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1. 发明专利

KR20210038528A KR20210038528A - A deposition mask of metal plate material for oled pixel deposition and method for manufacturing of the same 审中-公开
公开(公告)号：KR20210038528A
公开(公告)日：2021-04-07
申请号：KR1020210042295A
申请日：2021-03-31
申请人： 엘지이노텍 주식회사
发明人： 김해식 , 백지흠
IPC分类号： H01L51/56 , H01L51/00
CPC分类号： H01L51/56 , H01L51/0011 , H01L51/0014
摘要： 실시예에 따른 OLED 화소 증착을 위한 금속재의 증착용 마스크에 있어서, 상기 증착용 마스크는 증착 패턴을 형성하기 위한 증착 영역 및 증착 영역 이외의 비증착 영역을 포함하고, 상기 증착 영역은 길이 방향으로 이격된 복수개의 유효부 및 상기 유효부 이외의 비유효부를 포함하고, 상기 유효부는, 일면 상에 형성된 다수의 소면공; 상기 일면과 반대되는 타면상에 형성된 다수의 대면공; 상기 소면공과 상기 대면공을 연통하는 관통홀; 및 상기 다수의 관통홀 사이의 아일랜드부;를 포함하고, 상기 관통홀의 직경은 33um이하이고, 상기 관통홀 간의 간격이 48um 이하인 500PPI 이상의 해상도를 가지며, 상기 일면에 대한 소면공의 경사각은 70도 내지 89도이고, 상기 일면에 대한 소면공의 경사 곡률반경은 3㎛ 내지 86㎛이다.
실시예에 따른 OLED 화소 증착을 위한 금속재의 증착용 마스크는, 20㎛ 내지 30㎛ 두께의 베이스 금속판을 준비하는 제 1 단계; 상기 베이스 금속판의 일면 상에 패턴화된 포토레지스트층을 배치하고, 상기 토레지스트층의 오픈부를 하프 에칭하여 상기 베이스 금속판의 일면 상에 홈을 형성하고, 상기 베이스 금속판의 상기 일면과 반대되는 타면 상에 패턴화된 포토레지스트층을 배치하고, 상기 포토레지스트층의 오픈부를 에칭하여 상기 베이스 금속판의 일면 상의 홈과 연결되는 관통홀을 형성하는 제 2 단계; 및 상기 포토레지스트층을 제거하여, 상기 일면 상에 형성된 대면공, 상기 일면과 반대되는 타면 상에 형성된 소면공, 상기 대면공 및 상기 소면공의 경계가 연결되는 연통부에 의해 형성되는 관통홀을 포함하는 증착용 마스크를 형성하는 제 3 단계;를 포함하여 제조될 수 있다.

2. 发明专利

KR20210033564A KR20210033564A - Substrate supporting structure 审中-公开
公开(公告)号：KR20210033564A
公开(公告)日：2021-03-29
申请号：KR1020190114477A
申请日：2019-09-18
申请人： 주식회사 선익시스템
发明人： 민경호
IPC分类号： H01L51/56 , H01L21/20 , H01L21/205 , H01L51/00
CPC分类号： H01L51/56 , H01L21/2003 , H01L21/205 , H01L51/001 , H01L51/0011
摘要： 본 발명은, 유기발광다이오드(OLED) 증착 장비에서, 증발원 가까이에 사각판으로 위치되어 일측변에서 소정 폭으로 절개되어 일측변으로부터 타측변을 향해 연장하는 가스 개구부를 통해 증착 가스를 통과시키는 기판 안착 부재; 및 기판 안착 부재 상에서 기판 안착 부재의 가스 개구부를 덮고 기판 안착 부재의 가스 개구부를 통해 증착 가스에 노출되면서 증착 가스를 통해 증착 공정을 수행받는 기판을 포함하고, 기판은 사각형 기판 또는 원형 기판인 것을 특징으로 한다.

