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1. 发明授权

CN113574464B 成像设备和成像系统有权
公开(公告)号：CN113574464B
公开(公告)日：2024-01-26
申请号：CN202080020983.9
申请日：2020-03-13
申请人：佳能株式会社
发明人：佐藤昌明 , 和田晃治 , 小川毅 , 藤中幸治 , 鲛岛隆夫 , 野口富生 , 丰田彬敏 , 新谷进
IPC分类号： G03G21/00 , G03G15/08
摘要：该成像设备包括：图像承载构件(21)；具有补充口(32a)的显影剂容器(32)；显影剂承载构件(31)；检测装置(51，52)，其输出与容纳在显影剂容器(32)中的显影剂的量对应的余量信息；通知装置(400)，其能够通知第一状态和第二状态，第一状态指示容纳在显影剂容器(32)中的显影剂的余量大于等于第一量，第二状态指示容纳在显影剂容器(32)中的显影剂的余量小于第一量；和控制装置(90)，其使得通知装置(400)通知多个状态之一。显影剂容器(32)能够容纳的显影剂的最大量大于通过将容纳在包含用于补充的显影剂的补充容器(40)中的显影剂的量加上第一量而获得的值，并且第二状态的通知对应于在显影剂容器(32)中留下的显影剂的量比在显影剂

2. 发明授权

CN102193476B 处理盒有权
公开(公告)号：CN102193476B
公开(公告)日：2013-06-05
申请号：CN201110148042.6
申请日：2007-01-11
申请人：佳能株式会社
发明人：吉村明 , 村山一成 , 新谷进 , 沼上敦
IPC分类号： G03G21/18
CPC分类号： G03G21/1803 , G03G21/1623 , G03G21/1647 , G03G21/1676 , G03G21/1814 , G03G21/1825 , G03G21/1839 , G03G21/1842 , G03G2215/0119 , G03G2221/169 , G03G2221/1861 , G03G2221/1869
摘要：一种处理盒，包括：感光鼓，被构造成承载静电潜像；显影辊，被构造成对静电潜像进行显影；鼓框架，用于支撑感光鼓；显影框架，用于支撑显影辊，其中显影框架由鼓框架以绕旋转轴线可旋转的方式支撑；显影框架能够相对于鼓框架在接触位置和分开位置之间移动，在接触位置，显影辊与感光鼓相接触，在分开位置，显影辊与感光鼓分开；以及力接收部分，力接收部分具有端部，力接收部分被构造成在待命位置和操作位置之间移动，其中相比于当力接收部分处于操作位置时，当力接收部分处于待命位置时端部更加靠近旋转轴线；其中当力接收部分处在操作位置时在向力接收部分的端部施加力时，显影辊能够移动使得显影辊处在分开位置。

3. 发明授权

CN101715570B 处理盒以及电子照相成像设备有权
公开(公告)号：CN101715570B
公开(公告)日：2012-12-05
申请号：CN200880021807.6
申请日：2008-06-30
申请人：佳能株式会社
发明人：鸟羽真二郎 , 吉村明 , 新谷进
IPC分类号： G03G21/18
CPC分类号： G03G21/1803 , G03G21/1825
摘要：一种能够以可拆卸的方式安装至电子照相成像设备主组件的处理盒，包括：电子照相感光鼓；用于显影所述电子照相感光鼓上形成的静电潜像的显影辊；支撑电子照相感光鼓的鼓框架；支撑显影辊的显影框架，显影框架相对于鼓框架是可动的，并且能够处在接触位置，在接触位置显影辊与电子照相感光鼓接触；以及包括用于接收第一外力的第一力接收部分和用于接收第二外力的第二力接收部分的力接收装置，其中，第二力接收部分相对于显影框架是可动的，其中，通过第一力接收部分接收第一外力，第二力接收部分处在从操作位置缩回的待用位置，并且能够从待用位置移动至操作位置，用于使显影框架从接触位置移动至分离位置，其中，第二力接收部分从待用位置移动至操作位置所经过的距离大于第一力接收部分在第一外力作用下所移动的距离。

