会员体验
专利管家(专利管理)
工作空间(专利管理)
风险监控(情报监控)
数据分析(专利分析)
侵权分析(诉讼无效)
联系我们
交流群
官方交流:
QQ群: 891211   
微信请扫码    >>>
现在联系顾问~
热词
    • 2. 发明公开
    • 제초제 및 완화제의 혼합물
    • 除草剂和润肤剂的混合物
    • KR1020010080501A
    • 2001-08-22
    • KR1020017006303
    • 1999-11-05
    • 바이엘 크롭사이언스 게엠베하
    • 지에메르프랑크빌름스로타르비에린거헤르만하케르에르빈
    • A01N25/32
    • 본 발명은 하나 이상의 하기 화학식 I의 제초 활성 화합물 및 완화제로서의 하나 이상의 농작물 식물 보호 화합물을 포함하는 제초제 조성물에 관한 것이다:
      화학식 I

      상기 식에서,
      V는 이속사졸-4-일, 피라졸-4-일, 사이클로헥산-1,3-디온-2-일 및 3-옥소프로피오니트릴-2-일로 구성된 군에서 선택된 선택적으로 치환된 라디칼이고, R
      9 는 니트로, 아미노, 할로겐 또는 탄소-함유 라디칼이다. 완화제 군은, 예를 들면, 2,4-D, 시오메트리닐, 디캄바, 딤론, 펜클로림, 플루라졸, 플룩소페님, 락티디클로르, MCPA, 메코프로프, MG-191, 옥사베트리닐, 메틸 디페닐메톡시아세테이트, 1-[4-(N-2-메톡시벤조일설파모일)페닐]-3-메틸우레아, 1,8-나프탈렌계 무수물, 1-[4-(N-나프토일설파모일)페닐]-3-디메틸우레아, (4-클로로페녹시)아세트산, 4-(2,4-디클로로페녹시)부티르산, (4-4-클로로-o-톨릴)부티르산, 4-(4-클로로페녹시)부티르산, 각각의 경우 이들의 산 및 에스테르, N-아실설폰아미드, N-아실설파모일벤즈아미드를 포함하고, 각각의 경우에서, 적당하게는, 염의 형태를 또한 포함하며, 각각의 경우 선택적으로 치환된 1-페닐피라졸린, 1-페닐피라졸, 1-페닐트리아졸, 5-페닐이속사졸린 및 5-페닐메틸이속사졸린-3-카복실산 에스테르 및 2-(8-퀴놀리닐옥시)아세트산 유도� ��를 포함한다.
    • 3. 发明公开
    • 특정 설폰일유레아를 포함하는 제초제 조합물
    • 空值
    • KR1020040096657A
    • 2004-11-16
    • KR1020047013832
    • 2003-02-20
    • 바이엘 크롭사이언스 게엠베하
    • 하커에르빈비에린거헤르만후프한스필립
    • A01N47/36A01N43/54A01N43/66
    • A01N47/36A01N43/40A01N43/56A01N47/38A01N43/76A01N37/40A01N25/32A01N2300/00
    • 본 발명에 따른 유효량의 하기 성분 (A), (B) 및 (C)를 포함하는 제초제 조합물은 향상된 제초 작용을 나타낸다.
      (A)는 하기 화학식 I의 화합물 및 이의 염으로 구성된 군에서 선택된 하나 이상의 제초제;
      화학식 I

      (B) 하기 화학식 II의 화합물 및 이의 염으로 구성된 군에서 선택된 하나 이상의 제초제; 및
      화학식 II

      (C) 다수 외떡잎 작물에서 외떡잎 및/또는 쌍떡잎 유해 식물에 대하여 선택적으로 작용하는 것으로, 하기 (C1) 내지 (C57)의 화합물로 구성된 군에서 선택된 하나 이상의 제초제.
