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1. 发明授权

CN104995563B 掩模版台环境中的气流最优化有权
公开(公告)号：CN104995563B
公开(公告)日：2017-04-05
申请号：CN201480009319.9
申请日：2014-02-20
申请人： ASML荷兰有限公司 , ASML控股股份有限公司
发明人： K·库依皮尔斯 , M·H·德安德里德奥利维拉 , M·J·莱米 , C·辛夫 , L·J·A·凡鲍克霍文 , H·A·J·W·范德文 , J·N·小方塞卡 , F·J·J·鲍克斯泰尔 , D·N·伯班克 , E·R·鲁普斯特拉 , 约翰内斯·昂伍李 , M·J·舒斯特尔 , R·N·J·范巴莱高吉 , C·C·沃德 , J·S·C·维斯特尔拉肯
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70933 , G03F7/70358 , G03F7/70633 , G03F7/70725 , G03F7/70866
摘要：本发明公开了一种用于通过控制光刻设备的图案形成装置周围的气流来减小重叠误差的系统。所述光刻设备包括照射系统，所述照射系统被配置为调节辐射束。所述光刻设备还包括可移动台，所述可移动台包括支撑结构，所述支撑结构可以被配置为支撑图案形成装置。所述图案形成装置可以被配置为在辐射束的横截面内将图案赋予辐射束，以形成图案化的辐射束。此外，所述光刻设备包括板(410)，所述板定位在可移动台(401)和投影系统(208)之间。所述板包括开口(411)，所述开口包括第一侧壁(411a)和第二侧壁(411b)。所述板可以被配置为在可移动台和投影系统之间的区域内提供气流图形(424)，所述气流图形基本上垂直于所述照射系统的光轴。

2. 发明公开

CN104995563A 掩模版台环境中的气流最优化有权
公开(公告)号：CN104995563A
公开(公告)日：2015-10-21
申请号：CN201480009319.9
申请日：2014-02-20
申请人： ASML荷兰有限公司 , ASML控股股份有限公司
发明人： K·库依皮尔斯 , M·H·德安德里德奥利维拉 , M·J·莱米 , C·辛夫 , L·J·A·凡鲍克霍文 , H·A·J·W·范德文 , J·N·小方塞卡 , F·J·J·鲍克斯泰尔 , D·N·伯班克 , E·R·鲁普斯特拉 , 约翰内斯·昂伍李 , M·J·舒斯特尔 , R·N·J·范巴莱高吉 , C·C·沃德 , J·S·C·维斯特尔拉肯
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70933 , G03F7/70358 , G03F7/70633 , G03F7/70725 , G03F7/70866
摘要：本发明公开了一种用于通过控制光刻设备的图案形成装置周围的气流来减小重叠误差的系统。所述光刻设备包括照射系统，所述照射系统被配置为调节辐射束。所述光刻设备还包括可移动台，所述可移动台包括支撑结构，所述支撑结构可以被配置为支撑图案形成装置。所述图案形成装置可以被配置为在辐射束的横截面内将图案赋予辐射束，以形成图案化的辐射束。此外，所述光刻设备包括板(410)，所述板定位在可移动台(401)和投影系统(208)之间。所述板包括开口(411)，所述开口包括第一侧壁(411a)和第二侧壁(411b)。所述板可以被配置为在可移动台和投影系统之间的区域内提供气流图形(424)，所述气流图形基本上垂直于所述照射系统的光轴。