4. 发明授权

CN101479672B 处理盒及电子照相成像装置有权
公开(公告)号：CN101479672B
公开(公告)日：2012-11-28
申请号：CN200780023977.3
申请日：2007-01-18
申请人：佳能株式会社
发明人：小石勇雄 , 新谷进 , 都筑正知 , 今泉力
IPC分类号： G03G21/18
CPC分类号： G03G21/1817 , G03G15/0194 , G03G21/1623 , G03G21/1671 , G03G21/1676 , G03G21/1853 , G03G21/1857 , G03G21/1871 , G03G2221/1654 , G03G2221/1657 , G03G2221/1684
摘要：电子照相感光鼓，用于在处理盒安装到装置的主组件上的状态下，接受驱动力，所述驱动力用于在与所述电子照相感光鼓的旋转方向相反的方向上旋转所述显影辊；8)第一被支承部，相对于纵向方向而言，设置在所述第一框架的一端，用于被可动构件支承，以便将所述处理盒支承在所述可动构件上；9)第二被支承部，相对于纵向方向而言，设置在所述第一框架的另一端，用于被所述可动构件支承，以便与所述第一被支承部合作，将所述处理盒支承在所述可动构件上；10)第一被定位部，与所述电子照相感光鼓同轴地设置在所述第一框架的所述一个纵向端，用于在所述可动构件向转印带的下降运动的过程中，将该第一被定位部定位到主组件侧第一定位部上，其中，所述主组件侧第一定位部设置在装置的主组件上；11)第二被定位部，与所述电子照相感光鼓同轴地设置在所述第二框架的所述的另外一个纵向端，用于在所述可动构件向转印带的下降运动的过程中，将该第二被定位部定位到设置在装置的主组件上的主组件侧第二定位部上；12)盒侧充电偏压触头，暴露地设置的另外一端，用于在将处理盒安装到装置的主组件上的状态下，从装置的主组件接受施加到所述充电辊上的充电偏压；13)盒侧显影偏压触头，暴露地设置在另外一端，用于在将处理盒安装到装置的主组件上的状态下，从装置的主组件接受施加到所述显影辊上的显影偏压；以及，14)被加载部，设置在所述第一框架的靠近另外一个纵向端的上表面上，在第一被定位部被定位到主组件侧第一定位部上、并且所述第二被定位部被定位到所述主组件侧第二定位部上的状态下，用于接受设置在装置主组件上的主组件侧第一弹性构件的向下倾斜的弹性力，以便将所述处理盒向其另外一端加载，将所述处理盒的另外一端相对于装置主组件定位，并且将所述第二被定位部向所述主组件侧第二定位部加载。

5. 发明公开

CN101371202A 处理盒和成像设备有权
公开(公告)号：CN101371202A
公开(公告)日：2009-02-18
申请号：CN200780002318.1
申请日：2007-01-11
申请人：佳能株式会社
发明人：吉村明 , 村山一成 , 新谷进 , 沼上敦
IPC分类号： G03G21/18
摘要：一种处理盒，其能够以可拆卸方式安装于电子照相成像设备的主组件中，所述主组件包括开口、能够在用于关闭所述开口的关闭位置和打开所述开口的打开位置之间移动的门、能够随着所述门从所述打开位置到所述关闭位置的移动而移动的第一施力部件、以及能够通过来自驱动源的驱动力而移动的第二施力部件，所述处理盒包括：电子照相感光鼓；显影辊，用于显影形成在所述电子照相感光鼓上的静电潜像；包含所述电子照相感光鼓的鼓单元；显影单元，其包含所述显影辊，并且相对于所述鼓单元能够移动，从而使得所述显影辊能够在所述显影辊与所述电子照相感光鼓接触的接触位置和所述显影辊与所述电子照相感光鼓分开的分开位置之间移动；以及受力装置，其包括：第一受力部分，所述第一受力部分用于在所述处理盒通过所述开口安装于设备的主组件的状态下，通过所述门从所述打开位置到所述关闭位置的移动而接受来自所述第一施力部件的力；以及第二受力部分，其能够通过所述第一受力部分在接受来自所述第一施力部件的力所引起的移动而从待命位置移动，其中所述第二受力部分处在突出位置，以用于接受来自第二施力部件的力从而使所述显影单元从所述接触位置移动到所述分开位置，所述突出位置高于所述待命位置。

6. 发明授权

CN100440074C 处理盒和电子照相成像设备失效
公开(公告)号：CN100440074C
公开(公告)日：2008-12-03
申请号：CN200410071008.3
申请日：2004-07-26
申请人：佳能株式会社
发明人：前岛英树 , 新谷进 , 都筑正知
IPC分类号： G03G21/18 , G03G15/00
CPC分类号： G03G21/0005 , G03G21/0076 , G03G2221/001
摘要：一种以可拆卸的方式安装在电子照相成像设备的主组件中的处理盒，所述处理盒包括：电子照相感光鼓；用于为所述电子照相感光鼓充电的充电部件，其中当所述处理盒被安装在电子照相成像设备的主组件中时，为所述充电部件提供从电子照相成像设备的主组件接收的充电偏压；以及充电部件摩擦部件，所述充电部件摩擦部件具有绝缘性能并且沿着所述充电部件的纵向与所述充电部件接触；其中，所述充电部件在纵向延伸范围内被接触以为所述电子照相感光鼓充电，并且所述充电部件摩擦部件设置在所述导电部件和所述充电部件之间超出所述范围的一端以当所述充电部件被提供充电偏压时防止电流从所述充电部件泄漏到导电部件。

