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1. 发明授权

CN109881166B 溅射阴极、溅射装置和成膜体的制造方法有权
公开(公告)号：CN109881166B
公开(公告)日：2021-04-20
申请号：CN201910226747.1
申请日：2017-01-25
申请人：京浜乐梦金属科技株式会社
发明人：岩田宽 , 根津敏幸 , 高桑勇太 , 冈田直弥 , 佐藤一平 , 柴田尚宪 , 桥本敬一
IPC分类号： C23C14/34 , C23C14/35 , C23C14/56 , H01J37/34 , H05H1/50
摘要：本发明涉及溅射阴极、溅射装置和成膜体的制造方法。溅射阴极具有溅射靶，所述溅射靶具有横截面形状具有相互相对的一对长边部的管状的形状且侵蚀面朝向内侧。使用该溅射阴极，在由溅射靶包围的空间的上方，使具有宽度比溅射靶的长边部窄的成膜区域的被成膜体与溅射靶的一端面平行地且沿与长边部垂直的方向以恒定速度移动，同时进行放电使得产生沿着溅射靶的内表面环绕的等离子体，利用由溅射气体产生的等离子体中的离子使溅射靶的长边部的内表面进行溅射，从而在被成膜体的成膜区域进行成膜。

2. 发明公开

CN107614747A 溅射阴极、溅射装置和成膜体的制造方法有权
公开(公告)号：CN107614747A
公开(公告)日：2018-01-19
申请号：CN201780001627.0
申请日：2017-01-25
申请人：京浜乐梦金属科技株式会社
发明人：岩田宽 , 根津敏幸 , 高桑勇太 , 冈田直弥 , 佐藤一平 , 柴田尚宪 , 桥本敬一
IPC分类号： C23C14/34 , H05H1/46
摘要：溅射阴极具有溅射靶，所述溅射靶具有横截面形状具有相互相对的一对长边部的管状的形状且侵蚀面朝向内侧。使用该溅射阴极，在由溅射靶包围的空间的上方，使具有宽度比溅射靶的长边部窄的成膜区域的被成膜体与溅射靶的一端面平行地且沿与长边部垂直的方向以恒定速度移动，同时进行放电使得产生沿着溅射靶的内表面环绕的等离子体，利用由溅射气体产生的等离子体中的离子使溅射靶的长边部的内表面进行溅射，从而在被成膜体的成膜区域进行成膜。

3. 发明授权

CN113843495B 金属结构体的制造方法有权
公开(公告)号：CN113843495B
公开(公告)日：2023-09-19
申请号：CN202110588921.4
申请日：2021-05-28
申请人：京浜乐梦金属科技株式会社
发明人：柴田尚宪
IPC分类号： B23K20/12
摘要：本发明提供一种可有效率地形成具有优异的密封性的密封空间，并且可提高密封空间的设计自由度的金属结构体的制造方法。本发明是一种金属结构体的制造方法，其特征在于，所述金属结构体在内部具有至少一个密封空间，且制造方法包括：2个金属部件的准备步骤；2个金属部件的组装步骤；密封步骤，沿着工具的移动路径形成接合部，所述接合部以在2个金属部件之间形成至少一个密封空间的方式将2个金属部件接合；以及扩大步骤，在将工具从组装体的上表面的拔出位置拔出之前，使工具移动以形成接合部，所述接合部是以扩大工具到达拔出位置时形成的终端接合部的方式形成。

4. 发明授权

CN112004958B 溅射阴极、溅射阴极组件、以及溅射装置有权
公开(公告)号：CN112004958B
公开(公告)日：2022-11-11
申请号：CN201980027502.4
申请日：2019-04-12
申请人：京浜乐梦金属科技株式会社
发明人：岩田宽
IPC分类号： C23C14/34 , C23C14/35 , H05H1/46
摘要：本发明提供一种溅射阴极以及使用该溅射阴极的溅射装置，其可以在包括平板状的被成膜体在内的各种被成膜体上以足够高的成膜速度且低冲击力进行成膜，而且溅射靶的使用效率高。溅射阴极具有溅射靶(10)，所述溅射靶(10)的横截面形状具有管状的形状，且具有彼此相对的一对长边部，所述溅射靶(10)的侵蚀面朝向内侧，并且，沿所述溅射靶(10)设置有磁路，一对长边部由具有圆柱形状的旋转靶(11，12)构成。旋转靶构成为在内部设置有磁路，而且使冷却水流动。磁路平行于旋转靶的中心轴线设置，并且，具有长方形的横截面形状，且横截面形状具有垂直于旋转靶的半径方向的长边。

