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1. 发明专利

JP6977898B1 紫外線照射装置および紫外線照射方法有权
公开(公告)号：JP6977898B1
公开(公告)日：2021-12-08
申请号：JP2021004239
申请日：2021-01-14
申请人：ウシオ電機株式会社
发明人：内藤敬祐 , 寺田庄一 , 佐畠健一
IPC分类号： A61L2/10 , B01J19/12 , A61L9/20
摘要：【課題】人体への悪影響が抑制された波長範囲の紫外線を用いた微生物および/またはウイルスの不活化を、効果的に、且つ、より適切に行うことができる紫外線照射装置および紫外線照射方法を提供する。【解決手段】紫外線照射装置は、波長帯域が190nm〜235nmの紫外線を放射する光放射面を備えた光源部と、光源部の点灯を制御する制御部と、光放射面に対面する物体との離間距離を測定する距離センサと、を備える。制御部は、複数の点灯動作モードを備え、複数の点灯動作モードは、それぞれ光放射面からの離間距離で定められた区間に対応して定められ、複数の点灯動作モードは、光源部から放射される紫外線量がそれぞれ異なるよう設定されており、距離センサからの信号に基づき、点灯動作モードを切り替え制御する。【選択図】図1

2. 发明专利

JP2021178311A リアクタ审中-公开
公开(公告)号：JP2021178311A
公开(公告)日：2021-11-18
申请号：JP2021007115
申请日：2021-01-20
申请人：国立大学法人北海道大学 , 国立大学法人金沢大学
发明人：平井健二 , 高橋康史
IPC分类号： B01J19/00 , B81B3/00 , G01N21/3577 , G01N21/05 , G01N21/59 , C07D309/08 , B01J19/12
摘要：【課題】保護剤及びレーザなしで化学反応を制御するリアクタを提供する。【解決手段】リアクタは、その内部で化学物質を反応させて目的物を生成する反応槽と、反応槽を挟んで対向配置された1対のミラーと、ミラーのうちの少なくとも1つを移動させてミラー間の距離を調整するアクチュエータと、ミラーによって構成される光共振器の共振波数を検出する検出装置とを備える。アクチュエータは、化学物質の分子振動と光共振器によって形成される光学モードとを相互作用させて化学反応を制御するように、検出装置によって検出された共振波数に基づいてミラー間の距離を調整する。【選択図】図3

3. 发明专利

JPWO2020136781A1 流体処理装置审中-公开
公开(公告)号：JPWO2020136781A1
公开(公告)日：2021-11-11
申请号：JP2018047985
申请日：2018-12-26
申请人：エム・テクニック株式会社
发明人：榎村眞一
IPC分类号： B01J19/00 , B01J19/12 , B01F7/28 , B01J19/18
摘要：新しい構成の流体処理装置を提供する。流体処理装置Fは、相対的に回転する処理用面1、2によって規定される上流側処理部と、上流側処理部の下流側に配置された下流側処理部とを備え、上流側処理部は、処理用面1、2にて規定された上流側処理空間3内に被処理流動体を通過させることにより、被処理流動体に対する上流側処理が行なわれるよう構成される。下流側処理部は、ラビリンスシールによって被処理流動体を滞留させ撹拌する機能を果たす下流側処理空間81を備え、上流側処理部からの被処理流動体の上流側流出口4が下流側処理空間81内に開口しており、下流側処理空間81はラビリンスシールを用いて滞留時間を制御する機能を果たすように構成される。下流側処理空間81は、狭隘なシール空間84と、シール空間84の上流側に配置され且つシール空間84よりも広い滞留空間83とを備え、上流側流出口4が滞留空間83に開口している。

4. 发明专利

JP2021527562A 向上されたマイクロチャンネルデバイスまたはメソチャンネルデバイス、及びその添加製造方法审中-公开
公开(公告)号：JP2021527562A
公开(公告)日：2021-10-14
申请号：JP2020570751
申请日：2019-06-21
申请人：バテル・メモリアル・インスティテュート , BATTELLE MEMORIAL INSTITUTE
发明人：ワード・イー・テグロテンフイス , クリストファー・ケイ・クレイトン , ポール・エイチ・ハンブル , ティモシー・ジー・フェルトマン , ロバート・エス・ウェジェン , リチャード・エフ・チョン
IPC分类号： B01J19/00 , B22F3/16 , B22F10/28 , B22F10/66 , B01J19/12
摘要：化学的プロセッサは、質量を低減すること、太陽熱集中装置に関連する作業を行うこと、及び/または、多孔性インサートを添加製造によって形成されたマイクロチャンネルまたはメソチャンネルデバイスに収容することと、をするように構成されている。添加製造によって多孔性インサートを含む化学的プロセッサを形成する方法も開示されている。