7. 发明授权

CN1214299C 处理盒、成像设备和使显影元件与感光鼓分离的分离机构失效
公开(公告)号：CN1214299C
公开(公告)日：2005-08-10
申请号：CN02107072.5
申请日：2002-02-09
申请人：佳能株式会社
发明人：菅野一彦 , 保井功二郎 , 堀川直史 , 新谷进 , 铃木达也 , 山口浩司
IPC分类号： G03G21/16 , G03G15/00
CPC分类号： G03G21/1821 , G03G21/1832 , G03G2215/0119 , G03G2221/1861
摘要：一种可拆卸地安装在电子照相成像设备上的处理盒，它包括一第一框架；一与第一框架相连并围绕一轴转动的第二框架；设置在所述第一框架上的电子照相感光鼓；设置在所述第二框架上的显影元件，利用显影剂使形成在所述感光鼓上的静电潜像显影；设置在所述第二框架上的显影元件，利用显影剂使形成在所述感光鼓上的静电潜像显影；用于在所述第一框架和第二框架之间施加弹力的弹性元件，将所述显影元件推向所述感光鼓；相对于安装方向，被设置在所述轴下游的受力部分，用于承受来自成像设备的总体组成的力，以便将所述处理盒安装在所述成像设备的总体组成上时，保持所述显影元件离开感光鼓，在该安装方向，将处理盒安装在所述成像设备的总体组成上；和用于限制所述第一框架向上运动的限制部分。

8. 发明公开

CN117608174A 成像设备审中-实审
公开(公告)号：CN117608174A
公开(公告)日：2024-02-27
申请号：CN202410048358.5
申请日：2020-03-13
申请人：佳能株式会社
发明人：小川毅 , 佐藤昌明 , 宝田浩志 , 藤中幸治 , 丰田彬敏 , 稻叶雄一郎 , 饭田健一 , 新谷进
IPC分类号： G03G15/08
摘要：本发明涉及成像设备。本发明有：显影剂容器(32)，补充容器(40)可拆地附接到它且它有容纳显影剂的容纳部(36)和从补充容器向容纳部补充显影剂的补充口(32a)；搅拌构件(34)，搅拌容纳在容纳部中的显影剂；开闭构件(83)，配置成在关闭位置与打开位置之间可动，在关闭位置处补充口被覆盖使补充容器(40)不能附接到显影剂容器(32)，在打开位置处补充口(32a)暴露使补充容器(40)能附接到显影剂容器(32)；驱动源(M1)，用于驱动搅拌构件(34)；控制装置(90)，用于控制驱动源(M1)。本发明配置成：开闭构件(83)在关闭位置时能成像；开闭构件(83)在打开位置时不能成像；开闭构件(83)在打开位置时搅拌构件(34)能被驱动。

9. 发明公开

CN113574463A 成像设备有权
公开(公告)号：CN113574463A
公开(公告)日：2021-10-29
申请号：CN202080020971.6
申请日：2020-03-13
申请人：佳能株式会社
发明人：小川毅 , 佐藤昌明 , 宝田浩志 , 藤中幸治 , 丰田彬敏 , 稻叶雄一郎 , 饭田健一 , 新谷进
IPC分类号： G03G21/00 , G03G21/16 , G03G15/08
摘要：本发明有：显影剂容器(32)，补充容器(40)可拆地附接到它且它有容纳显影剂的容纳部(36)和从补充容器(40)向容纳部(36)补充显影剂的补充口(32a)；搅拌构件(34)，搅拌容纳在容纳部(36)中的显影剂；开闭构件(83)，配置成在关闭位置与打开位置之间可动，在关闭位置处补充口(32a)被覆盖使补充容器(40)不能附接到显影剂容器(32)，在打开位置处补充口(32a)暴露使补充容器(40)能附接到显影剂容器(32)；驱动源(M1)，用于驱动搅拌构件(34)；控制装置(90)，用于控制驱动源(M1)。本发明配置成：开闭构件(83)在关闭位置时能成像；开闭构件(83)在打开位置时不能成像；开闭构件(83)在打开位置时搅拌构件(34)能被驱动。

10. 发明授权

CN102169318B 处理盒有权复审申请
公开(公告)号：CN102169318B
公开(公告)日：2016-04-06
申请号：CN201110148050.0
申请日：2007-01-11
申请人：佳能株式会社
发明人：吉村明 , 村山一成 , 新谷进 , 沼上敦
IPC分类号： G03G21/18
CPC分类号： G03G21/1803 , G03G21/1623 , G03G21/1647 , G03G21/1676 , G03G21/1814 , G03G21/1825 , G03G21/1839 , G03G21/1842 , G03G2215/0119 , G03G2221/169 , G03G2221/1861 , G03G2221/1869
摘要：一种处理盒，包括：感光鼓，感光鼓被构造成承载静电图像；显影辊，显影辊被构造成对静电图像进行显影；外壳，外壳由分别支撑感光鼓和显影辊的鼓框架和显影框架构成，显影框架能够相对于鼓框架移动，使得显影辊能够在接触位置和间隔开位置之间移动，在接触位置，感光鼓和显影辊相接触，在间隔开位置，感光鼓和显影辊彼此间隔开；以及受力构件，受力构件具有被推压部分并且被构造成在待命位置和突出位置之间移动，其中相比于当受力构件处于突出位置时，当受力构件处于待命位置时被推压部分更加靠近外壳；其中受力构件由显影框架支撑，使得当在受力构件处在突出位置时向受力构件的被推压部分施加力时，显影辊被移动使得显影辊处在间隔开位置。

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