专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明授权

CN105378141B 溅射靶材及其制造方法失效
公开(公告)号：CN105378141B
公开(公告)日：2018-05-18
申请号：CN201480038593.9
申请日：2014-07-02
申请人：旭硝子工业陶瓷株式会社
发明人：神田幸一 , 林杏介 , 木下秀一 , 石川卓也 , 福嶋聪
IPC分类号： C23C14/34
CPC分类号： C23C14/3414 , H01J37/3414 , H01J37/342 , H01J37/3426 , H01J37/3435
摘要：本发明提供具有包含致密材质的靶材、通过降低钎料的使用量，能够稳定地进行成膜操作并且制造成本廉价的溅射靶材。一种溅射靶材1，其为在圆筒型的基材2的表面介由钎料3设置有靶材4的溅射靶材，靶材4为孔隙率为1.5％以下的致密材质，钎料3的厚度为0.2mm以下。该溅射靶材1能够利用冷等静压法通过简便地操作来制造。

2. 发明公开

CN105683407A 溅镀靶及其制造方法有权
公开(公告)号：CN105683407A
公开(公告)日：2016-06-15
申请号：CN201480059727.5
申请日：2014-10-27
申请人：攀时奥地利公司
发明人：尼古劳斯·赖因弗雷德 , 迈克尔·朔贝尔 , 沃尔弗拉姆·克纳布 , 约尔格·温克勒
IPC分类号： C23C14/34
CPC分类号： H01J37/3429 , B22F1/0003 , B22F3/16 , B22F3/17 , B22F3/18 , B22F3/20 , B22F2201/01 , B22F2201/10 , B22F2201/20 , B22F2301/20 , C22C27/04 , C23C14/14 , C23C14/3414 , H01J37/342 , H01J37/3423 , H01J37/3491
摘要：本发明涉及一种由Mo合金构成的溅镀靶，该溅镀靶包含周期表的第5族中的至少一种金属，其中第5族金属的平均含量为5at％至15at％并且Mo含量为≥80at％。该溅镀靶的平均C/O比以(at％/at％)为单位为≥1。根据本发明的溅镀靶能够通过变形制造并且具有改良的溅镀性能。

3. 发明公开

CN104379798A 真空旋转装置失效
公开(公告)号：CN104379798A
公开(公告)日：2015-02-25
申请号：CN201380014154.X
申请日：2013-01-14
申请人：基恩科有限公司
发明人：乔纳森·普赖斯
IPC分类号： C23C14/34 , H01J37/34 , H01J37/32
CPC分类号： H01J37/3405 , C23C14/3407 , H01J37/342 , H01J37/3435
摘要：本发明涉及在筒状磁控溅射源上的真空中旋转装置，在筒状磁控溅射源中，该设备的靶结构的靶和靶元件可以在不需要真空到大气或真空到冷却剂的动态密封的情况下旋转。本发明涉及在真空等离子技术中这种装置的使用，其中等离子放电，或能量的任意适当来源，例如电弧、激光，可以施加到靶或者靶附近，将会在不同性质的部件上生成相应涂层沉积或等离子处理。本发明还涉及但不限于在溅射、磁控溅射、电弧、等离子体聚合、激光烧蚀和等离子蚀刻中这种装置的使用。本发明还涉及在带有或不带有反馈等离子处理控制的非反应性处理和反应性处理的情况下这种装置的使用和控制。本发明还涉及作为单一的或多个单元的这些装置的排列。本发明还涉及在该装置中可以使用的靶结构。本发明还涉及在不同的电源模式例如直流、直流脉冲、射频、交流、双交流、高功率脉冲磁控溅射，或其他任意电源模式下使用该装置，以产生等离子体，例如溅射等离子、等离子弧、电子束蒸发、离子聚合等离子、等离子处理、或出于该目的的处理所生成的其他任何等离子，所述处理例如但不限于沉积处理或表面处理工艺等。

4. 发明公开

CN104246003A 圆筒形溅射靶及其制造方法有权
公开(公告)号：CN104246003A
公开(公告)日：2014-12-24
申请号：CN201380019524.9
申请日：2013-07-11
申请人：三菱综合材料株式会社
发明人：除補正则
IPC分类号： C23C14/34
CPC分类号： C23C14/3407 , H01J37/3414 , H01J37/342 , H01J37/3435
摘要：容易且可靠地接合圆筒形靶材和衬管，防止圆筒形溅射靶的破损并提高使用效率。通过空塞子(60)封闭衬管(40)的一端部而作为密封端部(42)，使熔融状态的接合材料(30)存留于可插入设置在接合材料填充夹具(70)上的衬管的横截面大致呈圆形的凹状的接合材料保持部(72)，将密封端部(42)朝下方的衬管(40)隔开间隙(g)而插入到载置于接合材料填充夹具(72)上的靶材(20)的内部，并通过该靶材(20)而插入到接合材料保持部(72)，从而，将熔融状态的接合材料(30)从接合材料保持部(72)压出，填充到靶材(20)的内周面与衬管(40)的外周面之间的间隙(g)之后使其固化，并从接合材料填充夹具(70)卸下，除去空塞子(60)。

5. 发明公开

CN103518002A 包括保护装置的管状靶材无效
公开(公告)号：CN103518002A
公开(公告)日：2014-01-15
申请号：CN201280017348.0
申请日：2012-04-05
申请人：普兰西欧洲股份公司
发明人：克里斯汀·林克 , 曼弗莱德·苏利克 , 马丁·卡特赖因
IPC分类号： C23C14/34 , H01J37/34
CPC分类号： C23C14/3407 , C23C14/3414 , H01J37/342 , H01J37/3426 , H01J37/3491 , H01J37/3497
摘要：本发明涉及一种用于阴极雾化的管状靶材（1），其不具有背衬管并且由钼或钼合金制成，具有至少在某些区域中与冷却介质接触的内表面（3），其中所述内表面（3）中至少一个区域通过至少一个保护装置（4）与所述冷却介质隔开。作为实例，所述保护装置（4）可以采用聚合物层的形式。所述管状靶材（1）具有极好的长期稳定性。