5. 发明专利

JP6947970B2 光電気化学反応装置、及び制御方法有权
公开(公告)号：JP6947970B2
公开(公告)日：2021-10-13
申请号：JP2017137641
申请日：2017-07-14
申请人：富士通株式会社
发明人：穴澤俊久 , 眞鍋敏夫 , 天田英之 , 今中佳彦
IPC分类号： C25B9/00 , C25B15/02 , B01J19/12 , B01J19/08 , C25B9/50

6. 发明专利

JP6940754B2 樹脂製容器の表面処理装置有权
公开(公告)号：JP6940754B2
公开(公告)日：2021-09-29
申请号：JP2017118009
申请日：2017-06-15
申请人：澁谷工業株式会社
发明人：中俊明 , 松井慧 , 西富久雄 , 江尻雅成 , 池永訓昭
IPC分类号： B65B55/04 , B65B55/08 , B65D23/08 , C08J7/00 , B01J19/12 , A61L2/08 , B65D23/02

7. 发明专利

JP6934198B2 紫外線照射装置及び方法有权
公开(公告)号：JP6934198B2
公开(公告)日：2021-09-15
申请号：JP2018538350
申请日：2017-08-24
申请人：株式会社日本フォトサイエンス
发明人：山越裕司
IPC分类号： C02F1/32 , H01L33/64 , H01L23/44 , H05K7/20 , B01J19/12

8. 发明专利

JP2021136186A バリア放電ランプ、バリア放電ランプユニット、および液体処理装置审中-公开
公开(公告)号：JP2021136186A
公开(公告)日：2021-09-13
申请号：JP2020032841
申请日：2020-02-28
申请人：東芝ライテック株式会社
发明人：日野弘喜 , 聶棟興 , 前田祥平 , 藤岡純 , 田内亮彦
IPC分类号： H01J61/34 , H01J61/30 , H01J61/067 , B01J19/12 , C02F1/32 , H01J65/00
摘要：【課題】発光効率の向上を図ることができるバリア放電ランプ、バリア放電ランプユニット、および液体処理装置を提供することである。【解決手段】実施形態に係るバリア放電ランプは、筒状を呈し、内部空間にガスが封入された発光管と;前記内部空間に設けられた内部電極と;前記発光管の外部に設けられた外部電極と;を具備している。前記発光管の外径は、10mm以上、25mm以下である。入力密度は、0.3W/cm以上、1.4W/cm以下である。【選択図】図1

9. 发明专利

JP2021106240A ガス供給装置、表面処理方法审中-公开
公开(公告)号：JP2021106240A
公开(公告)日：2021-07-26
申请号：JP2019237898
申请日：2019-12-27
申请人：ウシオ電機株式会社
发明人：三浦真毅 , 島本章弘
IPC分类号： B01J19/12 , B08B7/00 , H01L21/304
摘要：【課題】従来よりも高濃度でラジカルを含むガスを対象物に対して吹き付けることのできる、ガス供給装置を提供する。【解決手段】ガス供給装置は、ラジカル源となる酸素を含む第一ガスが流入される第一ガス流入口と、第一ガスよりも含有酸素濃度の低い第二ガスが流入される第二ガス流入口と、第一ガス流入口から流入された第一ガスが通流する第一ガス通流路と、第一ガス通流路内の照射領域に向かって紫外光を発する光源と、少なくとも一部の照射領域を通過した後の第一ガスと第二ガスとが混合されるガス混合部と、ガス混合部で混合された後の混合ガスを外部に流出させるガス流出口とを備える。【選択図】図1A

10. 发明专利

JP2021104496A ガス供給装置审中-公开
公开(公告)号：JP2021104496A
公开(公告)日：2021-07-26
申请号：JP2019237847
申请日：2019-12-27
申请人：ウシオ電機株式会社
发明人：島本章弘 , 常喜祥子
IPC分类号： H01J65/00 , H01J61/33 , H01J61/35 , B08B5/00 , B01J19/12
摘要：【課題】樹脂材料からなる対象物に対して、より効果的な表面処理が可能な、ガス供給装置を提供する。【解決手段】ガス供給装置は、ラジカル源となる原料物質を含有する原料ガスが流入されるガス流入口と、ガス流入口から流入された原料ガスが通流するガス通流路と、ガス通流路内の照射領域に向かって紫外光を発する光源と、紫外光が照射された後の原料ガスである処理後ガスを外部に流出させるガス流出口と、ガス流出口に対向する面である対象面に向かう紫外光の進行を抑制する遮光部とを備える。【選択図】図1

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