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1. 发明专利

TW196793B 多孔性陶瓷製造用生料以及使用此生料所得的多孔性陶瓷失效
简体标题：多孔性陶瓷制造用生料以及使用此生料所得的多孔性陶瓷
公开(公告)号：TW196793B
公开(公告)日：1992-12-21
申请号：TW081100283
申请日：1992-01-16
申请人：日本觸媒股份有限公司
发明人：大?重美 , 本輝之 , 秦和男 , 高橋典
IPC分类号： C04B
摘要：＜構成＞
一種由透明性氧化鋯溶膠、耐火物微粒子及有機黏合劑所構成之多孔性陶瓷製造用生料及使用此生料所得的多孔性陶瓷。
＜效果＞
使用此生料所得的濕鑄模耐水性佳，並有高強度。此外，燒此濕鑄模所得的鑄模強度佳，同時可更加抑制和高活性金屬，特別是鈦或鈦合金之反應性，故適合這些金屬的精密鑄造用鑄模。
简体摘要：＜构成＞一种由透明性氧化锆溶胶、耐火物微粒子及有机黏合剂所构成之多孔性陶瓷制造用生料及使用此生料所得的多孔性陶瓷。＜效果＞使用此生料所得的湿铸模耐水性佳，并有高强度。此外，烧此湿铸模所得的铸模强度佳，同时可更加抑制和高活性金属，特别是钛或钛合金之反应性，故适合这些金属的精密铸造用铸模。

2. 发明专利

TW568903B 製造鄰苯二甲酸酐之方法有权
简体标题：制造邻苯二甲酸酐之方法
公开(公告)号：TW568903B
公开(公告)日：2004-01-01
申请号：TW089112170
申请日：2000-06-21
申请人：日本觸媒股份有限公司 NIPPON SHOKUBAI CO., LTD.
发明人：奧野政昭 , 高橋典
IPC分类号： C07C
CPC分类号： C07C51/265 , C07C51/313 , C07C63/16
摘要：本發明係利用一或多個固定床反應器，經由鄰二甲苯及/或與含氧氣體之氣相催化氧化，而製造鄰苯二甲酸酐。在此方法中，氣相催化氧化方法係在3或更多單獨的催化層中進行，而鄰二甲苯及/或在各催化層之轉換率係在一特定範圍中控制。此方法可提供高產量的鄰苯二甲酸酐，可以降低催化劑隨時間的惡化之程度，而即使提供高濃度的原料氣體，亦可持續穩定安全地製造鄰苯二甲酸酐。
简体摘要：本发明系利用一或多个固定床反应器，经由邻二甲苯及/或与含氧气体之气相催化氧化，而制造邻苯二甲酸酐。在此方法中，气相催化氧化方法系在3或更多单独的催化层中进行，而邻二甲苯及/或在各催化层之转换率系在一特定范围中控制。此方法可提供高产量的邻苯二甲酸酐，可以降低催化剂随时间的恶化之程度，而即使提供高浓度的原料气体，亦可持续稳定安全地制造邻苯二甲酸酐。

3. 发明专利

TW593304B 酸酐之製造方法失效
简体标题：酸酐之制造方法
公开(公告)号：TW593304B
公开(公告)日：2004-06-21
申请号：TW091114675
申请日：2002-07-03
申请人：日本觸媒股份有限公司 NIPPON SHOKUBAI CO., LTD.
发明人：江本泰久 , 高橋典 , 弘中秀幸 , 安養寺和夫 , 鵜原洋之 UHARA HIROYUKI
IPC分类号： C07D
摘要：【課題】
提供一酸酐製造方法，在將芳香族化合物實施接觸氣相氧化來製造酸酐時，由於能提升產率，且能簡便設置副產物處理觸媒，故能減輕建造成本、容易引進現有工廠設備中。【解決手段】
一種酸酐之製造方法，係包含藉由必須使用多管式固定床反應器之反應裝置來對含芳香族化合物之原料進行接觸氣相氧化之製程，其中，該必須使用多管式固定床反應器之反應裝置，係受到溫度控制，且具有將原料的90%以上加以消耗之第1觸媒層、及位於該第1觸媒層之後之第2觸媒層，該第2觸媒層，其導入氣體溫度為該第1觸媒層控制溫度之95%以上之溫度，且所充填之觸媒活性小於該第1觸媒層最後部之觸媒活性。
简体摘要：【课题】提供一酸酐制造方法，在将芳香族化合物实施接触气相氧化来制造酸酐时，由于能提升产率，且能简便设置副产物处理触媒，故能减轻建造成本、容易引进现有工厂设备中。【解决手段】一种酸酐之制造方法，系包含借由必须使用多管式固定床反应器之反应设备来对含芳香族化合物之原料进行接触气相氧化之制程，其中，该必须使用多管式固定床反应器之反应设备，系受到温度控制，且具有将原料的90%以上加以消耗之第1触媒层、及位于该第1触媒层之后之第2触媒层，该第2触媒层，其导入气体温度为该第1触媒层控制温度之95%以上之温度，且所充填之触媒活性小于该第1触媒层最后部之触媒活性。

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