6. 发明公开

CN103403217A 用于形成圆筒状标靶组件的方法及装置有权复审申请
公开(公告)号：CN103403217A
公开(公告)日：2013-11-20
申请号：CN201280010772.2
申请日：2012-02-16
申请人：应用材料公司
发明人： A·霍斯卡瓦
IPC分类号： C23C14/34
CPC分类号： C23C14/3407 , H01J37/342 , H01J37/3435
摘要：本发明的实施例大体包含用于制备圆筒状溅射标靶管且将圆筒状溅射标靶管接合至背衬管以形成旋转标靶组件的方法及装置。在一个实施例中，圆筒状标靶组件包括接合材料，该接合材料具有圆筒状表面且与背衬管大致上同心。在一个实施例中，用于形成圆筒状标靶组件的方法包括用间隔物填充界定于溅射标靶管之间的缝隙。该方法还包括在将所述溅射标靶管接合至背衬管后移除该间隔物。在一个实施例中，用于制造圆筒状标靶组件的装置包含支撑管、两个端配件及可操作以将所述支撑管夹持于所述两个端配件之间的多个夹持元件。

7. 发明公开

CN102027565A 具有高硬度的可旋转溅射磁控管有权
公开(公告)号：CN102027565A
公开(公告)日：2011-04-20
申请号：CN200980117737.9
申请日：2009-05-06
申请人：贝卡尔特先进涂层公司
发明人： P·戈德里斯 , I·范德普特
IPC分类号： H01J37/34
CPC分类号： H01J37/3405 , H01J37/342 , H01J37/3435 , H01J37/3497
摘要：本发明介绍了可插入可旋转目标中的溅射磁控管(300)。磁控管设计成单件的多壁管(102、203)，具有在管的长度上延伸的隔腔(316、316′、318、318′)。多壁管与现有技术磁控管相比产生了硬得多的磁控管载体结构。因此，磁场产生器可以安装在隔腔内部，且在磁体和目标表面之间的距离可容易地调节，因为管比产生器硬得多。另外，冷却剂槽道可以包含在管内部，并靠近管的外壁，这样，可以邻近磁场产生器供应冷却剂。磁控管增大的硬度使得目标管至少在该目标的使用寿命的一部分中能够由磁控管承载，而不是周围其它方式。因此，可以使用薄的目标载体管，因为它们不必承载磁控管，从而导致使用该目标时间更长。

8. 发明公开

CN101096750A PVD用筒状靶材失效
公开(公告)号：CN101096750A
公开(公告)日：2008-01-02
申请号：CN200710126292.3
申请日：2007-06-29
申请人：株式会社神户制钢所
发明人：高尾敏明 , 冈崎孝弘 , 藤井博文
IPC分类号： C23C14/24
CPC分类号： C23C14/3407 , H01J37/342 , H01J37/3423 , Y10T428/13 , Y10T428/1303 , Y10T428/1352 , Y10T428/1359 , Y10T428/139
摘要：本发明是一种在筒状基材的外周面上包覆蒸发材料而成的PVD用筒状靶材，基材和蒸发材料的边界部具有由将角部倒圆而形成的凸状和凹状中的至少一种形状构成的啮合部。根据该方案，能抑制因基材和蒸发材料的热膨胀差异而在两材料的边界部产生的残余应力引起的蒸发材料的剥离或裂纹的产生，并且能确保两材料足够的紧贴性。

9. 发明公开

CN1867489A 空心阴极型溅射靶的包装装置及包装方法有权
公开(公告)号：CN1867489A
公开(公告)日：2006-11-22
申请号：CN200480030080.X
申请日：2004-09-14
申请人：日矿金属株式会社
发明人：冈部岳夫 , 永泽俊
IPC分类号： B65B31/04 , C23C14/34
CPC分类号： H01J37/342 , B65B31/04 , B65D81/2023
摘要：本发明提供空心阴极型溅射靶的包装装置和包装方法，其中，在空心阴极型溅射靶中，设置能够覆盖该靶的空间部的尺寸的盖子；在该盖子上设置一个或多个通孔；将树脂袋置于其上，并对袋的内部进行真空抽吸。该空心阴极型溅射靶的包装装置和包装方法即使是对于由树脂袋覆盖的中空部的内部也能够进行真空抽吸。

10. 发明授权

CN106232861B 环境场溅射源有权
公开(公告)号：CN106232861B
公开(公告)日：2019-07-30
申请号：CN201580020624.2
申请日：2015-04-20
申请人：库尔特J·莱斯克公司
发明人：马修·杰斯卡 , 罗伯特·M·贝兰 , 库尔特·约翰·莱斯克III
IPC分类号： C23C14/34
CPC分类号： C23C14/3407 , C23C14/35 , H01J37/3402 , H01J37/3405 , H01J37/342 , H01J37/3423 , H01J37/3429 , H01J37/3452 , H01J37/3461
摘要：本发明公开了一种溅射阴极，其包括磁铁，该磁铁具有长度为L1的本体，该本体的第一端限定了北极，并且该本体的第二端限定了南极，所述第二端与所述第一端相对。长度为L2的溅射靶材，该溅射靶材环绕该磁铁的本体，但并不环绕该磁铁的端部。

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式