3. 发明公开

CN114294460A 压力控制阀、用于光刻设备的流体处理结构和光刻设备审中-实审
公开(公告)号：CN114294460A
公开(公告)日：2022-04-08
申请号：CN202210021840.0
申请日：2017-09-18
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： S·M·J·杨森 , K·库依皮尔斯 , R·H·M·考蒂 , S·斯里瓦斯塔瓦 , T·J·A·伦克斯 , J·G·高森 , E·H·E·C·奥姆梅伦 , H·J·舍伦斯 , A·M·W·黑伦 , B·蓝森
IPC分类号： F16K31/00 , F16K1/42 , F16K41/10 , G03F7/20
摘要：一种压力控制阀，包括：通路(210)，其具有限定用于使液体和/或气体(215)流动通过的开口(220)的部分；阻塞构件(230)，其能够相对于所述开口移位，以将所述开口阻塞不同的量，由此调节通过所述开口的液体和/或气体的体积流率；压电致动器(250)；以及连杆机构(400)，其适于放大所述压电致动器的尺寸改变的量，并且使用放大后的尺寸改变量来相对于所述开口移动所述阻塞构件，其中，所述连杆机构包括框架(500)，所述框架附接到一壁并且在第一端处相对于所述通路固定，所述框架的可移动部分(508)能够在第一方向上移动，同时在与所述第一方向正交的第二方向上基本上被约束，所述压电致动器在所述壁与所述可移动部分之间延伸，使得所述压电致动器的膨胀引起所述可移动部分在所述第一方向上移动的量大于所述压电致动器的膨胀量，所述可移动部分连接到所述阻塞构件。

4. 发明授权

CN110088686B 光刻设备及器件制造方法有权
公开(公告)号：CN110088686B
公开(公告)日：2021-11-16
申请号：CN201780077686.6
申请日：2017-11-01
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： E·H·E·C·尤姆麦伦 , F·德布尔努 , K·库依皮尔斯 , H·H·A·雷姆彭斯 , T·W·波莱 , J·A·维埃拉萨拉斯 , J·M·邦贝克 , J·C·P·梅尔曼 , G·L·加托比焦
IPC分类号： G03F7/20
摘要：一种浸没式光刻设备包括：支撑台(WT)，配置成支撑具有至少一个目标部分(C)的物体(W)；投影系统(PS)，配置成将图案化的束投影至所述物体上；定位器(PW)，配置成相对于所述投影系统移动所述支撑台；液体限制结构(12)，配置成使用通过形成在所述液体限制结构中的一系列开口(60，300)进入和/或离开所述液体限制结构的流体流将液体限制至所述投影系统与所述物体和/或所述支撑台的表面之间的浸没空间；和控制器，配置成控制所述定位器使所述支撑台遵循由一系列的运动构成的路线来移动和控制所述液体限制结构，其中每一运动包括所述支撑台相对于所述液体限制结构移动，使得从不在所述液体限制结构下方移动至在所述液体限制结构下方的所述支撑台的部分在所述液体限制结构的前边缘下方穿过和从在所述液体限制结构下方移动至不在所述液体限制结构下方的所述支撑台的部分在所述液体限制结构的后边缘下方穿过，所述控制器被调适以：预测在所述浸没空间的边缘越过所述物体的边缘的所述系列的运动中的至少一个运动期间所述液体是否将被从所述浸没空间损失，和如果预测到从所述浸没空间的液体损失，则修改所述流体流，使得在被预测到液体损失的运动或被预测到液体的损失的所述运动后续的所述系列运动中的运动期间进入或离开在所述流体限制结构的前边缘处的所述系列开口中的开口的第一流体流量不同于进入或离开在所述浸没限制结构的后边缘处的所述系列开口中的开口的第二流体流量。

5. 发明公开

CN109690413A 用于光刻设备的流体处理结构有权
公开(公告)号：CN109690413A
公开(公告)日：2019-04-26
申请号：CN201780056049.0
申请日：2017-08-28
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： P·范德艾登 , C·M·诺普斯 , T·W·波莱 , F·L·寇肯斯 , G·塔娜萨 , R·H·M·考蒂 , K·库依皮尔斯 , H·S·布登贝格 , G·L·加托比焦 , E·范弗利特 , N·坦凯特 , M·J·H·弗雷肯 , J·L·范埃尔沃 , M·M·C·F·托因尼森
IPC分类号： G03F7/20
摘要：一种流体处理结构(12)，其配置成将浸没流体限制到光刻设备的一区域，所述流体处理结构包括：孔(15)，其形成在所述流体处理结构中，用作使投影束经由通过所述浸没流体而通过所述孔的通道；第一部分(100)；以及第二部分(200)；并且其中，所述第一部分和所述第二部分中的至少一者限定一表面(20)，所述表面适于从所述区域提取所述浸没流体；并且其中，所述流体处理结构适于提供进入或离开所述流体处理结构的所述表面的流体流，并且其中，所述第一部分相对于所述第二部分的移动实现改变进入或离开所述表面的流体流相对于所述孔的位置，并且其中，所述第一部分和所述第二部分中的一者包括用于流体流流过的至少一个通孔(51、61)，并且所述第一部分和所述第二部分中的另一者包括用于所述流体流流过的至少一个开口(55、65)，所述至少一个通孔和至少一个开口在被对准时流体连通，所述移动允许所述至少一个开口与所述至少一个通孔中的不同通孔对准，由此改变进入或离开所述表面的流体流相对于所述孔的位置。

