专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明授权

KR101884964B1 입자의 제조 방법 有权
公开(公告)号：KR101884964B1
公开(公告)日：2018-08-02
申请号：KR1020137031579
申请日：2012-04-24
申请人： 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤
发明人： 시라타니히로시 , 세키구치마사히토 , 우에키타야스오
IPC分类号： C07C381/02 , C08K5/42 , C08L21/00
CPC分类号： C08K5/41 , C07C381/02 , Y10T428/1386 , Y10T428/24479 , Y10T428/296 , C08L21/00
摘要： 식(I)로표시되는화합물로이루어지고, 메디안직경(50%D)이 100 ㎛를넘는입자를, 실리카, 탈크및 클레이로이루어진군에서선택되는 1 이상의존재하에분쇄기를이용하여분쇄하여, 식(I)로표시되는화합물로이루어지고, 메디안직경(50%D)이 100 ㎛이하인입자를얻는입자의제조방법.(식(I) 중, R및 R는, 각각독립적으로, 수소원자또는탄소수 1∼6의알킬기를나타내거나, 또는, R과 R가서로결합하여, 이들이결합하고있는질소원자와함께고리를형성한다. m은, 2∼9의정수를나타낸다. M는, H또는 n가의금속이온을나타낸다. n은, 1 또는 2의정수를나타낸다.)

2. 发明公开

KR20180018843A 소자 및 기판의 봉입을 위한 투과 차단체 审中-公开
标题翻译：用于封装器件和衬底的渗透阻挡层
公开(公告)号：KR20180018843A
公开(公告)日：2018-02-21
申请号：KR20187003947
申请日：2011-09-14
申请人： UNIVERSAL DISPLAY CORP
发明人： MANDLIK PRASHANT , SILVERNAIL JEFFREY , MA RUIQING
IPC分类号： H01L51/52 , C23C16/40 , H05B33/04
CPC分类号： H01L51/5253 , C23C16/401 , Y10T428/24479 , Y10T428/24612 , Y10T428/31504 , Y10T428/31663
摘要： 유기전자소자용투과차단막구조체는하이브리드투과차단조성을가진하나이상의이중층을포함한다. 하나이상의이중층각각은제1 CF-O플라즈마반응성이온에칭률에상응하는제1 조성을가진제1 영역과제2 CF-O플라즈마반응성이온에칭률에상응하는제2 조성을가진제2 영역을포함하며, 여기서제2 에칭률은제1 에칭률보다 1.2배초과만큼더 크고하이브리드투과차단막은중합체재료와비중합체재료의균일혼합물이며, 혼합물은단일전구체재료로부터형성된다.
摘要翻译：用于有机电子器件的渗透阻挡膜结构包括具有混合渗透阻挡层组合物的一个或多个双层。一个或多个双层中的每一个包括具有对应于第一CF4-O2等离子体反应离子蚀刻速率的第一组成和具有对应于第二CF4-O2等离子体反应离子蚀刻速率的第二组成的第二区域，第二蚀刻速率比第一蚀刻速率大大大于1.2倍，并且所述混合渗透阻挡膜是聚合物材料和非聚合物材料的均匀混合物，其中所述混合物由单一前体材料形成。

3. 发明授权

KR101829228B1 밀봉재 및 그것을 사용한 밀봉방법 有权
标题翻译：密封材料和使用它的密封方法
公开(公告)号：KR101829228B1
公开(公告)日：2018-02-19
申请号：KR1020127011507
申请日：2011-02-08
申请人： 니폰 덴키 가라스 가부시키가이샤
发明人： 사카모토아키히코 , 와다마사노리
IPC分类号： C03C27/10 , C03C27/04 , C09K3/10 , C03B23/203 , H01L31/04 , G02F1/1339
CPC分类号： H01L51/5237 , C03B37/025 , H01L31/0481 , H01L31/0488 , H01L51/448 , H01L51/524 , H01L51/5246 , H05B33/04 , Y02E10/50 , Y02P40/57 , Y10T428/24479
摘要： 본발명에의한밀봉재(1)는두께 1∼100㎛의유리리본으로이루어지고, 그양면(2)(3)과, 측면(4)은단조면으로되어있다.
摘要翻译：根据本发明的密封材料1由厚度为1至100的玻璃带制成，并且两个表面2和3以及侧表面4形成为阶梯表面。

