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1. 发明授权

KR101910498B1 신규한 유기 화합물 및 이를 포함하는 유기 전계 발광 소자 有权
公开(公告)号：KR101910498B1
公开(公告)日：2018-10-22
申请号：KR1020160071084
申请日：2016-06-08
申请人： (주)씨엠디엘
发明人： 백지은 , 안도환 , 민병우 , 오민영 , 임현철 , 이대균 , 안중복 , 배호기 , 양원기
IPC分类号： C07D307/94 , C07D333/54 , C07D209/96 , C09K11/06 , H01L51/50 , H01L51/00
摘要： 하기화학식 a로표시되는유기화합물이제공된다. 상기식에서, R내지 R, L, Ar, Ar, X, m, n 및 k 는전술하여정의된바와같다.

2. 发明公开

KR20180060619A 신규한 헤테로고리 화합물 및 이를 포함하는 유기 발광 소자 有权
公开(公告)号：KR20180060619A
公开(公告)日：2018-06-07
申请号：KR20160160327
申请日：2016-11-29
申请人： 에스에프씨 주식회사
发明人： 차순욱 , 박상우 , 유정호 , 김지환 , 김성우 , 조현준 , 이유림
IPC分类号： C07D307/94 , C07D405/04 , C07D405/14 , C09K11/06 , H01L51/00 , H01L51/50
摘要： 본발명은 [화학식 A] 내지 [화학식 C] 중에서선택되는어느하나로표시되는아민기를가지는헤테로고리화합물및 이를포함하는유기발광소자에관한것으로, 상기 [화학식 A] 내지 [화학식 C]는각각발명의상세한설명에정의된바와동일하다.

3. 发明公开

KR1020170138799A 신규한 유기 화합물 및 이를 포함하는 유기 전계 발광 소자 审中-实审
标题翻译：新型有机化合物和含有它们的有机电致发光器件
公开(公告)号：KR1020170138799A
公开(公告)日：2017-12-18
申请号：KR1020160071084
申请日：2016-06-08
申请人： (주)씨엠디엘
发明人： 백지은 , 안도환 , 민병우 , 오민영 , 임현철 , 이대균 , 안중복 , 배호기 , 양원기
IPC分类号： C07D307/94 , C07D333/54 , C07D209/96 , C09K11/06 , H01L51/50 , H01L51/00
摘要： 하기화학식 a로표시되는유기화합물이제공된다. 상기식에서, R내지 R, L, Ar, Ar, X, m, n 및 k 는전술하여정의된바와같다.
摘要翻译：提供由下式（a）表示的有机化合物。其中R 1至R，L，Ar，Ar，X，m，n和k如上所定义。

4. 发明授权

KR101809323B1 단량체의 제조 방법 有权
标题翻译：生产单体的方法
公开(公告)号：KR101809323B1
公开(公告)日：2017-12-14
申请号：KR1020150063999
申请日：2015-05-07
申请人： 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤
发明人： 후지와라다카유키 , 사게하시마사요시 , 하세가와고지 , 다니구치료스케
IPC分类号： C07D307/32 , C07D307/20 , C08F234/02 , C07D307/94 , C07D493/10 , C07D407/12 , C07D307/33
CPC分类号： C07D407/12 , C07D307/20 , C07D307/32 , C07D307/33 , C07D307/94 , C07D493/10
摘要： [해결수단] 본발명은, 일반식(9)으로표시되는화합물에염기또는 1A족금속, 2A족금속, 2B족금속에서선택되는금속을작용시켜금속엔올레이트시약을조제하고, 이엔올레이트시약과일반식(8)으로표시되는아실옥시케톤을반응시키는, 일반식(1)으로표시되는단량체의제조방법을제공한다:[효과] 본발명에따른포토레지스트재료는, 보존안정성이우수하고, 또한종래의알칼리현상에의한포지티브형의패턴형성뿐만아니라, 유기용제현상에서의포지티브네거티브반전의화상형성에있어서, 높은용해콘트라스트, 산확산제어, 낮은거칠기등의제반특성이우수하다.
摘要翻译： [解决问题的手段]从金属中选择的金属的本发明中，式（9），碱或组1A由金属，2A族金属，2B-基团表示的化合物中通过反应和制备油酸酯试剂金属日元，二日元油酸（1）：[效果]根据本发明的光致抗蚀剂材料具有优异的保存稳定性，并且可以通过包括以下步骤的方法获得：（1）使由式以及正型的图案形成通过常规碱显影，在正负反转现象的图像形成eseoui有机溶剂，它是yiwoosu各种性能如高的溶解对比度，酸扩散控制，低粗糙度。

