的混合粒子的粒度分布在分别对应于第一和第二平均粒径的两个不同粒径值处显示峰值。

10. 发明申请

WO2017085884A1 光ファイバコネクタ端面の複数段階一括研磨方法及び研磨フィルム审中-公开
标题翻译：光纤连接器端面和抛光膜的多级集体抛光方法
公开(公告)号：WO2017085884A1
公开(公告)日：2017-05-26
申请号：PCT/JP2015/082785
申请日：2015-11-20
申请人：エヌ・ティ・ティ・アドバンステクノロジ株式会社 , Мipox株式会社
发明人：青木　賢二 , 杉田　尚樹 , 井川　俊弘 , 宍戸　光伸
IPC分类号： B24B19/00 , B24B21/00 , B24D11/04
CPC分类号： B24B19/00 , B24B21/00 , B24D11/04
摘要：光ファイバコネクタ等ワークの端面の複数段階の研磨を自動的に一括して行うための研磨方法、研磨フィルム。ワークの端面を研磨盤に配置された研磨フィルムに当接させながら、基準面に平行な面内でワークの端面と研磨盤とを相対的に移動させてワークの複数段階の研磨を一括して行う研磨方法であって、ワークの端面が、研磨フィルムに対して直径２Ｒで円運動し、円運動の中心が、研磨フィルム上で所定距離Ｓだけ一方向へ直線移動し、研磨フィルムが、直線移動の方向に沿って、第１、第２、及び第３の研磨面を備え、各研磨面の直線移動方向の長さが円運動の直径２Ｒ以上であり、研磨フィルムがさらに、円運動の一回転が異なる研磨面をまたぐ所定距離Ｓ上の範囲を低減させるように、または円運動の一回転が異なる研磨面をまたぐことがないように、第１及び第２の研磨面の間に第１のクリーニング面と、第２及び第３の研磨面の間に第２のクリーニング面とを備える。
摘要翻译：用于自动地在光纤连接器等工件的端面上多级地进行研磨的研磨方法和研磨膜。而抵靠所述工件布置在抛光机上抛光膜的端面，和相对移动，从而在工件的端面和研磨盘在平行的平面内的基准面共同研磨的多个工作步骤进行工件的端面的研磨方法，以及直径2R靠在抛光膜的圆形运动，圆周运动的中心，在抛光膜线性地移动在一个方向上以预定的距离S，抛光膜，直线沿着运动，第一，第二和第三研磨面的方向上，不小于圆周运动的直径2R抛光表面的线性运动方向，抛光膜还圆形运动的长度小以便不跨越一个旋转是减少跨越不同的抛光表面预定距离S的范围内，或一转是从圆形运动的抛光表面不同，则在第一和第二抛光表面之间 1个清洁表面以及第二和第三抛光表面之间和第二清洁表面。

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