5. 发明公开

CN115287613A 溅射阴极、溅射阴极组件、以及溅射装置审中-实审
公开(公告)号：CN115287613A
公开(公告)日：2022-11-04
申请号：CN202210843208.4
申请日：2019-04-12
申请人：京浜乐梦金属科技株式会社
发明人：岩田宽
IPC分类号： C23C14/35 , H01J37/34
摘要：本发明提供一种溅射阴极以及使用该溅射阴极的溅射装置，其可以在包括平板状的被成膜体在内的各种被成膜体上以足够高的成膜速度且低冲击力进行成膜，而且溅射靶的使用效率高。溅射阴极具有溅射靶(10)，所述溅射靶(10)的横截面形状具有管状的形状，且具有彼此相对的一对长边部，所述溅射靶(10)的侵蚀面朝向内侧，并且，沿所述溅射靶(10)设置有磁路，一对长边部由具有圆柱形状的旋转靶(11，12)构成。旋转靶构成为在内部设置有磁路，而且使冷却水流动。磁路平行于旋转靶的中心轴线设置，并且，具有长方形的横截面形状，且横截面形状具有垂直于旋转靶的半径方向的长边。

6. 发明公开

CN109881166A 溅射阴极、溅射装置和成膜体的制造方法有权
公开(公告)号：CN109881166A
公开(公告)日：2019-06-14
申请号：CN201910226747.1
申请日：2017-01-25
申请人：京浜乐梦金属科技株式会社
发明人：岩田宽 , 根津敏幸 , 高桑勇太 , 冈田直弥 , 佐藤一平 , 柴田尚宪 , 桥本敬一
IPC分类号： C23C14/34 , C23C14/35 , C23C14/56 , H01J37/34 , H05H1/50
摘要：本发明涉及溅射阴极、溅射装置和成膜体的制造方法。溅射阴极具有溅射靶，所述溅射靶具有横截面形状具有相互相对的一对长边部的管状的形状且侵蚀面朝向内侧。使用该溅射阴极，在由溅射靶包围的空间的上方，使具有宽度比溅射靶的长边部窄的成膜区域的被成膜体与溅射靶的一端面平行地且沿与长边部垂直的方向以恒定速度移动，同时进行放电使得产生沿着溅射靶的内表面环绕的等离子体，利用由溅射气体产生的等离子体中的离子使溅射靶的长边部的内表面进行溅射，从而在被成膜体的成膜区域进行成膜。

7. 发明公开

CN114342090A 积层结构体及积层结构体的制造方法审中-实审
公开(公告)号：CN114342090A
公开(公告)日：2022-04-12
申请号：CN202080060403.9
申请日：2020-08-25
申请人：京浜乐梦金属科技株式会社
发明人：岩田寛
IPC分类号： H01L31/0216 , H01L31/0224 , H01L31/0747 , H01L31/18
摘要：本发明的课题在于提供一种积层结构体(1)，所述积层结构体(1)能够防止或抑制含有扩散成分的层(12、16)中的该扩散成分向与该层(12、16)邻接的层(14、17)扩散。本发明的积层结构体(1)具有：导电层(12、16)，具有导电性，并且含有能够向邻接的层(14、17)扩散的扩散成分；及导电性扩散防止层(14、17)，以与导电层(12、16)邻接的方式设置，含有至少1种金属或金属氧化物以具有导电性，并且含有稀有气体，所述稀有气体的原子数相对于至少1种金属或金属氧化物中的主金属的原子数的比率为0.40以上。

