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1. 发明公开

CN116744822A 用于口腔护理装置的清洁和/或处理单元审中-实审
公开(公告)号：CN116744822A
公开(公告)日：2023-09-12
申请号：CN202180086874.1
申请日：2021-11-19
申请人：皇家飞利浦有限公司
发明人： P·布兰多·西尔瓦 , L·C·格哈特 , M·T·约翰森 , B·戈藤伯斯
IPC分类号： A46B9/06
摘要：一种屏蔽屏障(32)由口腔护理装置的清洁和/或处理单元(12)的一个或多个电极(22)承载，并被布置用于干预电极(22)的暴露的导电部分(25)与其他组件或外部对象的接触。屏蔽屏障被布置成使得暴露的导电部分仍然至少部分地对电极(22)周围的环境开放。

2. 发明公开

CN117715604A 牙弓接收元件审中-公开
公开(公告)号：CN117715604A
公开(公告)日：2024-03-15
申请号：CN202280052794.9
申请日：2022-07-21
申请人：皇家飞利浦有限公司
发明人： J·M·伯尔斯玛 , L·C·格哈特 , R·巴特 , G·R·巴克-范德坎普 , B·戈藤伯斯 , P·布兰多·西尔瓦
IPC分类号： A61C7/08
摘要：牙弓接收元件具有用于接收用户的牙齿的由适形结构形成的弓。致动器用于在适形结构已经被成形为对应于受试者的牙弓的形状之后在弓适配阶段期间增加适形结构的刚度。

3. 发明公开

CN116322434A 具有消毒功能的口腔护理系统审中-实审
公开(公告)号：CN116322434A
公开(公告)日：2023-06-23
申请号：CN202180064733.X
申请日：2021-09-14
申请人：皇家飞利浦有限公司
发明人： L·C·格哈特 , P·布兰多·西尔瓦 , N·P·威拉德 , M·T·约翰森 , L·P·H·舍费尔斯 , J·范赞滕 , C·R·荣达
IPC分类号： A46B17/06
摘要：一种口腔护理系统(10)包括口腔护理设备(12)。口腔护理设备被设计成包括或附接到清洁或处理部分(14)，例如刷头或接嘴件。口腔护理设备因此具有清洁或处理功能。口腔护理设备还被设置有电磁(EM)场或辐射发生器(22)，该发生器适于在用于发射辐射或场的发射器装置(24)周围的空间(消毒区域)中产生和发射射频或微波频率电磁能量。EM发射被配置成具有适合于加热位于消毒区域(34)内的水或含水流体的电磁性质。这允许在专用模式中的消毒或除菌功能，其中EM发生器的EM发射使得将位于消毒区域内的清洁或处理部分的任何表面上的水加热到至少50℃的温度，优选地至少70℃的温度，该加热具有消毒或除菌效果。

4. 发明公开

CN115697135A 口腔清洁和/或处理装置及其配置方法审中-实审
公开(公告)号：CN115697135A
公开(公告)日：2023-02-03
申请号：CN202180038400.X
申请日：2021-05-20
申请人：皇家飞利浦有限公司
发明人： J·G·R·尤玛迪 , M·T·约翰森 , B·戈藤伯斯 , L·C·格哈特 , P·布兰多·西尔瓦
IPC分类号： A46B15/00 , A61N1/05 , A61N1/06 , A61N1/40
摘要：口腔清洁和/或处理装置，包括用于发射RF能量以提供口腔清洁和/或处理功能的电极。该装置包括用于容纳在口腔中的清洁单元，该清洁单元包括至少第一突出构件和第二突出构件，该第一突出构件和第二突出构件沿相同的大体方向远离基部或支撑结构突出。每个构件包括用于发射RF能量的一个或多个电极或导电元件。该装置通过用RF信号发生器驱动电极而在电极之间和电极周围的空间中产生RF场。该装置包括用于在不同设置之间改变所生成的RF场模式(例如，空间强度分布)的机械或电气装置。特别地，该装置能够被配置成至少两个模式或设置，每个模式或设置与不同的相应场模式或空间强度分布相关联。这对于使清洁功能适应不同的所需目的是有价值的。

5. 发明公开

CN117377444A 口腔表面特征检测审中-公开
公开(公告)号：CN117377444A
公开(公告)日：2024-01-09
申请号：CN202280037447.9
申请日：2022-05-17
申请人：皇家飞利浦有限公司
发明人： P·布兰多·西尔瓦 , M·T·约翰森 , L·C·格哈特 , H·A·A·斯佩尔特 , G·科艾曼 , S·希瓦勒
IPC分类号： A61C17/22
摘要：提供了一种用于基于对口腔护理装置的突出清洁构件的暂态力或位移的感测以及基于将所述感测数据映射到清洁构件位置和/或运动数据上来检测口腔表面特征或其替代的装置。根据对在测量或采样周期内的位置和/或运动数据中的模式的分析，可导出表面特征，包括表面摩擦的度量。在一些实施例中，次要表面特征可基于表面摩擦的所确定的度量而被导出。

6. 发明公开

CN116157092A 用于口腔清洁和/或处理设备的清洁和/或处理单元审中-实审
公开(公告)号：CN116157092A
公开(公告)日：2023-05-23
申请号：CN202180060416.0
申请日：2021-05-20
申请人：皇家飞利浦有限公司
发明人： B·戈藤伯斯 , M·T·约翰森 , P·布兰多·西尔瓦
IPC分类号： A61C17/34
摘要：口腔清洁和/或处理单元(10)，例如用于口腔清洁和/或处理设备的头部，包括用于发射RF能量以提供口腔清洁和/或处理功能的电极(18a、18b)。该单元包括至少第一突出构件(14a)和第二突出构件(14b)，所述第一突出构件(14a)和第二突出构件(14b)在相同的大体方向上远离基部或支撑结构(12)突出。每个突出构件包括一个或多个用于产生RF场的电极。突出构件适于具有柔性，以允许构件在与构件延伸出支撑表面的方向(“横向方向”)垂直的方向上弹性地弯曲或变形。

