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1. 发明专利

JP6928921B1 圧縮装置有权
公开(公告)号：JP6928921B1
公开(公告)日：2021-09-01
申请号：JP2021511674
申请日：2020-11-27
申请人：パナソニックIPマネジメント株式会社
发明人：嘉久和孝 , 喜多洋三 , 酒井修
IPC分类号： C01B3/00 , H01M8/0656 , H01M8/04 , C25B9/00
摘要：本開示の圧縮装置は、電解質膜と、前記電解質膜の一方の主面に設けられたアノードと、前記電解質膜の他方の主面に設けられたカソードと、前記アノード上に設けられたアノードセパレーターと、前記カソード上に設けられたカソードセパレーターと、前記アノードと前記カソードとの間に電圧を印加する電圧印加器とを備え、前記電圧印加器が前記電圧を印加することで、前記アノードに供給されたアノード流体から取り出されたプロトンを、前記電解質膜を介してカソードに移動させ、圧縮された水素を生成する圧縮装置であって、前記カソードセパレーターは、前記カソード側の主面上に、当該主面の前記カソードに対向する領域を囲む第1のOリング溝が設けられ、前記第1のOリング溝に保持される第1のOリングと、前記アノードセパレーターのアノード側の主面の前記アノードに対向する領域の外周上に設けられた、面シール材と、を備える。

2. 发明专利

JP6893310B2 水素システム有权
公开(公告)号：JP6893310B2
公开(公告)日：2021-06-23
申请号：JP2021513927
申请日：2020-03-04
申请人：パナソニックIPマネジメント株式会社
发明人：酒井修 , 脇田英延 , 岡市敦雄
IPC分类号： H01M8/0656 , C01B3/38 , C01B3/50 , C01B3/56 , H01M8/0612

3. 发明专利

JP6675098B2 水素純化装置及び水素純化システム有权
公开(公告)号：JP6675098B2
公开(公告)日：2020-04-01
申请号：JP2016148659
申请日：2016-07-28
申请人：パナソニックIPマネジメント株式会社
发明人：脇田英延 , 伊藤靖彦 , 岡市敦雄 , 酒井修
IPC分类号： C01B3/58 , C01B3/38 , B01J23/46 , C01B3/56

4. 发明专利

JP6771141B1 水素システムおよび水素システムの運転方法有权
公开(公告)号：JP6771141B1
公开(公告)日：2020-10-21
申请号：JP2020531547
申请日：2020-03-04
申请人：パナソニックIPマネジメント株式会社
发明人：脇田英延 , 鎌田智也 , 酒井修 , 鵜飼邦弘 , 可児幸宗 , 山本恵一 , 萬家美紗
IPC分类号： H01M8/0606 , H01M8/04 , B01D53/22 , B01D53/26 , B01D71/82 , C01B3/56
摘要：水素システムは、アノードに供給するアノード流体から取り出されたプロトンが、電解質膜を介してカソードに移動し、圧縮された水素が生成される圧縮器と、水透過膜、水透過膜の一方の主面上に設けられ、圧縮器のカソードから排出されるカソードガスが流通するカソードガス流路および水透過膜の他方の主面上に設けられ、カソードガスより低圧の液体が満ちている収容部を含み、カソードガスに含まれる水分を除去する第1の除去器と、を備える。

5. 发明专利

JP2019206749A 水素供給システムおよび水素供給システムの運転方法审中-公开
公开(公告)号：JP2019206749A
公开(公告)日：2019-12-05
申请号：JP2019051497
申请日：2019-03-19
申请人：パナソニックIPマネジメント株式会社
发明人：脇田英延 , 鵜飼邦弘 , 酒井修 , 辻庸一郎
IPC分类号： C01B3/50 , C01B3/00 , H01M8/0606 , C25B1/02 , C25B9/02 , C25B15/02 , C25B15/00
摘要：【課題】電気化学式水素ポンプの水素昇圧動作の効率を向上させた水素供給システムを提供すること。【解決手段】水素供給システムは、電解質膜1、電解質膜の一方の主面に設けられたアノードAN、アノード上の水素含有ガスが流れるアノード流路6、電解質膜の他方の主面に設けられたカソードCA、カソード上の水素が流れるカソード流路7、並びに電圧印加器21とからなる電気化学式ポンプ100、カソード流路の圧力調整器22、及び制御器50を備える。制御器は、電気化学式水素ポンプにおいて、電圧印加器がアノードおよびカソード間の電圧を印加して、アノードに供給される水素含有ガス中の水素をカソードに昇圧して送る動作の前に、圧力調整器を制御してカソード流路の圧力をアノード流路の圧力より高くして、カソード流路内の昇圧された水素を水素貯蔵器11に供給する。【選択図】図2

6. 发明专利

JP6178986B2 膜触媒層接合体の製造装置及び製造方法有权
公开(公告)号：JP6178986B2
公开(公告)日：2017-08-16
申请号：JP2013247136
申请日：2013-11-29
申请人：パナソニックIPマネジメント株式会社
发明人：今倉精一 , 酒井修 , 中木寿弘 , 永井宏幸
IPC分类号： H01M4/88 , H01M8/02
CPC分类号： Y02P70/56