5. 发明公开

KR1020150128599A 단량체의 제조 방법 审中-实审
标题翻译：制备单体的方法
公开(公告)号：KR1020150128599A
公开(公告)日：2015-11-18
申请号：KR1020150063999
申请日：2015-05-07
申请人： 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤
发明人： 후지와라다카유키 , 사게하시마사요시 , 하세가와고지 , 다니구치료스케
IPC分类号： C07D307/32 , C07D307/20 , C08F234/02 , C07D307/94 , C07D493/10 , C07D407/12 , C07D307/33
CPC分类号： C07D407/12 , C07D307/20 , C07D307/32 , C07D307/33 , C07D307/94 , C07D493/10
摘要： [해결수단] 본발명은, 일반식(9)으로표시되는화합물에염기또는 1A족금속, 2A족금속, 2B족금속에서선택되는금속을작용시켜금속엔올레이트시약을조제하고, 이엔올레이트시약과일반식(8)으로표시되는아실옥시케톤을반응시키는, 일반식(1)으로표시되는단량체의제조방법을제공한다:[효과] 본발명에따른포토레지스트재료는, 보존안정성이우수하고, 또한종래의알칼리현상에의한포지티브형의패턴형성뿐만아니라, 유기용제현상에서의포지티브네거티브반전의화상형성에있어서, 높은용해콘트라스트, 산확산제어, 낮은거칠기등의제반특성이우수하다.
摘要翻译：本发明提供一种制备由通式（1）表示的单体的方法，该方法通过使通式（9）表示的化合物与选自1A族金属，2A族金属的碱或金属反应来制备金属烯醇化物溶液和2B族金属，然后使烯醇化物溶液与由通式（8）表示的酰氧基酮反应。根据本发明的光致抗蚀剂材料具有优异的储存稳定性，并且具有优异的性能，包括有机溶剂显影中正，反转换的图像形成方面的高溶解对比度，酸扩散控制，低粗糙度等通过碱发展形成常规的正型图案。

6. 发明公开

KR1020150085513A (1Ｓ,4Ｓ,5Ｓ)-4-브로모-6-옥사바이시클로[3.2.1]옥탄-7-온의 제조 방법 审中-实审
标题翻译：制备（1S，4S，5S）-4-溴-6-氧杂环辛烯的方法[3.2.1] OCT7-7
公开(公告)号：KR1020150085513A
公开(公告)日：2015-07-23
申请号：KR1020157013213
申请日：2013-11-22
申请人： 다이이찌 산쿄 가부시키가이샤
发明人： 나카무라요시타카 , 무케쉬쿠마르마드흐라 , 이남다르무라드이스마일
IPC分类号： C07D307/94 , C07D513/04
CPC分类号： C07D513/04 , C07C269/00 , C07D307/00 , C07D307/94
摘要： 본발명은활성화혈액응고인자 X (활성화인자 X 또는 FXa 로도칭함) 에대한저해효과를나타내고혈전성질환을위한예방및/또는치료약물로서유용한화합물, 에독사반의합성에서주요중간체인하기식 (I) 로나타내는 (1S,4S,5S)-4-브로모-6-옥사바이시클로[3.2.1]옥탄-7-온의개선되고산업적으로유리한제조방법에관한것이다:. 본방법은식 (II) 의 (1S)-시클로헥스-3-엔-1-카르복실산을디클로로메탄, 톨루엔, 테트라히드로푸란, 에틸아세테이트, 헥산, 시클로펜틸메틸에테르 (CPME) 또는그 혼합물로이루어진군으로부터선택되는용매중에산화칼슘또는수산화칼슘으로부터선택되는염기의존재하에 N-브로모숙신이미드또는 1,3-디브로모-5,5-디메틸히단토인으로이루어진군으로부터선택되는브롬화제와반응시켜식 (I) 의 (1S,4S,5S)-4-브로모-6-옥사바이시클로[3.2.1]옥탄-7-온을수득하는것을포함한다.