6. 发明公开

CN113960889A 光刻设备及器件制造方法审中-实审
公开(公告)号：CN113960889A
公开(公告)日：2022-01-21
申请号：CN202111222387.1
申请日：2017-11-01
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： E·H·E·C·尤姆麦伦 , F·德布尔努 , K·库依皮尔斯 , H·H·A·雷姆彭斯 , T·W·波莱 , J·A·维埃拉萨拉斯 , J·M·邦贝克 , J·C·P·梅尔曼 , G·L·加托比焦
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/027
摘要：一种流体处理结构，被配置为将浸没流体限制在光刻设备中的流体处理结构和支撑台之间的区域。流体处理结构包括：在流体处理结构的侧壁处的浸没流体供应到区域的第一液体开口；在相对侧壁处从区域去除浸没流体的第二液体开口；提取器，包括多个离散的开口；提取器径向向外的一系列第一开口；和一系列第一开口的径向向外的一系列第二开口，其中提取器、一系列第一开口系列和一系列第二开口方向朝向衬底和/或支撑台，一系列第一和第二开口中的第一组与第一腔室流体连通，并且一系列第一和第二开口中的第二组与第二腔室流体连通。

7. 发明公开

CN109844649A 压力控制阀、用于光刻设备的流体处理结构和光刻设备有权
公开(公告)号：CN109844649A
公开(公告)日：2019-06-04
申请号：CN201780064970.X
申请日：2017-09-18
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： S·M·J·杨森 , K·库依皮尔斯 , R·H·M·考蒂 , S·斯里瓦斯塔瓦 , T·J·A·伦克斯 , J·G·高森 , E·H·E·C·奥姆梅伦 , H·J·舍伦斯 , A·M·W·黑伦 , B·蓝森
IPC分类号： G03F7/20 , F01D17/14 , F01D17/16 , F02B37/18 , G05D7/00 , G05D7/01 , F16K31/00 , H02N2/04
摘要：一种压力控制阀，包括：通路(210)，其具有限定用于使液体和/或气体(215)流动通过的开口(220)的部分；阻塞构件(230)，其能够相对于所述开口移位，以将所述开口阻塞不同的量，由此调节通过所述开口的液体和/或气体的体积流率；压电致动器(250)；以及连杆机构(400)，其适于放大所述压电致动器的尺寸改变的量，并且使用放大后的尺寸改变量来相对于所述开口移动所述阻塞构件，其中，所述连杆机构包括框架(500)，所述框架附接到一壁并且在第一端处相对于所述通路固定，所述框架的可移动部分(508)能够在第一方向上移动，同时在与所述第一方向正交的第二方向上基本上被约束，所述压电致动器在所述壁与所述可移动部分之间延伸，使得所述压电致动器的膨胀引起所述可移动部分在所述第一方向上移动的量大于所述压电致动器的膨胀量，所述可移动部分连接到所述阻塞构件。

8. 发明授权

CN106030413B 光刻设备和器件制造方法有权
公开(公告)号：CN106030413B
公开(公告)日：2018-09-14
申请号：CN201580009245.3
申请日：2015-01-20
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： G·纳齐博格鲁 , M·范巴伦 , F·J·J·范鲍克斯台尔 , K·库依皮尔斯 , J·G·高森 , L·J·A·凡鲍克霍文
IPC分类号： G03F7/20
摘要：本发明提供一种包括阻挡系统(3)的光刻设备，及使用如所描述的光刻设备中的任一个的器件制造方法。所述阻挡系统用以维持阻挡装置(4)内的气体的受保护体积。可在所述光刻设备的不同部件相对于彼此而移动时维持所述受保护体积。所述阻挡系统可用于所述光刻设备内的不同部位中。所述阻挡装置的几何构型影响所述受保护体积如何高效地被维持，尤其是在高速的情况下。本发明的几何构型减少从所述阻挡装置外部进入所述受保护体积的环境气体的量。