8. 发明公开

CN113351983A 金属结构的制造方法有权
公开(公告)号：CN113351983A
公开(公告)日：2021-09-07
申请号：CN202110230735.3
申请日：2021-03-02
申请人：京浜乐梦金属科技株式会社
发明人：佐藤一平
IPC分类号： B23K20/12 , B23K37/04
摘要：本发明的课题在于提供一种可抑制乃至防止制造步骤的繁杂化或制造装置的复杂化，且抑制乃至防止接合部位的缺陷的产生、与摩擦搅拌接合的工具的破损的金属结构的制造方法。本发明的金属结构的制造方法中，金属结构包含在沿垂直方向相互重叠的状态下利用摩擦搅拌接合而接合的2个金属部件，2个金属部件通过沿垂直方向相互重叠从而形成为在2个金属部件之间具有内部空间的组装体，所述制造方法具有以下步骤：准备步骤，准备2个金属部件；组装步骤，通过将2个金属部件沿垂直方向重叠而形成组装体；固定步骤，通过在沿垂直方向观察组装体时不与内部空间重合的位置上，将至少1个金属制固定部件沿垂直方向至少部分地插入2个金属部件，而将2个金属部件沿垂直方向相互固定；及接合步骤，一边旋转用于摩擦搅拌接合的工具一边将其插入组装体的上表面，工具通过金属制固定部件的固定位置，且以在固定位置上2个金属部件各自的一部分与金属制固定部件的至少一部分均处于摩擦搅拌接合的范围内的方式使工具移动，由此接合2个金属部件。

9. 发明授权

CN107614747B 溅射阴极、溅射装置和成膜体的制造方法有权
公开(公告)号：CN107614747B
公开(公告)日：2019-06-11
申请号：CN201780001627.0
申请日：2017-01-25
申请人：京浜乐梦金属科技株式会社
发明人：岩田宽 , 根津敏幸 , 高桑勇太 , 冈田直弥 , 佐藤一平 , 柴田尚宪 , 桥本敬一
IPC分类号： C23C14/34 , H05H1/46
摘要：溅射阴极具有溅射靶，所述溅射靶具有横截面形状具有相互相对的一对长边部的管状的形状且侵蚀面朝向内侧。使用该溅射阴极，在由溅射靶包围的空间的上方，使具有宽度比溅射靶的长边部窄的成膜区域的被成膜体与溅射靶的一端面平行地且沿与长边部垂直的方向以恒定速度移动，同时进行放电使得产生沿着溅射靶的内表面环绕的等离子体，利用由溅射气体产生的等离子体中的离子使溅射靶的长边部的内表面进行溅射，从而在被成膜体的成膜区域进行成膜。

10. 发明授权

CN113351983B 金属结构的制造方法有权
公开(公告)号：CN113351983B
公开(公告)日：2022-12-13
申请号：CN202110230735.3
申请日：2021-03-02
申请人：京浜乐梦金属科技株式会社
发明人：佐藤一平
IPC分类号： B23K20/12 , B23K37/04
摘要：本发明的课题在于提供一种可抑制乃至防止制造步骤的繁杂化或制造装置的复杂化，且抑制乃至防止接合部位的缺陷的产生、与摩擦搅拌接合的工具的破损的金属结构的制造方法。本发明的金属结构的制造方法中，金属结构包含在沿垂直方向相互重叠的状态下利用摩擦搅拌接合而接合的2个金属部件，2个金属部件通过沿垂直方向相互重叠从而形成为在2个金属部件之间具有内部空间的组装体，所述制造方法具有以下步骤：准备步骤，准备2个金属部件；组装步骤，通过将2个金属部件沿垂直方向重叠而形成组装体；固定步骤，通过在沿垂直方向观察组装体时不与内部空间重合的位置上，将至少1个金属制固定部件沿垂直方向至少部分地插入2个金属部件，而将2个金属部件沿垂直方向相互固定；及接合步骤，一边旋转用于摩擦搅拌接合的工具一边将其插入组装体的上表面，工具通过金属制固定部件的固定位置，且以在固定位置上2个金属部件各自的一部分与金属制固定部件的至少一部分均处于摩擦搅拌接合的范围内的方式使工具移动，由此接合2个金属部件。

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