7. 发明授权

KR101148553B1 락톤 함유 화합물, 고분자 화합물, 레지스트 재료 및 패턴형성 방법 有权
标题翻译：含内酯的化合物，聚合物，抗蚀剂组合物和图案化方法
公开(公告)号：KR101148553B1
公开(公告)日：2012-05-25
申请号：KR1020070001259
申请日：2007-01-05
申请人： 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤
发明人： 하세가와,고지 , 와따나베,사또시 , 하따께야마,준 , 긴쇼,다께시 , 다찌바나,세이이찌로
IPC分类号： C07D307/00 , C07D307/94 , G03F7/039
CPC分类号： G03F7/0392 , C07D307/00 , C08F220/24 , C08F220/28 , G03F7/0046 , G03F7/0395 , G03F7/0397 , Y10S430/108 , Y10S430/111
摘要： 본 발명은 하기 화학식 1로 표시되는 락톤 함유 화합물에 관한 것이다.

(식 중, A
1 은 탄소-탄소 이중 결합을 갖는 중합성 관능기를 나타내고, R
1 은 구성 탄소상의 수소 원자의 일부 또는 전부가 불소 원자로 치환된 탄소수 1 내지 10의 직쇄상, 분지상 또는 환상의 1가 탄화수소기를 나타내고, W는 CH
2 , 산소 원자, 황 원자 중 어느 것을 나타낸다.)
본 발명의 락톤 함유 화합물은 기능성 재료, 의약ㆍ농약 등의 원료로서 유용하고, 그 중에서도 파장 500 nm 이하, 특히 파장 300 nm 이하의 방사선에 대하여 우수한 투명성을 가지고, 현상 특성이 양호한 감방사선 레지스트 조성물의 기재 수지를 제조하기 위한 단량체로서 매우 유용하다. 또한, 본 발명의 중합체를 감방사선 레지스트 조성물의 기재 수지로서 이용하는 경우, 고해상성이면서 또한 액침 매체인 물에의 용출 및 물의 침입을 억제하므로, 이 고분자 화합물은 레지스트 재료로서 정밀한 미세 가공에 매우 효과적이다.
락톤 함유 화합물, 레지스트 재료.

8. 发明公开

KR1020070074476A 락톤 함유 화합물, 고분자 화합물, 레지스트 재료 및 패턴형성 방법 有权
标题翻译：含有LACTONE的化合物，聚合物，电阻组合物和图案处理
公开(公告)号：KR1020070074476A
公开(公告)日：2007-07-12
申请号：KR1020070001259
申请日：2007-01-05
申请人： 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤
发明人： 하세가와,고지 , 와따나베,사또시 , 하따께야마,준 , 긴쇼,다께시 , 다찌바나,세이이찌로
IPC分类号： C07D307/00 , C07D307/94 , G03F7/039
CPC分类号： G03F7/0392 , C07D307/00 , C08F220/24 , C08F220/28 , G03F7/0046 , G03F7/0395 , G03F7/0397 , Y10S430/108 , Y10S430/111
摘要： A lactone-containing compound is provided to be used as a useful monomer for producing a polymer for formulating a radiation-sensitive resist composition which has high transparency to radiation of up to 500 nm and exhibits good development properties. A polymer compound showing high resolution obtained from the lactone-containing compound is provided to inhibit dissolution in water and penetration of water when being used as a base resin of a radiation-sensitive resist composition, thereby being very effective for precise and fine processing as a resist material. The lactone-containing compound is represented by the formula(1), wherein A^1 is a polymerizable functional group having a carbon-to-carbon double bond, R^ is a straight, branched or cyclic monovalent C1-10 hydrocarbon group in which some or all hydrogen atoms on constituent carbons are substituted by fluorine atoms, and W is CH2, O or S. The polymer comprises recurring units derived from the lactone-containing compound. The resist composition comprises the polymer as a base resin. The method for forming a pattern comprises the steps of: (a) applying the resist composition into a substrate to form a coating; (b) heat-treating the coating; (c) exposing the coating to high-energy radiation or electron beam through a photomask, optionally heat-treating the exposed coating; and (d) developing it with a developer.
摘要翻译：提供含内酯化合物用作制备用于配制辐射敏感性抗蚀剂组合物的聚合物的有用单体，其对高达500nm的辐射具有高透明度并且显示出良好的显影性能。提供从含内酯化合物获得的高分辨率的高分子化合物，用作在用作辐射敏感性抗蚀剂组合物的基础树脂时在水中溶解和渗透，因此对于作为抗拒材料。含有内酯的化合物由式（1）表示，其中A 1是具有碳 - 碳双键的可聚合官能团，R 1是直链，支链或环状的一价C 1-10烃基，其中构成碳上的一些或全部氢原子被氟原子取代，W是CH 2，O或S.聚合物包含衍生自含内酯化合物的重复单元。抗蚀剂组合物包含作为基础树脂的聚合物。形成图案的方法包括以下步骤：（a）将抗蚀剂组合物施加到基底中以形成涂层; （b）对涂层进行热处理; （c）通过光掩模将涂层暴露于高能辐射或电子束，任选地热处理暴露的涂层; 和（d）与开发商一起开发。