7. 发明专利

JP6979626B2 水素供給システム有权
公开(公告)号：JP6979626B2
公开(公告)日：2021-12-15
申请号：JP2017151767
申请日：2017-08-04
申请人：パナソニックIPマネジメント株式会社
发明人：鵜飼邦弘 , 酒井修 , 脇田英延
IPC分类号： C25B1/02 , C25B9/00 , C25B9/23 , C25B15/00 , C25B15/023

8. 发明专利

JPWO2020230417A1 水素システム有权
公开(公告)号：JPWO2020230417A1
公开(公告)日：2021-09-13
申请号：JP2020009170
申请日：2020-03-04
申请人：パナソニックIPマネジメント株式会社
发明人：酒井修 , 脇田英延 , 岡市敦雄
IPC分类号： H01M8/04014 , H01M8/04 , H01M8/0432 , H01M8/04746 , H01M8/04858 , H01M8/04701 , H01M8/0612 , C01B3/00 , C01B3/38 , C01B3/56 , C25B1/042 , C25B9/00 , H01M8/0656
摘要：水素システムは、電解質膜、電解質膜の一方の主面に設けられたアノード、電解質膜の他方の主面に設けられたカソード、および、アノードおよびカソード間に電圧を印加する電圧印加器を備え、電圧印加器によりアノードおよびカソード間に電圧を印加して、アノードに供給される、水蒸気を含む水素含有ガス中の水素を、電解質膜を介してカソードに移動させ、圧縮された水素を生成する圧縮装置と、アノードに供給される、水素含有ガスが流れる供給路と、供給路上に設けられた冷却機構と、供給路上に設けられ、冷却機構よりも上流の供給路を流れる水素含有ガスと冷却機構よりも下流の供給路を流れる水素含有ガスとの間で熱交換する熱交換器と、を備える。

9. 发明专利

JP2019031700A 水素供給システム审中-公开
公开(公告)号：JP2019031700A
公开(公告)日：2019-02-28
申请号：JP2017151767
申请日：2017-08-04
申请人：パナソニックIPマネジメント株式会社
发明人：鵜飼邦弘 , 酒井修 , 脇田英延
IPC分类号： C25B9/00 , C25B15/02
摘要：【課題】水素の拡散性を適切に確保することで、水素圧縮動作時の効率を従来よりも向上し得る水素供給システムの提供。【解決手段】電解質膜14と、電解質膜14の一方の主面に設けられたカソード触媒層及びカソード触媒層に接して設けられたカソードガス拡散層を含むカソードと、電解質膜の他方の主面に設けられたアノード触媒層およびアノード触媒層に接して設けられたアノードガス拡散層を含むアノードと、カソード触媒層およびアノード触媒層の間に電圧を印加する電圧印加器19と、電圧印加器19により電圧を印加して、アノードからカソードにプロトンを移動させる動作中に、電圧印加器19による電圧印加を中断させる制御器50と、を備える水素供給システム200。【選択図】図1

10. 发明专利

JP2018090899A 電気化学式水素ポンプ审中-公开
公开(公告)号：JP2018090899A
公开(公告)日：2018-06-14
申请号：JP2017174209
申请日：2017-09-11
申请人：パナソニックIPマネジメント株式会社
发明人：酒井修 , 鵜飼邦弘 , 脇田英延 , 可児幸宗 , 藥丸雄一 , 宗徳隆資
IPC分类号： C25B9/00 , C25B9/10
CPC分类号： C01B3/58 , B01D53/326 , B01D2256/16 , C01B3/503 , C25B1/12 , H01M8/0232 , H01M8/0271 , H01M8/04201 , H01M8/0681 , H01M8/141 , H01M8/248 , H01M2008/1095 , Y02E60/366
摘要：【課題】簡易かつ適切に電解質膜とカソード給電体との間の接触抵抗の増加を抑制する方法の提供。【解決手段】電気化学式水素ポンプ、一対の主面を備える電解質膜14と、主面に設けたカソード触媒層15と、アノード触媒層16と、電解質膜の反対側のカソード触媒層面上に設けたカソードガス拡散層31Aと、カソードガス拡散層からのカソードガスが流れる凹部を備えるセパレータと、電解質膜の反対側のアノード触媒層の主面上に設けたアノードガス拡散層24と、カソード触媒層とアノード触媒層の間に電圧を印加する電圧印加器と、電解質膜、カソード触媒層、アノード触媒層、カソードガス拡散層及びアノードガス拡散層の積層体100Bを締結する締結器と、を備え、カソードガス拡散層は、凹部に収納され、積層体の締結前に、凹部からその厚み方向にはみ出して配設され、カソードガス拡散層の側面と凹部の側面との間に弾性部材を備える。【選択図】図2

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