4. 发明授权

KR101804195B1 유리 필름 적층체 有权
标题翻译：玻璃薄膜层压板
公开(公告)号：KR101804195B1
公开(公告)日：2017-12-04
申请号：KR1020127020275
申请日：2011-07-28
申请人： 니폰 덴키 가라스 가부시키가이샤
发明人： 타키모토히로시 , 후지이타카히데 , 타니구치카츠히로
IPC分类号： B32B17/06 , B32B3/02 , H01L51/50 , H05B33/02
CPC分类号： B32B7/12 , B32B3/02 , B32B7/06 , B32B17/06 , B32B17/10155 , B32B17/10293 , Y10T428/24273 , Y10T428/24355 , Y10T428/24479 , Y10T428/24752
摘要： 유리필름적층체(1)는지지체(3)에유리필름(2)을적층해서구성되고, 지지체(3)는유리필름(2)으로부터돌출되어서적층되어있다. 지지체(3)에는유리필름(2)의적어도 1개의코너부(21)를지지체(3)로부터노출시키는박리개시부(4)가지지체(3)의끝변(32)으로부터이간되어형성되어있다.
摘要翻译：玻璃膜层叠体（1），它是由在主体（3）层叠的玻璃膜（2）构成，支撑件3可从夹层玻璃膜突出（2）。支撑件3形成为玻璃膜（2）唯一地至少一个角部主体的分离开始部分（4）的21 kkeutbyeon 32（3）之间从支撑体3 eurobuteoyi露出。

5. 发明授权

KR101802134B1 유리 리본 상에 정밀 구조를 연속적으로 인쇄하는 방법 및 이에 따라 얻어진 유리 리본 有权
公开(公告)号：KR101802134B1
公开(公告)日：2017-11-28
申请号：KR1020127015383
申请日：2010-11-03
申请人： 파이브스 스탕
发明人： 쿤볼프스테판 , 파머프랑수아
IPC分类号： C03B13/08 , C03B18/06 , C03B18/14 , C03B13/16 , C03B9/38 , C03B35/16
CPC分类号： C03B13/08 , C03B25/08 , C03B25/093 , Y10T428/24479
摘要： 본발명은에칭될표면에대해인쇄력을가하는에칭롤러(27)를이용하여적어도 1 m/min의속도로연속적으로전진하는유리스트립의표면에정밀구조를인쇄하는방법에관한것으로서, 생성될구조는곡률반경을갖는돌출구역과오목구역을포함하고, 에칭롤러의상류에서예비온도조건조절(26, 32)이수행되며, 온도조건조절은인쇄두께에걸쳐스트립(J)의온도와에칭롤러(27)의하류의냉각(29)을보장하도록설계되어, 구조의제어된고정을보장하고, 본발명에따른방법은특정한구조를얻기위해직접연계되는파라미터들, 특히인쇄온도, 인쇄력및 냉각속도를결정할수 있어몰딩반경(R1)과크리프후반경(R2) 사이에크리프정도를고려할수 있다.

