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1. 发明公开

KR20180029923A 기판 세정 장치, 기판 처리 장치, 기판 세정 방법 및 기판 처리 방법 审中-公开
标题翻译：基板清洁装置基板处理装置基板清洁方法和基板处理方法
公开(公告)号：KR20180029923A
公开(公告)日：2018-03-21
申请号：KR20170116556
申请日：2017-09-12
申请人： SCREEN HOLDINGS CO LTD
发明人： MURACHI HIROMI , YOSHIDA RYUICHI , NISHIYAMA KOJI , MOMMA TORU , SAGAE CHIKARA
IPC分类号： H01L21/67 , H01L21/02 , H01L21/304
CPC分类号： B24B29/02 , B08B1/002 , B08B1/02 , B08B3/022 , B08B7/04 , B08B11/02
摘要： 기판세정장치에있어서는, 스핀척에의해회전되는기판의일면에연마헤드가접촉한상태로, 그연마헤드가적어도기판의중심과외주부사이를이동한다. 그것에의해, 기판의일면이연마헤드에의해연마되고기판의일면상에존재하는오염이제거된다. 이때, 기판의반경방향의위치에따라서연마헤드에의한오염의제거능력이변화한다. 오염의제거능력이란, 기판의일면에부착한오염물, 및기판의일면에잔존한흡착자국및 접촉자국등을연마에의해긁어내는능력을말한다. 오염의제거능력은, 예를들면연마헤드로부터기판의일면에작용하는가압력을조정함으로써변화시킬수 있다.
摘要翻译：在基板清洗装置中，在抛光头与通过旋转卡盘旋转的基板的一个表面接触的情况下，抛光头至少在基板的中心和外周之间移动。因此，基板的一个表面被抛光头抛光，并且存在于基板的一个表面上的污染物被去除。此时，由研磨头除去污染物的能力根据基板的半径方向的位置而变化。去除污染物的能力指的是刮擦附着在基板的一个表面上的污染物的能力，以及通过抛光保留在基板的一个表面上的吸痕，接触痕迹等。例如，可以通过调整从抛光头施加在基板的一个表面上的推力来改变去除污染物的能力。

2. 发明公开

KR20180029913A 기판 세정 장치, 기판 처리 장치 및 기판 세정 방법 审中-公开
标题翻译：基板清洁装置基板处理装置和基板清洁方法
公开(公告)号：KR20180029913A
公开(公告)日：2018-03-21
申请号：KR20170115952
申请日：2017-09-11
申请人： SCREEN HOLDINGS CO LTD
发明人： MURACHI HIROMI , YOSHIDA RYUICHI , NISHIYAMA KOJI , MOMMA TORU , SAGAE CHIKARA
IPC分类号： H01L21/67 , H01L21/02
CPC分类号： B24B29/02 , B08B1/002 , B08B1/02 , B08B3/022 , B08B7/04 , B08B11/02
摘要： 회전되는기판이연마헤드및 세정브러시에의해세정된다. 연마헤드가제1의경로를따라서이동함으로써제1의궤적이형성된다. 세정브러시가제2의경로를따라서이동함으로써제2의궤적이형성된다. 제1 및제2의경로의중복영역이간섭영역으로서규정된다. 연마헤드가기판의중심으로부터외주단부를향해이동함과더불어, 연마헤드가간섭영역으로부터벗어났는지여부가판정된다. 연마헤드가간섭영역으로부터벗어났다고판정된시점에서, 세정브러시가기판의외주단부로부터중심을향하는이동을개시한다.
摘要翻译：旋转的基板通过抛光头和清洁刷进行清洁。第一轨迹由抛光头沿着第一路径的移动形成。第二轨迹由清洁刷沿第二路径的移动形成。将第一和第二路径彼此重叠的区域定义为干涉区域。抛光头从中心向基板的外周端移动，并且确定抛光头是否移出干涉区域。在确定抛光头已经移出干涉区域的时间点，清洁刷开始从外周端向基板的中心移动。

3. 发明公开

KR20180020902A 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법 审中-公开
标题翻译：基板处理装置和基板处理方法
公开(公告)号：KR20180020902A
公开(公告)日：2018-02-28
申请号：KR20170103536
申请日：2017-08-16
申请人： SCREEN HOLDINGS CO LTD
发明人： NISHIYAMA KOJI , INOUE KAZUHIRO
IPC分类号： H01L21/67 , G03F7/16 , G03F7/20 , H01L21/677
CPC分类号： G03F7/16 , B05C9/14 , B05C13/02 , G03F7/20
摘要： 노광처리전의기판이재치겸냉각부에반입되어, 냉각된다. 냉각된기판이재치겸냉각부로부터반송장치에의해유지되어, 반출된다. 노광장치가기판을받아들임가능한경우, 재치겸냉각부로부터반출된기판이반송장치에의해노광장치에반송된다. 노광장치가기판을받아들임불가능한경우, 재치겸냉각부로부터반출된기판이반송장치에의해냉각겸버퍼부에반입된다. 냉각겸버퍼부에있어서, 기판의온도가유지된다. 노광장치가기판을받아들임가능하게된 후, 반송장치에의해냉각겸버퍼부로부터기판이반출되어, 노광장치에반송된다.
摘要翻译：未进行曝光处理的基板被搬入放置冷却装置并被冷却。通过传送装置将冷却后的基板保持并从放置冷却单元中取出。在曝光装置能够接收基板的情况下，已经从放置冷却单元输出的基板通过输送装置被输送到曝光装置。在曝光装置不能接收基板的情况下，通过运送装置将从平台冷却部运出的基板搬入冷却缓冲部。在冷却缓冲单元中，保持衬底的温度。在曝光装置变得能够接收基板之后，基板从冷却缓冲单元输出并通过输送装置输送到曝光装置。

4. 发明专利

JP2017092240A ノズル待機装置および基板処理装置审中-公开
公开(公告)号：JP2017092240A
公开(公告)日：2017-05-25
申请号：JP2015220407
申请日：2015-11-10
申请人：株式会社Screenホールディングス , Screen Holdings Co Ltd
发明人： KASHIWAYAMA MASATO , TAKAHASHI YASUO , NISHIYAMA KOJI , KABUNE KOTA , KIRITA MASASHI , KADOMA TORU
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/30 , H01L21/304
摘要：【課題】基板に処理液を吐出するノズルを洗浄する際に、ノズルの洗い残しを低減できるノズル待機装置および基板処理装置を提供する。【解決手段】待機ポット31において、現像ノズル収容部33は、上面に開口部33aを有し、開口部33aを通じて現像ノズル3を収容する。ノズル洗浄液供給部37は、現像ノズル収容部33内の側面に設けられたノズル洗浄液吐出口39を有し、ノズル洗浄液吐出口39からノズル洗浄液を供給させる。ここで、そのノズル洗浄液吐出口39は、内側を向いたリング状のスリットで構成されている。これにより、現像ノズル3の全周にノズル洗浄液を均一に供給することができる。そのため、現像ノズル3の洗い残しを低減できる。【選択図】図4

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