      (C1) 플루카바존, (C2) 프로카바존, (C3) 플로라설람, (C4) 할로설푸론, (C5) 트리토설푸론, (C6) 피콜리나펜, (C7) 시니돈-에틸, (C8) 메소트리온, (C9) 메토설람, (C10) 클로피랄리드, (C11) 플루페나세트, (C12) 플루메트설람, (C13) 플루폭삼, (C14) 프로설포카브, (C15) 플루타몬, (C16) 아클로니펜, (C17) 페녹사프로프, (C18) 아이소프로투론, (C19) 다이클로포프, (C20) 클로디나포프, (C21) 클로톨루론, (C22) 메타벤즈티아주론, (C23) 이마자메타벤즈, (C24) 트랄콕시딤, (C25) 다이펜조쿠아트, (C26) 플람프로프, (C27) 펜디메탈린, (C28) 메코프로프, (C29) MCPA, (C30) 다이클로프로프, (C31) 2,4-D, (C32) 디캄바, (C33) 플루록시피르, (C34) 아이옥시닐, (C35) 브로목시닐, (C36) 바이페녹스, (C37) 플루오로글라이코펜, (C38) 락토펜, (C39) 피라플루펜, (C40) 다이플루페니칸, (C41) 벤타존, (C42) 아미도설푸론, (C43) 메 트설푸론, (C44) 트라이베누론, (C45) 티펜설푸론, (C46) 트라이아설푸론, (C47) 클로설푸론, (C48) 플루피르설푸론, (C49) 플루아졸레이트, (C50) 설포설푸론, (C51) 글루포시네이트, (C52) 글라이포세이트, (C53) 설코트리온, (C54) 사이클록시딤, (C55) 세톡시딤, (C56) 클레토딤 및 (C57) 카펜트라존.
    • 包含有效量的组分(A),(B)和(C)的除草剂组合具有改善的除草作用:(A)一种或多种选自式(I)的化合物及其盐的除草剂(B)一种 或更多种选自式(II)化合物及其盐(C)的除草剂表示一种或多种在单子叶植物和/或双子叶有害植物中对某些单子叶作物有选择性作用的除草剂,该除草剂选自组 由(C1)氟卡沙赞(C2)丙卡波腙(C2)氟罗沙仑(C4)卤磺隆(C5)三氯嘧磺隆(C6)皮考伦芬(C7)cinidon-乙基(C8)甲基磺草酮(C9)甲磺酸(C10)氯吡啶(C11)氟苯乙酸 (C11)氟替卡松(C13)氟替卡松(C13)氟磺草酮(C14)亚硫酸氢钠(C15)丙烯酸甲酯(C16)丙烯隆(C17)芬诺福普(C16)异丙隆(C19)双氯芬(C20) )tralkoxydim(C25)difenzoquat(C26) (C27)二甲戊灵(C28)二丙戊酸(C29)MCPA(C30)二氯丙酸(C31)2,4-D(C32)麦草畏(C33)氟氧吡啶(C34) (C44)氟磺隆(C47)吡磺隆(C40)二氟苯胺(C41)苯达嗪(C42)氨磺隆(C43)甲磺隆(C44)三氯硝隆(C45)噻吩磺隆(C46)三磺隆(C47) 磺酰磺隆(C51)草铵膦(C52)草甘膦(C53)磺草酮(C54)环辛啶(C55)稀甲苯(C56)苯草胺和(C57)卡立芬。
    • 5. 发明公开
    • 벼에서 잡초를 방제하기 위한, 치환된 페닐설포닐우레아를함유한 제초 조성물
    • 用除草剂与取代苯磺酰脲控制水稻杂草
    • KR1020010099593A
    • 2001-11-09
    • KR1020017000608
    • 1999-07-12
    • 바이엘 크롭사이언스 게엠베하
    • 하커에르빈비에린거헤르만
    • A01N47/36
    • A01N43/76A01N47/36A01N57/14A01N47/38A01N47/18A01N47/16A01N47/12A01N43/90A01N43/88A01N43/86A01N43/82A01N43/80A01N43/78A01N43/653A01N43/54A01N43/42A01N43/40A01N43/20A01N39/02A01N37/40A01N37/26A01N37/24A01N37/22A01N25/32A01N2300/00
    • The invention relates to herbicides containing (A) at least one herbicide active ingredient of the group composed of substituted phenylsulfonylureas of general formula (I) and their agriculturally acceptable salts, wherein R1 represents C1-C8alkyl, C3- C4alkenyl, C3- C4alkynyle or C1-C 4alkyl, which is substituted one to four times by residues of halogen and/or C1-C2alkoxy group; R2represents I or CH2NHSO2CH3; R3is methyl or methoxy; and Z is N or CH; and (B) at least one herbicide compound selected in the group of compounds comprising (Ba) herbicides with a selective activity in rice, essentially against gramineae, and (Bd) herbicides with a selective activity in rice, essentially against dicotyledonous parasitic plants and cyperaceae, (Bc) herbicides with a selective activity in rice, essentially against gramineae, dicotyledonous parasitic plants and cyperaceae. Are excluded from the substance claim all combinations according to the WO96/41537 and WO98/24320 patents, said combinations comprising respectively one active ingredient of type B in addition to one or several compounds of type A. However, use of combinations of types A and B according to said WO patents for controlling parasitic plant growth in rice culture is not excluded from said substance claim.