7. 发明公开

CN115666443A 口腔处理设备审中-实审
公开(公告)号：CN115666443A
公开(公告)日：2023-01-31
申请号：CN202180038443.8
申请日：2021-05-20
申请人：皇家飞利浦有限公司
发明人： L·C·格哈特 , P·布兰多·西尔瓦 , A·R·希尔格斯 , M·巴拉格纳 , S·Y·舒列波夫
IPC分类号： A61C15/04 , A61C17/22 , A46B15/00
摘要：本发明提供了口腔处理单元或者多个口腔处理单元的组件，其用于限制具有在100kHz到300MHz范围内的频率的电磁场并且适于插入到口腔中，口腔处理单元或者多个口腔处理单元的组件可以与基部单元组合而形成口腔清洁设备的一部分，且包括与口腔处理单元耦合的第一清洁元件。口腔处理单元还包括与口腔处理单元耦合的材料结构，其适于接收初始电磁场并输出经聚焦的电磁场，其中材料结构具有无源电磁场聚焦功能，该功能将所接收的初始电磁场聚焦在材料结构的近场区域中。本发明的另一方面提供了口腔处理单元或者多个口腔处理单元的组件，其用于限制和调制具有在1MHz到300GHz范围内的频率的电磁场并且适于插入到口腔中，口腔处理单元或者多个口腔处理单元的组件可以与基部单元组合而形成口腔清洁设备的一部分且包括与口腔处理单元耦合的第一清洁元件。口腔处理单元还包括电磁场聚焦元件，其适于接收具有初始频率的电磁场并输出经聚焦的电磁场。电磁场聚焦元件包括具有第一无源电磁场聚焦功能的第一材料结构，第一材料结构通过执行以下各项中的一项或多项来将经调制的电磁场限制在距第一材料结构给定距离的位置处：第一材料结构的近场区域中的衰减率控制功能；或者对电磁场的传播方向进行修改的功能。电磁场聚焦元件具有对经限制的电磁场进行调制从而生成经调制的电磁场的调制功能。

8. 发明公开

CN116744823A 个人护理装置审中-实审
公开(公告)号：CN116744823A
公开(公告)日：2023-09-12
申请号：CN202180086589.X
申请日：2021-11-19
申请人：皇家飞利浦有限公司
发明人： P·布兰多·西尔瓦 , L·C·格哈特 , M·T·约翰森 , B·戈藤伯斯
IPC分类号： A46B15/00
摘要：个人护理装置(12)包括RF信号发生器(32)，RF信号发生器(32)用于生成RF频率电磁发射以用于清洁或处理功能。在利用来自RF信号发生器的从3kHz到30GHz的频率范围内的RF驱动信号进行刺激时，RF发射可以从两个或更多个RF电极(22)的集合(例如，多个电极)输出。装置还包括控制器(34)，用于经由监测RF信号发生器(32)的一个或多个电特性的改变或变化，例如，一个或多个电特性相对于参考出厂水平的漂移、或指示短路的特性的突然变化，来检测RF电极(22)的退化的功能状态。响应动作可以基于电特性满足指示某个退化的功能状态的预定义标准而生成，例如生成针对用户的感官警报或数据输出，或执行补救动作，诸如将所感测的有缺陷的或磨损的电极去激活。

9. 发明公开

CN115715162A 口腔处理设备审中-实审
公开(公告)号：CN115715162A
公开(公告)日：2023-02-24
申请号：CN202180038397.1
申请日：2021-05-20
申请人：皇家飞利浦有限公司
发明人： P·布兰多·西尔瓦 , L·C·格哈特 , M·T·约翰森 , G·J·N·多德曼
IPC分类号： A46B15/00
摘要：本发明提供了一种口腔处理单元或多个口腔处理单元的配件，用于限制具有在100kHz至300MHz范围内的频率的电磁场并且适于插入口腔中，其可以与基座单元组合形成口腔清洁设备的一部分，包括耦合到口腔处理单元的第一清洁元件。该口腔处理单元还包括耦合到口腔处理单元的材料结构，其适于接收初始电磁场并且输出聚焦电磁场，其中该材料结构具有无源电磁场聚焦功能，其将接收到的初始电磁场聚焦在该材料结构的近场区域中。本发明的另一方面提供了一种口腔处理单元或多个口腔处理单元的配件，用于限制和调制具有在1MHz至300GHz范围内的频率的电磁场并且适于插入口腔中，其可以与基座单元组合形成口腔清洁设备的一部分，包括耦合到口腔处理单元的第一清洁元件。口腔处理单元还包括适于接收具有初始频率的电磁场并且输出聚焦电磁场的电磁场聚焦元件。电磁场聚焦元件包括具有第一无源电磁场聚焦功能的第一材料结构，第一无源电磁场聚焦功能通过执行以下一项或多项来将调制的电磁场限制在距第一材料结构的给定距离处：在第一材料结构的近场区域中的衰减率控制功能；或者对电磁场的传播方向修改功能。电磁场聚焦元件具有调制受限电磁场的调制功能，从而产生调制电磁场。

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