9. 发明授权

CN109844649B 压力控制阀、用于光刻设备的流体处理结构和光刻设备有权
公开(公告)号：CN109844649B
公开(公告)日：2022-01-25
申请号：CN201780064970.X
申请日：2017-09-18
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： S·M·J·杨森 , K·库依皮尔斯 , R·H·M·考蒂 , S·斯里瓦斯塔瓦 , T·J·A·伦克斯 , J·G·高森 , E·H·E·C·奥姆梅伦 , H·J·舍伦斯 , A·M·W·黑伦 , B·蓝森
IPC分类号： G03F7/20 , F01D17/14 , F01D17/16 , F02B37/18 , G05D7/00 , G05D7/01 , F16K31/00 , H02N2/04
摘要：一种压力控制阀，包括：通路(210)，其具有限定用于使液体和/或气体(215)流动通过的开口(220)的部分；阻塞构件(230)，其能够相对于所述开口移位，以将所述开口阻塞不同的量，由此调节通过所述开口的液体和/或气体的体积流率；压电致动器(250)；以及连杆机构(400)，其适于放大所述压电致动器的尺寸改变的量，并且使用放大后的尺寸改变量来相对于所述开口移动所述阻塞构件，其中，所述连杆机构包括框架(500)，所述框架附接到一壁并且在第一端处相对于所述通路固定，所述框架的可移动部分(508)能够在第一方向上移动，同时在与所述第一方向正交的第二方向上基本上被约束，所述压电致动器在所述壁与所述可移动部分之间延伸，使得所述压电致动器的膨胀引起所述可移动部分在所述第一方向上移动的量大于所述压电致动器的膨胀量，所述可移动部分连接到所述阻塞构件。

10. 发明公开

CN110088686A 光刻设备及器件制造方法有权
公开(公告)号：CN110088686A
公开(公告)日：2019-08-02
申请号：CN201780077686.6
申请日：2017-11-01
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： E·H·E·C·尤姆麦伦 , F·德布尔努 , K·库依皮尔斯 , H·H·A·雷姆彭斯 , T·W·波莱 , J·A·维埃拉萨拉斯 , J·M·邦贝克 , J·C·P·梅尔曼 , G·L·加托比焦
IPC分类号： G03F7/20
摘要：一种浸没式光刻设备包括：支撑台(WT)，配置成支撑具有至少一个目标部分(C)的物体(W)；投影系统(PS)，配置成将图案化的束投影至所述物体上；定位器(PW)，配置成相对于所述投影系统移动所述支撑台；液体限制结构(12)，配置成使用通过形成在所述液体限制结构中的一系列开口(60，300)进入和/或离开所述液体限制结构的流体流将液体限制至所述投影系统与所述物体和/或所述支撑台的表面之间的浸没空间；和控制器，配置成控制所述定位器使所述支撑台遵循由一系列的运动构成的路线来移动和控制所述液体限制结构，其中每一运动包括所述支撑台相对于所述液体限制结构移动，使得从不在所述液体限制结构下方移动至在所述液体限制结构下方的所述支撑台的部分在所述液体限制结构的前边缘下方穿过和从在所述液体限制结构下方移动至不在所述液体限制结构下方的所述支撑台的部分在所述液体限制结构的后边缘下方穿过，所述控制器被调适以：预测在所述浸没空间的边缘越过所述物体的边缘的所述系列的运动中的至少一个运动期间所述液体是否将被从所述浸没空间损失，和如果预测到从所述浸没空间的液体损失，则修改所述流体流，使得在被预测到液体损失的运动或被预测到液体的损失的所述运动后续的所述系列运动中的运动期间进入或离开在所述流体限制结构的前边缘处的所述系列开口中的开口的第一流体流量不同于进入或离开在所述浸没限制结构的后边缘处的所述系列开口中的开口的第二流体流量。

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