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1. 发明公开

KR20180054547A 기판 처리 장치 审中-公开
公开(公告)号：KR20180054547A
公开(公告)日：2018-05-24
申请号：KR20180054955
申请日：2018-05-14
申请人： SCREEN HOLDINGS CO LTD
发明人： TAKEAKI REI , ANDO KOJI , MAEGAWA TADASHI , YASUTAKE YOSUKE
IPC分类号： H01L21/02 , H01L21/67 , H01L21/683 , H01L21/687
CPC分类号： H01L21/6708 , H01L21/67017 , H01L21/67109 , H01L21/68792
摘要： 잔류처리액이디바이스영역에진입하는것을억제하면서상면주연부를처리하는것으로서, 기판처리장치는, 기판을대략수평으로유지하고, 소정의회전축둘레로회전가능하게설치된기판유지부와, 기판유지부를회전축둘레로회전시키는회전기구와, 회전축을중심으로회전하고있는기판의상면주연부의회전궤적중 일부의착액위치에닿도록처리액의액류를토출하는처리액토출부와, 회전궤적중 착액위치보다도기판의회전방향의상류측의제1 위치를향하여상방으로부터불활성가스의제1 가스류를토출하여제1 가스류를제1 위치로부터기판의주연을향하게함과더불어, 회전궤적중 제1 위치보다도기판의회전방향의상류측의제2 위치를향해서상방으로부터불활성가스의제2 가스류를토출하여제2 가스류를제2 위치로부터기판의주연을향하게하는가스토출부를구비하고, 제2 가스류의토출시의운동에너지가, 제1 가스류의토출시의운동에너지보다도작다.

2. 发明公开

KR20180025287A 기판 처리 방법 审中-公开
标题翻译：基板处理方法
公开(公告)号：KR20180025287A
公开(公告)日：2018-03-08
申请号：KR20170110922
申请日：2017-08-31
申请人： SCREEN HOLDINGS CO LTD
发明人： HINODE TAIKI , FUJII SADAMU , TAKEAKI REI
IPC分类号： H01L21/02
CPC分类号： H01L21/02087 , B08B3/08 , H01L21/02052 , H01L21/02068 , H01L21/02101
摘要： 기판처리방법은, 기판을수평으로유지하는기판유지공정과, 상기수평으로유지된기판의상면에대향부재를대향배치하는대향배치공정과, 상기수평으로유지된기판과, 상기대향부재와, 평면으로볼 때상기수평으로유지된기판및 상기대향부재를둘러싸는가드에의해, 외부와의분위기왕래가제한된공간을형성하는공간형성공정과, 상기공간에불활성가스를공급하는불활성가스공급공정과, 상기공간을유지하면서상기대향부재를상기수평으로유지된기판에대해상대적으로승강시킴으로써, 상기기판의상면과상기대향부재사이의간격을조정하는간격조정공정과, 상기간격조정공정후에상기수평으로유지된기판의상면에처리액을공급하는처리액공급공정을포함한다.
摘要翻译：本发明提供一种基板处理方法，该基板处理方法包括：面对配置步骤，以使面对构件与水平保持基板的上表面相对的方式配置面对构件;空间形成步骤，形成大气从外部向外部移动的空间被水平保持的基板，面对构件和在平面图中围绕水平保持的基板和面对构件的防护件限制，惰性气体供给步骤，向该空间供给惰性气体;间隔调整步骤，在维持该空间的状态下，通过使对置部件相对于水平保持基板进行相对升降，从而在基板的上表面与对置部件之间形成间隔;以及处理液供给工序，将处理液供给至水平上表面在间隔调整步骤之后保持衬底。

