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    • 10. 发明专利
    • 撮像装置
    • JP2019129462A
    • 2019-08-01
    • JP2018011025
    • 2018-01-26
    • キヤノン株式会社
    • 横山 顕二
    • G03B15/05G03B7/16G03B15/02H04N5/225H04N5/235
    • 【課題】ストロボ撮影の場合、被写体条件によってはストロボ自体の反射光が撮像素子の蓄積飽和となり部分的に露出オーバーとなる。 【解決手段】ストロボ撮影の際に先だって被写体に照射した反射光で露出決定を行うストロボ予備発光を行う撮像装置において、画素毎に露出変更可能である撮像センサに、通常露出画素と通常露出より暗い露出となる画素を配置した輝度判定用画素群で測光判定する判定手段を持ち、予備発光の際に、慨輝度判定用画素群の中で飽和に至る画素を検出した場合は、飽和画素を含む慨輝度判定用画素群の中から飽和しない画素の露出設定を選定し、飽和しない画素の露出設定の中から最大の露出設定となるように、慨輝度判定用画素群の露光時間を変更して設定する手段を持ち、ストロボ撮影の本撮影の際には選択された露出画素を基に飽和している画素群全体の露出を変更する。 【選択図】図3