3. 发明专利

KR102228839B1 KR102228839B1 - Metal mask for organic light emitting diode deposition removing protrusion of trim line to improve process yield 有权
公开(公告)号：KR102228839B1
公开(公告)日：2021-03-17
申请号：KR1020200089610A
申请日：2020-07-20
申请人： 풍원정밀(주)
发明人： 최명환
IPC分类号： H01L51/56 , C23C16/04 , H01L27/32 , H01L51/00
CPC分类号： H01L51/56 , C23C16/042 , H01L27/3211 , H01L51/0011
摘要： 트림 라인의 돌출부 제거로 기판 손상에 의한 공정 불량을 최소화하여 공정 수율을 향상시킬 수 있는 공정 수율 향상을 위해 트림 라인의 돌출부를 제거한 OLED 증착용 메탈 마스크에 대하여 개시한다.
본 발명에 따른 공정 수율 향상을 위해 트림 라인의 돌출부를 제거한 OLED 증착용 메탈 마스크는 제1 면 및 상기 제1 면에 반대되는 제2 면을 가지며, 복수의 마스크 패턴이 배치된 마스크 셀 영역과, 상기 마스크 셀 영역의 외측에 배치된 더미 영역을 갖는 마스크 시트; 상기 더미 영역에 배치되어 상기 마스크 셀 영역의 외측을 둘러싸도록 배치되며, 상기 마스크 시트의 제2 면으로부터 제1 면 방향으로 일부 두께가 제거되도록 형성된 트림 라인; 및 상기 트림 라인 외측의 더미 영역에 배치되며, 상기 마스크 시트의 제1 면 및 제2 면을 관통하도록 형성된 응력 완화 패턴;을 포함하는 것을 특징으로 한다.

4. 发明专利

KR20210029653A KR20210029653A - Mask Sheet Push Module 审中-公开
公开(公告)号：KR20210029653A
公开(公告)日：2021-03-16
申请号：KR1020200041950A
申请日：2020-04-07
申请人： (주)아이씨디
发明人： 이승호 , 이준용 , 이명수 , 박찬호 , 김상길 , 노병관 , 장근수 , 이주승 , 정헌호
IPC分类号： H01L51/56 , H01L51/00
CPC分类号： H01L51/56 , H01L51/0011
摘要： 마스크 시트를 마스크 프레임 상에 정확히 안착되도록 하는 마스크 시트 푸시 모듈이 개시된다. 이는 다수의 푸시 모듈을 이용하여 마스크용 메탈 시트를 눌러 마스크 프레임에 안착시킴으로써 마스크용 메탈 시트와 마스크 프레임 상에 간극이 발생되는 것을 방지할 수 있다. 또한, 마스크용 메탈 시트에 압력을 가하는 푸시 모듈의 헤드부를 둥근 원형 곡률을 갖도록 형성함으로써 푸시 모듈로 마스크용 메탈 시트에 압력을 가할 때 마스크용 메탈 시트가 변형되는 것을 최소화할 수 있다. 더 나아가, 푸시 모듈 내부에 완충부를 배치함으로써 마스크용 메탈 시트가 푸시 모듈에 의해 밀리는 현상을 방지할 수 있다.

5. 发明专利

KR102224705B1 KR102224705B1 - The cleaning method of metal mask for organic electroluminescent device and metal mask using the same 有权
公开(公告)号：KR102224705B1
公开(公告)日：2021-03-08
申请号：KR1020190034279A
申请日：2019-03-26
申请人： 풍원화학(주)
发明人： 전수영 , 임영민 , 박호인 , 신성훈 , 이도형
IPC分类号： H01L51/00 , B08B3/00 , B08B3/08 , B08B3/12 , H01L21/02 , H01L51/56
CPC分类号： H01L51/0025 , C25F1/06 , B08B3/003 , B08B3/08 , B08B3/12 , C23C14/042 , C23C16/042 , H01L21/02041 , H01L51/0011 , H01L51/56
摘要： 환경 이물 또는 유기 발광체 물질이 부착된 금속 마스크를 제공하는 단계 및 상기 금속 마스크를 전해액에 담근 후, 상기 전해액에 담기는 전극에 전류를 공급하는 단계를 포함하고, 상기 전류는 펄스 방식 또는 역 펄스 방식으로 공급되는 유기전계발광표시장치 제조 공정에서 사용되는 금속 마스크를 세정하는 방법 및 상기 방법으로 세정된 금속 마스크가 제공된다.

6. 发明专利

KR102223816B1 KR102223816B1 - Method for manufacturing of metal shadow mask, and metal shadow mask manufactured by thereof 有权
公开(公告)号：KR102223816B1
公开(公告)日：2021-03-05
申请号：KR1020180139037A
申请日：2018-11-13
申请人： 정문성
发明人： 정문성
IPC分类号： H01L51/56 , G03F7/20 , H01L21/033 , H01L21/306 , H01L51/00
CPC分类号： H01L51/56 , G03F7/70691 , H01L21/0337 , H01L21/30604 , H01L51/0011 , H01L51/0017
摘要： 본 발명은 쉐도우마스크의 제조방법 및 이 제조방법에 의해 제조된 쉐도우마스크에 관한 것으로서, 쉐도우마스크의 제조방법은 메탈 박판을 준비하는 단계; 상기 메탈 박판의 양 면 중, 적어도 어느 한쪽의 일 면에 버림 기판을 부착시키는 단계; 상기 메탈 박판과 상기 버림 기판을 미리 설정된 규격에 맞게 레이저로서 패터닝하는 단계; 및 상기 버림 기판을 분리하는 단계를 포함하거나, 또는 메탈 박판을 준비하는 단계; 상기 메탈 박판이 담길 수 있도록 일정 높이의 식각 액이 담긴 용기를 구비하는 단계; 상기 용기에 상기 메탈 박판을 담근 상태에서, 레이저에 의해 미리 설정된 규격에 맞게 패터닝하는 단계; 및 상기 식각 액에 의해 식각을 실시하는 단계를 포함할 수 있으며, 쉐도우마스크는 상기한 제조방법에 의해 제조될 수 있다.