3. 发明公开

KR20180025288A 기판 처리 방법 审中-公开
标题翻译：基板处理方法
公开(公告)号：KR20180025288A
公开(公告)日：2018-03-08
申请号：KR20170110923
申请日：2017-08-31
申请人： SCREEN HOLDINGS CO LTD
发明人： HINODE TAIKI , FUJII SADAMU , TAKEAKI REI
IPC分类号： H01L21/02 , H01L21/324
CPC分类号： H01L21/02052 , B08B3/08 , B08B7/0071 , H01L21/67051 , H01L21/68764
摘要： 기판처리방법은, 기판을수평으로유지하는기판유지공정과, 물보다표면장력이낮은저표면장력액체를상기수평으로유지된기판의상면에공급하여상기저표면장력액체의액막을형성하는액막형성공정과, 상기액막의중앙영역에개구를형성하는개구형성공정과, 상기개구를넓힘으로써, 상기수평으로유지된기판의상면으로부터상기액막을배제하는액막배제공정과, 상기개구의외측에설정한제1 착액점을향하여물보다표면장력이낮은저표면장력액체를공급하는저표면장력액체공급공정과, 상기수평으로유지된기판의상면을소수화시키는소수화제를, 상기개구의외측에서또한상기제1 착액점보다상기개구로부터멀리설정한제2 착액점을향하여공급하는소수화제공급공정과, 상기개구의넓어짐에추종하도록상기제1 착액점및 상기제2 착액점을이동시키는착액점이동공정을포함한다.
摘要翻译：一种基板处理方法，包括：形成低表面张力液体的液体膜的液体膜形成步骤;在液体膜的中心区域中形成开口的开口形成步骤;除去液体膜的液体膜除去步骤通过扩大开口从基板的上表面供给低表面张力液体的低表面张力液体供给步骤，向设置在开口外侧的第一液体着落点供给低表面张力液体;疏水剂供给步骤，在所述开口部的外侧且比所述第1液体着落点更靠所述开口部侧设置的第2液体着落点的液体着落点移动工序;以及使所述第1液体着落点和所述第2液体着落点移动以跟随开放的扩大。

4. 发明公开

KR20180025256A 기판 처리 방법 审中-公开
标题翻译：基板处理方法
公开(公告)号：KR20180025256A
公开(公告)日：2018-03-08
申请号：KR20170109470
申请日：2017-08-29
申请人： SCREEN HOLDINGS CO LTD
发明人： HINODE TAIKI , FUJII SADAMU , TAKEAKI REI
IPC分类号： H01L21/02 , H01L21/324
CPC分类号： H01L21/67034 , H01L21/02041 , H01L21/67028 , H01L21/67051 , H01L21/6715 , H01L21/6719
摘要： 기판처리방법은, 기판을수평으로유지하는기판유지공정과, 상기수평으로유지된기판에물을포함하는처리액을공급하는처리액공급공정과, 상기수평으로유지된기판을회전시키는기판회전공정과, 상기수평으로유지된기판을제1 회전속도로회전시키면서물보다도표면장력이낮은저표면장력액체를기판의상면에공급함으로써, 상기기판상의처리액을상기저표면장력액체로치환하고, 상기기판의상면에상기저표면장력액체의액막을형성하는액막형성공정과, 상기수평으로유지된기판상의처리액이물보다도표면장력이낮은저표면장력액체로치환된후에, 상기액막형성공정을계속하면서상기기판의회전을상기제1 회전속도보다도저속도인제2 회전속도까지감속시키는회전감속공정과, 상기액막형성공정의종료후에, 상기제2 회전속도로회전하는기판상의상기액막의중앙영역에개구를형성하는개구형성공정과, 상기개구를넓히는것에의해서상기기판의상면으로부터상기액막을배제하는액막배제공정을포함한다.
摘要翻译：一种基板处理方法包括：液体膜形成步骤，在以第一旋转速度旋转基板的同时将低表面张力液体供应到基板的上表面上，以便在上部形成低表面张力液体的液体膜在基板上的处理液已被低表面张力液置换后，在继续液膜形成步骤的同时，使基板的旋转减速至第二旋转速度的旋转减速步骤; 在完成液体膜形成步骤后以第二旋转速度旋转的基板上的液体膜的中心区域中形成开口;以及液体膜除去步骤，通过加宽从基板的上表面去除液体膜开幕。

5. 发明专利

JP2017092246A 基板搬送装置、基板処理システム、および基板搬送方法审中-公开
公开(公告)号：JP2017092246A
公开(公告)日：2017-05-25
申请号：JP2015220522
申请日：2015-11-10
申请人：株式会社Screenホールディングス , Screen Holdings Co Ltd
发明人： MAEKAWA NAOTADA , ANDO YUKITSUGU , TAKEAKI REI , YASUTAKE YOSUKE
IPC分类号： H01L21/677 , H01L21/304
摘要：【課題】搬送ロボットのハンドの位置決め精度を向上させる。【解決手段】基板搬送装置は、基板を保持するハンドと、ハンドを先端で支持して目標位置に向けて移動させるアームとを備える搬送ロボットと、制御部とを備える。搬送ロボットは、回転軸を中心とする回転動作をアームに行わせることによって回転軸を中心とする円周方向にハンドを移動可能であり、回転軸に対する先端の進退動作をアームに行わせることによって回転軸に対するハンドの距離を変更可能である。制御部は、アームに少なくとも1回の回転動作と、少なくとも1回の進退動作からなる複数の動作を順次に行わせることによって、アームに目標位置へ向けたハンドの移動を行わせる。アームが行う最後の回転動作は、回転軸を中心に目標位置に応じて定められた方向に回転する動作である。【選択図】図1

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