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    • 2. 发明专利
    • Optoelektronisches Bauelement
    • DE102015111130B4
    • 2022-07-07
    • DE102015111130
    • 2015-07-09
    • OSRAM OPTO SEMICONDUCTORS GES MIT BESCHRAENKTER HAFTUNG
    • KREUTER PHILIPPVARGHESE TANSENSCHMID WOLFGANGBRÖLL MARKUS
    • H01L33/38H01L31/0224H01L31/0232H01L33/06H01L33/30H01L33/58
    • Optoelektronisches Bauelement (100), aufweisend:- eine Halbleiterschichtenfolge (1) mit einer ersten Schicht (10), einer zweiten Schicht (12) und einer zwischen der ersten (10) und zweiten Schicht (12) angeordneten aktiven Schicht (11), wobei die aktive Schicht (11) direkt an die erste (10) und zweite Schicht (12) angrenzt,- einer Strahlungsfläche (13), die direkt an die zweite Schicht (12) grenzt und über die im Betrieb Strahlung aus oder in die Halbleiterschichtenfolge (1) gekoppelt wird,- eine oder mehrere Kontaktinseln (20) zur elektrischen Kontaktierung der ersten Schicht (10),- eine oder mehrere Durchkontaktierungen (23) zur elektrischen Kontaktierung der zweiten Schicht (12), wobei- die Durchkontaktierungen (23) durch die erste Schicht (10) und die aktive Schicht (11) geführt sind und in die zweite Schicht (12) münden,- die Kontaktinseln (20) lateral nebeneinander direkt auf einer der Strahlungsfläche (13) abgewandten Rückseite (15) der ersten Schicht (10) aufgebracht sind,- in Draufsicht auf die Rückseite (15) die Durchkontaktierungen (23) in Bereichen zwischen den Kontaktinseln (20) angeordnet sind,- jede Kontaktinsel (20) lateral vollständig von einem elektrischen Isolationsbereich (3) umgeben ist und durch den Isolationsbereich (3) von den übrigen Kontaktinseln (20) in lateraler Richtung beabstandet und getrennt ist,- ein Flächenwiderstand der zweiten Schicht (12) höchstens ein Viertel eines Flächenwiderstands der ersten Schicht (10) beträgt,- die Strahlungsfläche (13) Strukturierungen in Form von Mikrolinsen (14) aufweist,- jeder Kontaktinsel (20) eine Mikrolinse (14) gegenüberliegt, so dass in Draufsicht auf die Strahlungsfläche (13) jede Kontaktinsel (20) teilweise oder vollständig mit einer Mikrolinse (14) überlappt.
    • 7. 发明专利
    • Verfahren zur Herstellung von optoelektronischen Halbleiterchips und optoelektronische Halbleiterchips
    • DE112016003142B4
    • 2022-05-05
    • DE112016003142
    • 2016-07-11
    • OSRAM OPTO SEMICONDUCTORS GES MIT BESCHRAENKTER HAFTUNG
    • PERZLMAIER KORBINIANHÖPPEL LUTZ
    • H01L33/02H01L23/60H01L33/20H01L33/30H01L33/38H01L33/40H01L33/42H01L33/44
    • Verfahren zur Herstellung eines optoelektronischen Halbleiterchips (1) mit den Schritten:a) Bereitstellen einer Halbleiterschichtenfolge (3) umfassend eine erste Halbleiterschicht (3a) und eine zweite Halbleiterschicht (3b), sowie einer ersten Kontaktschicht (5a), die sich lateral entlang der ersten Halbleiterschicht (3a) erstreckt und diese elektrisch kontaktiert;b) Aufbringen einer dritten Halbleiterschicht (7) auf einer der Halbleiterschichtenfolge (3) abgewandten Seite der ersten Kontaktschicht (5a);c) Ausbilden einer Ausnehmung (8), die sich durch die dritte Halbleiterschicht (7), die erste Kontaktschicht (5a) und die erste Halbleiterschicht (3a) hindurch in die zweite Halbleiterschicht (3b) hinein erstreckt;d) Aufbringen einer Passivierungsschicht (9) auf einer der Halbleiterschichtenfolge (3) abgewandten Seite der dritten Halbleiterschicht (7);e) Ausbilden von wenigstens einer ersten Durchgangsöffnung (9a) und wenigstens einer zweiten Durchgangsöffnung (9b, 9c) in der Passivierungsschicht (9); undf) Aufbringen einer zweiten Kontaktschicht (5b), wobei die zweite Kontaktschicht (5b) die zweite Halbleiterschicht (3b) im Bereich der wenigstens einen ersten Durchgangsöffnung (9a) elektrisch kontaktiert, und die dritte Halbleiterschicht (7) im Bereich der wenigstens einen zweiten Durchgangsöffnung (9b, 9c) elektrisch kontaktiert, wobei- zusätzlich ein Teil der Passivierungsschicht (7) auf einer der Halbleiterschichtenfolge (3) abgewandten Seite der ersten Kontaktschicht (5a) aufgebracht wird; und- wenigstens eine weitere Durchgangsöffnung (9d) in der Passivierungsschicht (9) ausgebildet wird, so dass die erste Kontaktschicht (5a) die dritte Halbleiterschicht (7) im Bereich der wenigstens einen weiteren Durchgangsöffnung (9d) elektrisch kontaktiert.