7. 发明专利

JP6432072B2 メタルマスク基材、および、メタルマスクの製造方法审中-公开
公开(公告)号：JP6432072B2
公开(公告)日：2018-12-05
申请号：JP2017529473
申请日：2016-03-22
申请人：凸版印刷株式会社
发明人：藤戸大生 , 西辻清明 , 西剛広
IPC分类号： H05B33/10 , H01L51/50 , C23C14/04
CPC分类号： H01L51/0011 , B05C21/005 , C23C14/042 , C23F1/02 , C23F1/16 , H01L51/56 , H05B33/10

8. 发明专利

JP2018533183A パターン化されたコーティングを含む表面およびデバイス上のコーティングをパターン化する方法审中-公开
公开(公告)号：JP2018533183A
公开(公告)日：2018-11-08
申请号：JP2018521242
申请日：2016-10-26
申请人：オーティーアイルミオニクスインコーポレーテッド , OTI LUMIONICS INC.
发明人：チャン, イー−ルー , ワン, チー , ヘランダー, マイケル , チウ, ジャッキー , ワン, ジビン , レバー, トーマス
IPC分类号： H01L51/50 , H05B33/28 , H05B33/26 , H05B33/12 , H05B33/10 , H05B33/02 , C23C14/04 , C23C14/06 , C23C14/12 , C23C14/14 , H05B33/22
CPC分类号： H01L51/0023 , C09K11/06 , G02B1/18 , H01L27/3216 , H01L27/3218 , H01L27/3244 , H01L51/0011 , H01L51/0081 , H01L51/441 , H01L51/442 , H01L51/5212 , H01L51/5221 , H01L51/5225 , H01L51/5228 , H01L51/5234 , H01L2251/5315 , H01L2251/558
摘要：光電子デバイスは、(1)基板と、(2)基板の第1の領域を被覆する核形成阻害コーティングと、(3)第1の部分および第2の部分を含む伝導性コーティングとを含む。伝導性コーティングの第1の部分は、基板の第2の領域を被覆し、伝導性コーティングの第2の部分は、核形成阻害コーティングと部分的に重複し、伝導性コーティングの第2の部分は、間隙によって核形成阻害コーティングから離間される。本願はまた、表面上に導電性材料を堆積させるための方法を提供し、この方法は、デバイスの導電性構造を形成するための表面上の導電性材料を選択的堆積し得る。

10. 发明专利

JP2018526536A 複合加工方法を用いたシャドウマスクの製造方法及びこれにより製造されたシャドウマスク审中-公开
公开(公告)号：JP2018526536A
公开(公告)日：2018-09-13
申请号：JP2018506891
申请日：2016-08-04
申请人：エイピー系▲統▼股▲フン▼有限公司 , AP SYSTEMS INC.
发明人：パク,ジョン‐カブ , キム,ボ‐ラム , フル,ジュン‐ギュ , キム,ドー‐ホオン
IPC分类号： B23K26/00 , B23K26/361 , H01L51/50 , H05B33/10 , C23C14/04
CPC分类号： C23C14/042 , B23K26/352 , H01L21/033 , H01L21/268 , H01L21/306 , H01L21/311 , H01L51/0011
摘要：本発明は、メタルシャドウマスクを製造する方法に関するもので、マスクパターンが形成されたシャドウマスクの製造方法において、ベースの上側でウェットエッチングを実行してウェットエッチングパターンを形成するウェットエッチング段階と、前記ウェットエッチングパターンが形成されたベースの上側又は下側でレーザー加工を実行して、前記ウェットエッチングパターンに連続するレーザー加工パターンを形成するレーザー加工段階とを含んでなることを特徴とする、複合加工方法を用いたシャドウマスクの製造方法及びこれにより製造されたシャドウマスクを技術的要旨とする。よって、ウェットエッチング及びレーザー加工を複合的に用いることにより、従来のレーザー加工工程による生産性低下の問題を解決し、ウェットエッチングによる高品質のシャドウマスクを提供することができるという効果がある。

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