6. 发明授权

KR101799121B1 반응성 이온-빔 에칭에 의한 표면의 구조화 방법, 구조화된 표면 및 용도 有权
标题翻译：通过反应离子束蚀刻，结构化表面和用途来构建表面的方法
公开(公告)号：KR101799121B1
公开(公告)日：2017-11-17
申请号：KR1020127016917
申请日：2010-11-24
申请人： 쌩-고벵 글래스 프랑스
发明人： 손더가드엘린 , 르로이세바스티앙 , 르테이외알방 , 마뉴콩스탕스
IPC分类号： C03C15/00 , C03C14/00 , C03C21/00
CPC分类号： C03C21/005 , C03C14/004 , C03C15/00 , C03C2214/08 , C03C2217/77 , Y10T428/24479
摘要： 본발명은표면의구조화방법, 즉반응성이온-빔에칭에의해, 물질(1), 특히유리의표면상에서브마이크로미터크기의높이(H) 및마이크로미터또는서브마이크로미터크기의폭으로지칭되는하나이상의특징적측방향치수(W)를갖는특징부또는요철부(2)의하나이상의세트를형성하기위한표면의구조화방법에관한것이며, 상기방법은하기단계를포함하는것을특징으로한다: 두께가 100 nm 이상인상기물질 - 상기물질은고체혼성물질이며, 물질중 산화물의몰%가 40 % 이상, 특히 40 % 내지 94 %인단일또는혼합된 Si 산화물, 및물질중 종의몰%가 1 % 내지 50 % 범위이고상기산화물의 % 미만이며, 종의적어도대부분이 50 nm 미만의최대특징적치수를갖는, 산화물의 Si와는별도의하나이상의종, 특히금속을포함하고, 상기혼성물질은특히상기에칭전에준안정성임 - 을제공하는단계; 선택적으로상기에칭전에상기혼성물질을가열하는단계; 및상기패턴세트가형성될때까지 1 cm초과의에칭표면상에 1 시간미만의에칭시간으로상기혼성물질의표면을구조화하는단계 - 구조화단계는선택적으로혼성물질의가열을포함함 -.
摘要翻译：本发明涉及一种结构化表面的方法，即通过反应离子束蚀刻在材料（1）的表面上形成亚微米尺寸（H）更具体地涉及一种构造用于形成具有至少一个特征横向尺寸W的至少一组特征或凹部2的表面的方法，所述方法包括以下步骤：所述材料为至少100nm，所述材料为固体杂化材料，所述单一或混合氧化硅为至少40摩尔％，特别是至少40摩尔％，最优选至少94摩尔％ 50％和小于所述氧化物的％，至少大部分所述物质具有小于50nm的最大特征尺寸，并且其中所述混合材料特别是亚稳被到所述蚀刻的提供步骤之前; 在蚀刻之前选择性地加热混合材料; 并且1厘米

7. 发明授权

KR101781246B1 인라인 임계 치수 슬리밍을 이용한 이중 패터닝 有权
标题翻译：使用在线临界尺寸减肥的双重图案化
公开(公告)号：KR101781246B1
公开(公告)日：2017-09-22
申请号：KR1020137016304
申请日：2011-11-11
申请人： 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
发明人： 던샤논더블유 , 헤처데이비드
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： H01L21/0337 , G03F7/0035 , G03F7/40 , G03F7/405 , H01L21/0274 , Y10S438/947 , Y10S438/948 , Y10T428/24479 , Y10T428/24612
摘要： 본발명은기판(110, 310)을이중패터닝하는방법에대해서설명한다. 이중패터닝방법은, 제1 임계치수(CD)(123, 325)를감소된제1 CD(126, 326)로감소시키는제1 CD 슬리밍처리및 제2 CD(144, 326)를감소된제2 CD(146, 335)로감소시키는제2 CD 슬리밍처리를포함하는 LFLE(litho/freeze/litho/etch) 기술을포함할수 있다.
摘要翻译：将描述图案化其中的衬底110和310的方法。根据权利要求1的临界尺寸（CD）（123，325）的双重图案化方法降低根据权利要求1的CD减肥治疗的根据权利要求1的CD（126，326），并且第二CD（144，326）以降低以减小第二（光刻/冻结/光刻/蚀刻）技术，其中包括第二次CD减肥过程，将CD减少到CD 146,335。