9. 发明授权

KR100656466B1 스피로사이클릭 테트론산 유도체의 제조방법 有权
标题翻译：生产螺环四氢酸衍生物的方法
公开(公告)号：KR100656466B1
公开(公告)日：2006-12-21
申请号：KR1020027010944
申请日：2001-03-05
申请人： 바이엘 악티엔게젤샤프트 , 바이엘 코포레이션
发明人： 팔베폴커 , 쿨커니셰커브이.
IPC分类号： C07D307/94
摘要： 본 발명은 일반식 (II)의 화합물을 염기 및 일반식 (III)의 화합물과 반응시켜 일반식 (I)의 화합물을 제조하는 신규 방법에 관한 것이다:

상기 식에서,
X, Y, Z, n, G, A, B, R
1 , R
8 및 Hal은 각각 명세서에 정의된 바와 같다.

10. 发明授权

KR100607923B1 증가된 용해 속도를 나타내는 결정형 에플레레논 失效
标题翻译： EPLERENONE CRYSTALLINE FORM展现增强溶解速度
公开(公告)号：KR100607923B1
公开(公告)日：2006-08-04
申请号：KR1020017010043
申请日：2000-12-04
申请人： 파마시아 코포레이션
发明人： 바톤캐슬린 , 보샤트토마스비 , 캐로스말론브이 , 데사이수브하쉬 , 페로레오나드제이 , 고드헨리티 , 갠서스코트 , 리틀클레이알 , 무디팔리파르타에스 , 피에츠마크에이 , 필리파우스카스다니엘알 , 싱유엔-룽엘 , 스타흘글렌엘 , 위엑조레크요셉제이 , 얀크리스와이
IPC分类号： C07D307/94
摘要： 본 발명은 수성 매질에서 비교적 신속한 용해 속도를 갖는 알도스테론 수용체 길항물질 약물 에플레레논의 신규한 결정형(H형)을 제공한다. 본 발명은 또한 탈용매화될 때 H형 에플레레논을 생성할 수 있는 신규한 용매화된 결정형 에플레레논을 제공한다. 본 발명은 또한 무정형 에플레레논도 제공한다. 본 발명은 또한 H형 에플레레논, 임의로 1종 이상의 다른 고체 상태형을 에플레레논의 총 단위 투여량 약 10 내지 약 1000 ㎎으로 포함하고, 추가로 1종 이상의 약학적으로 허용 가능한 부형제를 포함하는 약학 조성물도 제공한다. 본 발명은 H형 에플레레논을 제조하는 방법 및 H형 에플레레논을 포함하는 조성물을 제조하는 방법을 제공한다. 본 발명은 또한 존재하는 에플레레논의 적어도 일부가 H형 에플레레논인 에플레레논의 치료학적으로 유효한 양을 환자에게 투여하는 단계를 포함하는 알도스테론이 매개하는 상태 또는 질환의 예방 및/또는 치료 방법을 제공한다.

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