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1. 发明授权

CN115009759B 基板传送装置有权转让
公开(公告)号：CN115009759B
公开(公告)日：2023-12-01
申请号：CN202210129164.9
申请日：2022-02-11
申请人：显示器生产服务株式会社
发明人：朴庸硕 , 姜辰求
IPC分类号： B65G13/073 , H01L21/677 , B65G49/07 , B65G49/06
摘要：本发明提供一种基板传送装置，可以使用将配置在腔室外部的动力产生部和配置在腔室内部的传送部连接的金属丝部件，利用腔室和金属丝部件之间的缩小的摩擦面积使密封面积最小化并大幅减少腔室内部的颗粒产生。为此，本发明提供的基板传送装置包括：腔室，具有形成有与处理基板的处理空间连通的贯通孔的侧壁；传送部，配置在处理空间内并具有传送基板的传送轴；动力产生部，以侧壁为基准配置在处理空间的相反侧，产生用于传送基板的驱动力；动力传递部，贯通贯通孔而将动力产生部和传送部连接，并将动力产生部的驱动力传递到传送部，所(56)对比文件JP 4724358 B2,2011.07.13JP S55139515 A,1980.10.31BE 832689 A,1975.12.16JP 2015028374 A,2015.02.12US 2007272403 A1,2007.11.29陆宏飞《.初级装配钳工技术》.天津科学技术出版社,2017,(第1版),191-195.郑晓丽.立式玻璃磨边机关键部件有限元分析及优化设计《.中国优秀硕士学位论文全文数据库工程科技Ⅰ辑》.2013,第24-26页.王浩森等.基于高速旋转的液压间隙密封性能分析《.机械工程师》.2019,(第09期),80-81，84.杨会永等.新型基片材料——C/SiC复合材料《.材料导报》.2012,第26卷(第1期),20-23.

2. 发明授权

CN115193768B 衬底清洗装置有权转让
公开(公告)号：CN115193768B
公开(公告)日：2023-09-01
申请号：CN202210163228.7
申请日：2022-02-22
申请人：显示器生产服务株式会社
发明人：朴庸硕 , 姜辰求
IPC分类号： B08B1/00 , B08B1/02 , B08B13/00 , H01L21/67
摘要：本发明提供一种衬底清洗装置，其可以使用旋转的滚刷来去除衬底处存在的异物，可以清洗从衬底吸附到滚刷上的异物，可以防止在清洗滚刷时从滚刷分离的异物传递到清洗后的衬底。为此，本发明公开了以下特征，包括：刷单元，具有滚刷，滚刷在与衬底的下部表面接触的状态下在旋转的同时清洗衬底的下部表面处存在的异物；清洗单元，清洗滚刷处存在的异物，清洗单元包括：腔室，在内部具有清洗空间，设置成包围滚刷的一部分，使得滚刷可以与衬底的下部表面接触；喷射模块，在清洗空间内与滚刷隔开配置，朝向滚刷的下部喷射清洗液；隔板部件，至少一部分配置在滚刷和喷射模块之间，防止从喷射模块喷射的清洗液撞击滚刷时产生的雾的扩散。

3. 发明授权

CN113522070B 二氧化碳溶解模块和包括该模块的基板处理装置有权转让
公开(公告)号：CN113522070B
公开(公告)日：2023-08-08
申请号：CN202110113836.2
申请日：2021-01-27
申请人：显示器生产服务株式会社
发明人：朴庸硕
IPC分类号： B01F23/23 , H01L21/67
摘要：本发明提供一种可以进一步增加二氧化碳气体相对于清洗水的溶解度并始终保持均匀的溶解度，从而使清洗水与基板之间的静电产生现象最小化或得到抑制的二氧化碳溶解模块和包括该模块的基板处理装置。为此，本发明公开了一种二氧化碳溶解模块和包括该模块的基板处理装置，所述二氧化碳溶解模块包括：主体，具有主管部和分支管部，所述主管部设置有传送清洗水的第一管路，所述分支管部结合到所述主管部，用于向所述第一管路侧供给二氧化碳气体；以及针型气体注入单元，结合到所述主体，用于向所述第一管路供给二氧化碳气体，所述二氧化碳溶解模块生成电阻率被调节的处理水。