8. 发明授权

KR101735840B1 방탄 제품의 개선된 제조 방법 有权
标题翻译：改进的防弹产品制造方法
公开(公告)号：KR101735840B1
公开(公告)日：2017-05-15
申请号：KR1020107024655
申请日：2009-04-01
申请人： 디에스엠 아이피 어셋츠 비.브이.
发明人： 호프나겔스헨 , 푼데린크알베르트
IPC分类号： B29C70/44 , F41H5/04 , F41H1/04 , A42B3/06
CPC分类号： F41H5/0478 , A42C2/005 , B29C70/44 , B29K2223/0683 , B29L2031/4821 , B29L2031/768 , F41H5/0485 , Y10T428/19 , Y10T428/24074 , Y10T428/24479 , Y10T428/24727 , Y10T428/2495 , Y10T428/2913
摘要： 본발명은방탄섬유와임의적으로열가소성결합제의단층을하나이상포함하는각각의시트를 2개이상적층하여시트들의스택을형성하는단계; 상기시트들의스택을감소된대기압력환경에적용시키는단계; 및상기감소된대기압력환경을유지하면서, 상기시트들의스택을고온에서 10 MPa 이상의압력으로압밀화시키는단계를포함하는방탄제품의제조방법에관한것이다. 또한, 본발명은방탄제품에관한것이다.
摘要翻译：本发明涉及一种通过层压包含至少一个单层抗静电纤维和任选的热塑性粘合剂的两个或更多个相应片材来形成片材叠层的方法，将一叠纸张应用到减小的大气压力环境中; 并且在保持减压环境的同时，将该叠片在高温下固化至至少10MPa的压力。本发明还涉及防弹产品。

9. 发明授权

KR101721721B1 나노구조의 제조 방법 有权
标题翻译：纳米结构的制造方法
公开(公告)号：KR101721721B1
公开(公告)日：2017-03-30
申请号：KR1020127030970
申请日：2011-04-22
申请人： 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 컴파니
发明人： 데이비드모지즈엠 , 유타-후아 , 하츠젤앤드류케이
IPC分类号： B29C59/14 , C23C16/04 , C23F1/02
CPC分类号： G02B1/118 , B29C59/14 , B29C2059/023 , B82Y20/00 , B82Y30/00 , B82Y40/00 , C23C16/04 , G02B3/08 , Y10T428/24479
摘要： 플라즈마화학증착에의해얇은무작위불연속마스킹층(105)을기재(101)의주 표면(103)에적용하는단계를포함하는나노구조의제조방법이제공된다. 기재(101)는중합체, 무기재료, 합금, 또는고용체일수 있다. 마스킹층(105)은유기규소화합물, 금속알킬, 금속아이소프로폭사이드, 금속아세틸아세토네이트, 및금속할라이드로구성된군으로부터선택된화합물을포함하는반응물가스를사용하는플라즈마화학증착의반응산물을포함할수 있다. 이어서, 마스킹층(105)에의해보호되지않은기재(101)의부분(107)을반응성이온에칭에의해에칭하여나노구조를제조한다.
摘要翻译：通过等离子体化学气相沉积将薄的随机不连续掩模层（105）施加到衬底（101）的主表面（103）。衬底101可以是聚合物，无机材料，合金或固溶体。它可以包括掩模层105，隐喻基硅化合物，烷基金属，金属异丙醇，金属乙酰丙酮的反应产物，并使用含有选自由金属卤化物的化学气相沉积的选自的化合物的反应气体进行等离子体有。然后通过反应离子蚀刻蚀刻未被掩模层105保护的衬底101的部分107以产生纳米结构。

10. 发明授权

KR101629520B1 글래스 밀봉형 패키지의 제조 방법 및 글래스 기판 有权
标题翻译：玻璃密封包装和玻璃基材的制造方法
公开(公告)号：KR101629520B1
公开(公告)日：2016-06-13
申请号：KR1020100015655
申请日：2010-02-22
申请人： 세이코 인스트루 가부시키가이샤
发明人： 단게요시히사
IPC分类号： H01L27/14
CPC分类号： H03H3/02 , H01L21/50 , H01L23/08 , H01L2924/0002 , H01L2924/14 , H01L2924/16588 , H01L2924/3511 , Y10T156/10 , Y10T428/24479 , H01L2924/00
摘要： 글래스기판의휨량을저감하고, 후공정에서박막이형성된다른 1매의글래스기판을접합할(양극접합등) 때의가공정밀도향상을가능하게하는글래스밀봉형패키지의제조방법및 그글래스밀봉형패키지에이용되는글래스기판을제공한다. 글래스기판전면에반도체 IC 칩이나수정블랭크등의전자디바이스를수용할수 있는캐비티를형성하지않고, 캐비티를형성하지않은개소를형성한다. 그캐비티가형성되어있지않은개소를프레임형상으로형성함으로써글래스기판의휨을저감한다.

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式