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    • 6. 发明专利
    • Photoelectric negative electrode
    • 光电负极
    • JP2007123176A
    • 2007-05-17
    • JP2005316908
    • 2005-10-31
    • Hamamatsu Photonics Kk浜松ホトニクス株式会社
    • NAKAJIMA KAZUTOSHIARAGAKI MINORUMOCHIZUKI TOMOKOHIROHATA TORU
    • H01J1/34H01J29/38H01J40/06H01L31/0248
    • H01J1/34H01J2201/3423
    • PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a semiconductor photoelectric negative electrode having sensitivity to light in a wide wavelength band. SOLUTION: This semiconductor photoelectric negative electrode 1 is provided with: a transparent substrate 11; a first electrode 13 formed on the transparent substrate 11 and allowing light transmitted through the transparent substrate 11 to pass therethrough; a window layer 14 formed on the first electrode 13 and formed of a semiconductor material having a thickness of 10-200 nm; a light-absorbing layer 15 formed on the window layer 14, formed of a semiconductor material lattice-matching the window layer 14 and having an energy band gap narrower than that of the window layer 14 for exciting photoelectrons in response to entry of the light; an electron-emitting layer 16 formed on the light-absorbing layer 15, and formed of a semiconductor material lattice-matching the light-absorbing layer 15 for emitting the photoelectrons excited by the light-absorbing layer 15 from a surface thereof to the outside; and second electrodes 18 formed on the electron-emitting layer. COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT
    • 要解决的问题:提供对宽波段的光敏感的半导体光电负极。 解决方案:该半导体光电负极1设置有:透明基板11; 形成在透明基板11上并允许透过透明基板11的光通过的第一电极13; 形成在第一电极13上并由厚度为10-200nm的半导体材料形成的窗口层14; 形成在窗口层14上的光吸收层15,其由与窗口层14相匹配的晶格匹配的半导体材料形成,并且具有比用于激发光电子的窗口层14响应于光的入射窄的能带隙; 形成在光吸收层15上的电子发射层16,由与光吸收层15激发的光电子的光吸收层15的晶格匹配的半导体材料的表面形成于外部; 以及形成在电子发射层上的第二电极18。 版权所有(C)2007,JPO&INPIT
    • 8. 发明申请
    • PHOTOCATHODE MULTIBANDE ET DÉTECTEUR ASSOCIÉ
    • 多功能光电检测器和相关检测器
    • WO2016162351A1
    • 2016-10-13
    • PCT/EP2016/057468
    • 2016-04-06
    • PHOTONIS FRANCE
    • CONDE, MoustaphaFOLTZ, Justin
    • H01J1/34H01J40/06
    • H01J40/06H01J1/34H01J40/16H01J2201/3423
    • L'invention concerne une photocathode comprenant une fenêtre d'entrée (210) adaptée à recevoir un flux de photons incidents, et une couche active (230), la couche active étant composée d'une pluralité de couches élémentaires (230 1 , 230 2) en matériaux semiconducteurs ayant des largeurs de bande interdite décroissantes dans le sens du flux de photons incidents. La surface de la photocathode opposée à la fenêtre d'entrée est structurée de manière à ce que chaque couche élémentaire de la couche active possède sa propre surface d'émission photoélectrique (240 1 , 240 2 ). En choisissant les matériaux semiconducteurs des couches élémentaires, on peut obtenir une image ayant une sensibilité élevée tant dans le spectre visible que dans le proche infrarouge.
    • 本发明涉及一种光电阴极,其包括适于接收入射光子流的输入窗口(210)和有源层(230),该有源层由多个由半导体材料制成的元素层(2301,2302)组成, 减少入射光子流动方向的禁带宽度。 与输入窗口相对的光电阴极的表面被构造成使得有源层的每个基本层具有其自己的光电发射表面(2401,2402)。 通过选择基本层的半导体材料,可以获得在可见光谱和近红外线中具有高灵敏度的图像。