4. 发明授权

CN113071900B 基板传送装置有权
公开(公告)号：CN113071900B
公开(公告)日：2022-08-26
申请号：CN202011459908.0
申请日：2020-12-11
申请人：显示器生产服务株式会社
发明人：朴庸硕 , 朴哲岐
IPC分类号： B65G47/74
摘要：本发明提供一种基板传送装置，能够实现稳定且精确的基板传送。该基板传送装置包括：传送框架，在两端部处配备有与驱动部结合的连接框架；以及支撑框架，在上部处放置用于传送的基板，并且，具有结合支撑在所述传送框架上的中央支撑部和从所述中央支撑部向两侧延长形成的自由端部，其中，所述支撑框架包括：第一支撑框架，延长形成为在基板的宽度方向上具有第一长度，并且弯曲形成为在下部方向上凸出地具有预先设定的曲率；以及第二支撑框架，结合到所述第一支撑框架的下部，延长形成为具有比所述第一长度短的第二长度，并且，弯曲形成为具有与所述第一支撑框架的曲率相对应的曲率。

5. 发明公开

CN114618747A 流体喷射装置无效
公开(公告)号：CN114618747A
公开(公告)日：2022-06-14
申请号：CN202111392523.1
申请日：2021-11-23
申请人：显示器生产服务株式会社
发明人：朴庸硕 , 朴康淳
IPC分类号： B05C5/02 , B05B15/50
摘要：本发明提供一种可以防止由异物引起的喷射口的堵塞现象并通过喷射口喷射均匀容量的液体的流体喷射装置。为此，本发明公开了如下特征，即，包括：第一板；第二板，与所述第一板结合；以及流体流路，形成在所述第一板和所述第二板之间，并将流体供给口和流体喷射口连接，所述流体流路包括：第一缓冲部，被从所述流体供给口流入的流体填充；第一流路，与所述第一缓冲部连接；第二缓冲部，与所述第一流路连接，被通过了所述第一流路的流体所填充；以及第二流路，将所述第二缓冲部和所述流体喷射口连接，所述第一流路的宽度小于所述第二流路的宽度。

6. 发明公开

CN114535153A 滚筒刷无效
公开(公告)号：CN114535153A
公开(公告)日：2022-05-27
申请号：CN202111396828.X
申请日：2021-11-23
申请人：显示器生产服务株式会社
发明人：朴庸硕
IPC分类号： B08B1/00 , B08B13/00
摘要：本发明提供一种滚筒刷，其包含：基部，其由管子构成，上述管子由包含碳纤维的塑料系复合材料形成；被覆部，其以包裹上述基部的外周面的方式设置；旋转轴，其设置在上述基部的两侧终端；以及刷子部，其设置在上述被覆部的外周面。本发明的滚筒刷通过由包含碳纤维的塑料系复合材料制作基部而与具有相同大小的以往滚筒刷相比使重量大幅减少，由此使载荷导致的下垂减小，从而能够在降低旋转时产生的振动、噪音的同时将下垂导致的清洗对象物的破损防范于未然。

7. 发明公开

CN113522070A 二氧化碳溶解模块和包括该模块的基板处理装置有权转让
公开(公告)号：CN113522070A
公开(公告)日：2021-10-22
申请号：CN202110113836.2
申请日：2021-01-27
申请人：显示器生产服务株式会社
发明人：朴庸硕
IPC分类号： B01F3/04 , H01L21/67
摘要：本发明提供一种可以进一步增加二氧化碳气体相对于清洗水的溶解度并始终保持均匀的溶解度，从而使清洗水与基板之间的静电产生现象最小化或得到抑制的二氧化碳溶解模块和包括该模块的基板处理装置。为此，本发明公开了一种二氧化碳溶解模块和包括该模块的基板处理装置，所述二氧化碳溶解模块包括：主体，具有主管部和分支管部，所述主管部设置有传送清洗水的第一管路，所述分支管部结合到所述主管部，用于向所述第一管路侧供给二氧化碳气体；以及针型气体注入单元，结合到所述主体，用于向所述第一管路供给二氧化碳气体，所述二氧化碳溶解模块生成电阻率被调节的处理水。

