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1. 发明申请

WO2011039022A1 VERFAHREN ZUR ERSTELLUNG EINES BESTRAHLUNGSPLANS, VERFAHREN ZUR ANPASSUNG UND OPTIMIERUNG EINER BESTRAHLUNGSPLANUNG, BESTRAHLUNGSPLANUNGSEINRICHTUNG SOWIE BESTRAHLUNGSANLAGE 审中-公开
标题翻译：方法创建计划辐射方法调整和辐射设计的最优化，辐射设计装置和照射系统
公开(公告)号：WO2011039022A1
公开(公告)日：2011-04-07
申请号：PCT/EP2010/062700
申请日：2010-08-31
申请人： GSI HELMHOLTZZENTRUM FÜR SCHWERIONENFORSCHUNG GMBH , SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFT , BERT, Christoph , GEMMEL, Alexander , RIETZEL, Eike
发明人： BERT, Christoph , GEMMEL, Alexander , RIETZEL, Eike
IPC分类号： A61N5/10
CPC分类号： A61N5/1031 , A61N5/1038 , A61N5/1044 , A61N2005/1087
摘要： Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Erstellung eines Bestrahlungsplans, umfassend folgende Schritte: a) Bereitstellen eines Abbildungsdatensatzes von dem zu bestrahlenden Zielobjekt, welches ein Zielvolumen (14) umfasst, b) Vorgeben eines im Abbildungsdatensatz abgebildeten Zielvolumens (14) und einer zu erfüllenden Bedingung, c) Durchführen eines Optimierungsverfahrens zur Ermittlung eines Parametersatzes, mit welchem eine Bestrahlungsanlage (10) steuerbar ist, wobei bei dem Optimierungsverfahren der Parametersatz hinsichtlich der zu erfüllenden Bedingung unter Verwendung des Abbildungsdatensatzes optimiert wird und hierzu Rechenschritte durchgeführt werden, welche die Wirkung des Strahls auf das Zielobjekt kennzeichnen, d) Erzeugen eines Bestrahlungsplanungsdatensatzes (40), indem der optimierte Parametersatz in dem Bestrahlungsplanungsdatensatz (40) gespeichert wird, und wobei zusätzlich zu dem optimierten Parametersatz zumindest ein Teil der Zwischenergebnisse, welche bei dem Durchführen der Rechenschritte bei der Ermittlung des optimierten Parametersatzes ermittelt worden sind, gespeichert werden. Weiterhin betrifft die Erfindung Verfahren, in welchen ein derartiger Bestrahlungsplanungsdatensatz verwendet wird. Zudem betrifft die Erfindung eine entsprechend ausgebildete Bestrahlungsplanungseinrichtung sowie eine Bestrahlungsanlage einer solchen Bestrahlungsplanungseinrichtung.
摘要翻译：本发明涉及一种方法，用于生成辐射治疗计划，其包括以下步骤：a）提供的成像数据从所述被照射目标物设置，包括目标体积（14），b）中的一个在成像数据设定的目标体积（14成像指定）和一个要满足的条件， C）用于确定一组的参数，利用该照射单元（10）是可控制的，其特征在于，在相对于该设定的参数的优化过程优化，以使用所述图像数据集满足条件执行优化过程，该计算步骤被执行示出的光束的对效果识别目标对象，D）产生由优化的参数集的处理规划数据集（40）被存储在治疗规划数据集（40），并且其中除了优化的参数集合中的至少一些中间结果中，这在执行所述计算步骤中存储已经在优化的参数集合的确定来确定。此外，本发明涉及其中这样的治疗计划数据集使用的方法。此外，本发明涉及一种适当设计的治疗规划设备，并且这样的治疗计划装置的放射治疗系统。

2. 发明申请

WO2010043340A1 VORRICHTUNG UND VERFAHREN ZUR BESTIMMUNG VON STEUERPARAMETERN FÜR EINE BESTRAHLUNGSANLAGE, BESTRAHLUNGSANLAGE UND BESTRAHLUNGSVERFAHREN 审中-公开
标题翻译：设备和方法控制参数对辐射系统的，曝光系统和曝光测定方法
公开(公告)号：WO2010043340A1
公开(公告)日：2010-04-22
申请号：PCT/EP2009/007244
申请日：2009-10-08
申请人： GSI HELMHOLTZZENTRUM FÜR SCHWERIONENFORSCHUNG GMBH , SIEMENS AG , BERT, Christoph , RIETZEL, Eike , GEMMEL, Alexander , SAITO, Nami
发明人： BERT, Christoph , RIETZEL, Eike , GEMMEL, Alexander , SAITO, Nami
IPC分类号： A61N5/10
CPC分类号： A61N5/1049 , A61N5/1043 , A61N5/1044 , A61N5/1065 , A61N2005/1087
摘要： Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zur Bestimmung von Steuerparametern für eine Bestrahlungsanlage, mit welcher eine Vielzahl von Strahlungsdosen nacheinander an unterschiedlichen Zielpunkten in einem Zielvolumen deponierbar ist. Die Vorrichtung umfasst eine Eingabeeinrichtung, welche zum Erfassen eines Zielgebietes und zum Erfassen einer Bewegung des Zielgebiets ausgebildet ist, eine Auswertungseinrichtung zum Ermitteln von Steuerparametern zur Steuerung eines Strahls, derart, dass mit Hilfe der Steuerparameter ein Strahl der Bewegung des Zielgebiets nachführbar ist und in dem Zielgebiet eine definierte Dosisverteilung deponierbar ist, wobei die Auswertungseinrichtung derart ausgebildet ist, dass bei der Ermittlung der Steuerparameter zumindest ein erster wählbarer Steuerparameter so bestimmt wird, dass der Strahl der Bewegung des Zielgebiets lediglich orthogonal zur Strahlrichtung nachgeführt wird, oder dass bei der Ermittlung der Steuerparameter zumindest ein erster wählbarer Steuerparameter und ein weiterer Steuerparameter, welcher eine Energiemodulation des Strahls repräsentiert, ermittelt werden, wobei die Ermittlung des zumindest einen ersten Steuerparameters und des weiteren Steuerparameters unter Berücksichtigung der Bewegungsnachführung in Strahlrichtung erfolgt.
摘要翻译：本发明涉及一种设备，用于确定与该多个辐射的垃圾填埋场中依次在不同的目标点在目标体积剂量进行处置的照射系统的控制参数。该设备包括适于检测的目标区域的输入装置和用于检测所述目标区域的运动，一个评估装置，用于确定用于控制光束，控制参数，使得与所述控制参数的帮助下，一个光束在目标区域的运动能够被跟踪，并且其中正交跟踪到波束方向，或者，在所述控制参数的确定目标区域的规定剂量分布被填埋，其特征在于，所述评估设备被设计成使得至少一个第一可选择的控制参数被确定为在控制参数的确定，使得光束跟随目标区域的运动仅是至少一个第一可选择的控制参数，并表示所述束的能量调制一个另外的控制参数，来确定，其中，确定所述至少一个第一控制参数和所述下进一步控制参数进行考虑到运动中的光束方向跟踪。

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