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1. 实用新型

CN206594443U 光掩模坯料和光掩模组有权
公开(公告)号：CN206594443U
公开(公告)日：2017-10-27
申请号：CN201720040773.1
申请日：2017-01-13
申请人：株式会社SK电子
发明人：桥本昌典
IPC分类号： G03F1/42
摘要：本实用新型提供能够降低半色调掩模重合误差的光掩模坯料和光掩模组。本实用新型提供一种在四边形的4个顶点具备对准图形且关联有各对准图形的坐标位置的数据信息的光掩模坯料，通过参照上述坐标位置的数据信息修正形成于所述光掩模坯料上的转印图形，能够大幅降低重合误差。另外，通过使用利用上述光掩模坯料形成转印图形的光掩模组，能够大幅降低产品制造的光刻步骤中的重合误差。

2. 实用新型

CN204790305U 接近式曝光用光掩膜有权
公开(公告)号：CN204790305U
公开(公告)日：2015-11-18
申请号：CN201520328358.7
申请日：2015-05-20
申请人：株式会社SK电子
发明人：齐藤隆史 , 美作昌宏
IPC分类号： G03F1/32
摘要：本实用新型提供一种适用于形成大型平板显示面板的接近式曝光用光掩膜。如图1(A)所示，接近式曝光用光掩膜具备：在表面形成遮光膜的透明基板上除去所述遮光部的一部分且露出于所述透明基板的透光部的图案(10a)；以及在所述透光部的图案的两侧边缘形成带状的、使相位移位的半透过膜的图案(12a)，并且在图案形成区域包括(通过遮光膜对曝光光进行遮光的)遮光部与(除去遮光膜和半透过膜且露出于透明基板的)透光部没有直接接触的部分。

3. 发明公开

CN115016224A 多色调光掩模的制造方法以及多色调光掩模审中-实审
公开(公告)号：CN115016224A
公开(公告)日：2022-09-06
申请号：CN202210192510.8
申请日：2022-02-28
申请人：株式会社SK电子
发明人：山田慎吾 , 上南亮太
IPC分类号： G03F1/32
摘要：本发明提供能够无需对准的多色调光掩模的制造方法及多色调光掩模。多色调光掩模的制造方法包括：准备中间体的工序，中间体由下列层叠膜结构构成，即中间体具有：在透明基板2上层叠的半透膜3；具有与半透膜3不同的蚀刻特性、以在半透膜3上重合的方式进行层叠的中间膜4；具有与半透膜3相同的蚀刻特性、以使中间膜4的周边区域的至少一部分露出的方式在中间膜4上层叠的遮光膜5；且中间膜4的露出的部分的至少一部分具有越接近透明基板2其边缘4a越向外侧扩展的形状；将中间膜4的露出的部分分多次进行蚀刻并最终去除的工序；在除了最后一次或包括最后一次的各次蚀刻后对半透膜3的露出的部分进行等离子体处理，改变该部分的透射率的工序。

4. 发明公开

CN113487002A RFID标签审中-实审
公开(公告)号：CN113487002A
公开(公告)日：2021-10-08
申请号：CN202110686528.9
申请日：2017-04-12
申请人：株式会社SK电子
发明人：小林英树
IPC分类号： G06K19/07 , G06K19/077 , H01Q1/22 , H01Q7/00 , H04B5/00 , H04B5/02
摘要：本发明的课题在于提供一种能够以简单的结构谋求天线效率提高的RFID标签。具有：用于与读写器进行信号的收发的天线(3)；和连接有该天线(3)的IC芯片(1)，在与形成有天线(3)的绝缘层上的外周端缘相比的内侧部分具有多个连接端子(5A、5B)，将绝缘层上的外周端缘与多个连接端子(5A、5B)之间的距离作为内外方向的宽度，在绝缘层上的外周整个区域或外周大致整个区域具有环状的天线形成区域，天线(3)以多个连接端子中的一个连接端子(5A)作为起点，并以剩余的连接端子中的一个连接端子(5B)作为终点，以导体线在所述天线形成区域内绕圈的方式形成为环状。

5. 发明公开

CN113156758A 光掩模审中-实审
公开(公告)号：CN113156758A
公开(公告)日：2021-07-23
申请号：CN202110016918.5
申请日：2021-01-07
申请人：株式会社SK电子
发明人：田中千惠 , 山田步实 , 齐藤隆史
IPC分类号： G03F1/26 , G03F1/76 , G03F7/20
摘要：本发明提供能够稳定地解像微细的孔图案的光掩模。该光掩模具备：露出透过性基板的透过部；以及包围透过部的、将曝光光的相位反转的第1相移部和第2相移部。第2相移部介于第1相移部与透过部之间，第2相移部对曝光光的透射率比第1相移部的透射率低。另外，第2相移部能够由第1相移部的相移膜与半透过膜的层叠结构而构成。