8. 发明公开

CN111799203A 基板处理单元的间隔调节装置和基板处理装置有权转让
公开(公告)号：CN111799203A
公开(公告)日：2020-10-20
申请号：CN202010187090.5
申请日：2020-03-17
申请人：显示器生产服务株式会社
发明人：朴庸硕 , 朴镐胤 , 朴桓绪
IPC分类号： H01L21/68 , H01L21/67
摘要：本发明提供一种可以通过对面向基板的基板处理单元的位置进行微调节来有效地进行基板处理的基板处理单元的间隔调节装置和使用该间隔调节装置的基板处理装置，包括以下特征：支撑块，支撑基板处理单元；以及升降单元，用于升降所述支撑块，所述升降单元包括：主轴，接受驱动部的驱动力的传递而旋转；凸轮部件，结合到所述主轴而联动；以及随动部件，设置在所述支撑块上以与所述凸轮部件的外周表面接触，在所述凸轮部件旋转时使所述支撑块升降，所述凸轮部件的半径设置成与沿所述凸轮部件的圆周方向的旋转角成比例。

9. 发明公开

CN111799193A 基板处理装置和直列式基板处理系统有权
公开(公告)号：CN111799193A
公开(公告)日：2020-10-20
申请号：CN202010225953.3
申请日：2020-03-26
申请人：显示器生产服务株式会社
发明人：朴庸硕 , 赵才衍
IPC分类号： H01L21/67
摘要：本发明提供可以同时执行基板的干燥及表面处理、利用较少能量而能够有效地进行基板处理的基板处理装置和直列式基板处理系统。包括：第一干燥单元，加热流入到内部的空气，向被传送的基板侧放热，使基板一次干燥；第二干燥单元，沿基板的传送方向与第一干燥单元邻接地配置，使在第一干燥单元的内部被加热的空气流入到其内部，并向通过第一干燥单元的基板喷射被加热的空气，使基板二次干燥；表面处理单元，沿基板的传送方向与第二干燥单元邻接地配置，照射用于生成使用于基板表面改性的反应气体的光，当通过第二干燥单元喷射被加热的空气时，包括反应气体的至少一部分的空气沿表面处理单元的下部和第二干燥单元的下部一起被喷射。

10. 发明授权

CN107004621B 喷嘴唇口清洗装置及其狭缝式涂抹装置有权
公开(公告)号：CN107004621B
公开(公告)日：2020-03-17
申请号：CN201580066153.9
申请日：2015-12-03
申请人：显示器生产服务株式会社
发明人：朴镐胤 , 金善勇 , 李忠翰 , 具滋贤
IPC分类号： H01L21/67 , B08B1/00
摘要：本发明提供喷嘴唇口清洗装置及利用该喷嘴唇口清洗装置的狭缝式涂抹装置，其中所述喷嘴唇口清洗装置包括：清洗装置主体；刀片支撑单元，具有结合于所述清洗装置主体的第一刀片支撑部件；刀片单元，具有第一刀片，所述第一刀片后端结合于所述第一刀片支撑部件，而前端接触于所述喷嘴唇口的表面，以刮掉喷射药液之后附着于喷嘴唇口表面的药液；角度调节单元，具有第一角度调节部件，所述第一角度调节部件配置在所述清洗装置主体，并且使所述第一刀片支撑部件移动，同时调节所述第一刀片的前端与所述喷嘴唇口表面之间的相对位置；支撑销单元，具有第一支撑销部件，所述第一支撑销部件配置在所述第一刀片支撑部件与所述第一刀片之间，并且成为所述第一刀片的宽度方向的旋转中心，进而在所述第一刀片支撑部件移动时使所述第一刀片的前端平行地接触于所述喷嘴唇口表面。

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