    • 本发明涉及除草剂,其含有(A)至少一种由通式(I)的取代苯磺酰脲组成的除草剂活性成分及其农业上可接受的盐,其中R1代表C1-C8烷基,C3-C4链烯基,C3-C4炔基或C1 -C 1-4烷基,其被卤素和/或C 1 -C 2烷氧基的残基取代1-4次; R2表示I或CH2NHSO2CH3; R3是甲基或甲氧基; Z为N或CH; 和(B)至少一种除草剂化合物,其选自包含在水稻中具有选择性活性的(Ba)除草剂的化合物,基本上对抗禾本科,和(Bd)在水稻中具有选择性活性的除草剂,基本上针对双子叶寄生植物和莎草科 ,(Bc)在水稻中具有选择性活性的除草剂,基本上针对禾本科,双子叶寄生植物和莎草科。 除了根据WO96 / 41537和WO98 / 24320专利的所有组合之外,所述组合不包括所述组合,所述组合除了一种或多种A型化合物外,还分别包含B型的一种活性成分。然而,使用A型和 根据所述用于控制水稻培养物中寄生植物生长的WO专利的B不排除在所述物质权利要求之外。
    • 6. 发明授权
    • 제초제 및 완화제의 혼합물
    • 除草剂和SAFENERS的组合
    • KR100678802B1
    • 2007-02-05
    • KR1020017006303
    • 1999-11-05
    • 바이엘 크롭사이언스 게엠베하
    • 지에메르프랑크빌름스로타르비에린거헤르만하케르에르빈
    • A01N25/32
    • 본 발명은 하나 이상의 하기 화학식 I의 제초 활성 화합물 및 완화제로서의 하나 이상의 농작물 식물 보호 화합물을 포함하는 제초제 조성물에 관한 것이다:
      화학식 I

      상기 식에서,
      V는 이속사졸-4-일, 피라졸-4-일, 사이클로헥산-1,3-디온-2-일 및 3-옥소프로피오니트릴-2-일로 구성된 군에서 선택된 선택적으로 치환된 라디칼이고, R
      9 는 니트로, 아미노, 할로겐 또는 탄소-함유 라디칼이다. 완화제 군은, 예를 들면, 2,4-D, 시오메트리닐, 디캄바, 딤론, 펜클로림, 플루라졸, 플룩소페님, 락티디클로르, MCPA, 메코프로프, MG-191, 옥사베트리닐, 메틸 디페닐메톡시아세테이트, 1-[4-(N-2-메톡시벤조일설파모일)페닐]-3-메틸우레아, 1,8-나프탈산 무수물, 1-[4-(N-2-메톡시벤조일설파모일)페닐]-3,3-디메틸우레아, 1-[4-(N-4,5-디메틸벤조일설파모일)페닐]-3-메틸우레아, 1-[4-(N-나프토일설파모일)페닐]-3-디메틸우레아, (4-클로로페녹시)아세트산, 4-(2,4-디클로로페녹시)부티르산, (4-4-클로로-o-톨릴옥시)부티르산, 4-(4-클로로페녹시)부티르산, 각각의 경우 이들의 산 및 에스테르, N-아실설폰아미드, N-아실설파모일벤즈아미드를 포함하고, 각각의 경우에서, 적당하다면, 염의 형태를 또한 포함하며, 각각의 경우 선택적으로 치환된 1-페닐피라졸린, 1-페닐피라졸, 1-페닐트리아졸, 5-페닐이속사졸린 및 5-페닐메틸이속사졸린-3-카복실산 에스테르 및 2-(8-퀴놀리닐옥시)아세트산 유도체를 포함한다.