6. 发明授权

CN107589630B 半色调掩模和半色调掩模坯有权
公开(公告)号：CN107589630B
公开(公告)日：2021-06-15
申请号：CN201710546156.3
申请日：2017-07-06
申请人：株式会社SK电子
发明人：齐藤隆史
IPC分类号： G03F1/32
摘要：在现有的多灰阶的半色调掩模中，利用缺陷检查装置检测半透膜上形成的针孔缺陷，并进行修正，因此难以对于例如检测极限以下的细微的针孔缺陷进行修复。本发明提供一种半色调掩模，通过将半色调掩模的半透膜相对于透明基板的相位差设为60度～90度、相对于透明基板的透射率设为20％～50％，能够防止作为被转印体的光致抗蚀剂因特定大小以下的半透膜的针孔而感光，能够降低产品中产生图案缺陷的风险。

7. 发明公开

CN111279551A LC共振天线有权
公开(公告)号：CN111279551A
公开(公告)日：2020-06-12
申请号：CN201880068491.X
申请日：2018-11-02
申请人：株式会社SK电子
发明人：小林英樹 , 大島清志
IPC分类号： H01Q7/00 , H01Q1/38 , H01Q1/40 , H01Q19/02
摘要：本发明为LC共振天线，具有：电感器层，其设有线圈状的电感器；电容器层，其设有电容器且层叠于该电感器层，所述电容器具有多个电极板，该多个电极板在所述电感器层与所述电容器层的层叠方向上与所述电感器排列、且在与该层叠方向正交的面方向上扩展，所述电感器以线圈中心的轴线方向与所述层叠方向一致或大致一致的方式形成，在所述多个电极板上形成有能够供磁通通过的通过区域，该通过区域在所述层叠方向上与被所述电感器包围的内侧区域对应。

8. 发明公开

CN109983402A 半色调掩模、光掩模坯和半色调掩模的制造方法有权
公开(公告)号：CN109983402A
公开(公告)日：2019-07-05
申请号：CN201780070660.9
申请日：2017-12-25
申请人：株式会社SK电子
发明人：山田慎吾 , 森山久美子 , 美作昌宏
IPC分类号： G03F1/32 , G03F7/40
摘要：本发明提供一种能够曝光细微光致抗蚀剂图案的多灰阶半色调掩模。其解决方法在于，在透明基板上形成有由半透膜的图案构成的半透过部和由相位偏移膜的图案构成的相位偏移部，相位偏移膜使曝光光的相位反转，相位偏移膜的透过率低于半透膜的透过率。并且，在半透过部与相位偏移部邻接的边界部，形成有半透膜、相位偏移膜和蚀刻阻挡膜的叠层膜，蚀刻阻挡膜由不被半透膜和相位偏移膜的蚀刻液蚀刻的材质构成。其结果，实现具有半色调的效果和相位偏移效果双方的光掩模。

9. 发明公开

CN116577961A FPD用光掩模、FPD用光掩模的位置测量用标记的形成方法以及FPD用光掩模的制造方法审中-实审
公开(公告)号：CN116577961A
公开(公告)日：2023-08-11
申请号：CN202310086669.6
申请日：2023-01-18
申请人：株式会社SK电子
发明人：桥本昌典
IPC分类号： G03F1/42 , G03F1/62
摘要：本发明提供一种FPD用光掩模，其以合适的形态形成用于保证二维地排列的各单位图案的位置精度的位置测量用标记。FPD用光掩模(1)具备：图案形成区域(1A)，由多个单位图案形成区域(1Aa)、……在周围具有空白部(1Ab)且沿正交的第一方向(x)和第二方向(y)二维地排列而成；外边缘区域(1B)，包围图案形成区域(1A)；以及，多个位置测量用标记(3A)；位置测量用标记(3A)由沿第一方向(x)的线以及沿第二方向(y)的线的组合构成，并且在图案形成区域(1A)中，仅在空白部(1Ab)交叉的部分形成。

10. 发明公开

CN115443161A 带防药剂暴露功能的加压式药品注入器有权
公开(公告)号：CN115443161A
公开(公告)日：2022-12-06
申请号：CN202080100019.7
申请日：2020-04-20
申请人：株式会社SK电子
发明人：辻晃仁 , 松田直树
IPC分类号： A61M5/152 , A61M5/165 , A61M37/00
摘要：本发明的目的在于提供一种能够搬运的抗癌剂容器，其用于防止在进行使用清洗液的系统清洗时，由于因拆下连接器的操作产生的药液漏出而对人体的暴露、感染。提供一种带防药剂暴露功能的加压式药品注入器，其包括系统清洗功能，该带防药剂暴露功能的加压式药品注入器的特征在于，包括：具有药液填充口和药液开出口的贮存器；加压变形部件，通过药液注入而使所述药液收纳部产生加压变形，并通过加压变形恢复的力挤出药液；流量控制部件，通过阻力来调整药液的流量；系统清洗接口，具有清洗液注入口、药液填充口和液体排出口；壳体，内含所述贮存器、所述加压变形部件和所述注入系统清洗接口，所述壳体在所述药液填充口、所述药液排出口、所述清洗液注入口的附近处分别具有开口部，填充好的药液从贮存器的所述药液填充口被填充至所述加压变形部件，并从所述贮存器的药液排出口经由所述流量控制部件向容器外部移动。清洗液从配置于所述流量控制部件的下游的清洗接口的注入口注入，并向容器外部移动。清洗接口周边完全被灭菌密封件覆盖，因此清洗接口注入口到使用时为止都保持清洁。

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