会员体验
专利管家(专利管理)
工作空间(专利管理)
风险监控(情报监控)
数据分析(专利分析)
侵权分析(诉讼无效)
联系我们
交流群
官方交流:
QQ群: 891211   
微信请扫码    >>>
现在联系顾问~
热词
    • 5. 发明授权
    • 이미징 장치
    • KR102309733B1
    • 2021-10-07
    • KR1020177035276
    • 2016-05-27
    • G03G15/04B41J2/447B41J2/455G03G15/043G03G15/34G03F7/20
    • 개별적으로제어가능한레이저빔들을기준 X-방향으로이미징장치에대해이동가능한이미징표면상으로투사하기위한이미징장치가제시된다. 상기이미징장치는복수의반도체칩을포함하고, 각반도체칩은 M개의행 및 N개의열의 2차원메인어레이로배열된복수의레이저빔 방출소자를포함한다. 각행 내의상기소자들은균일한간격(Ar)을갖고, 각열 내의상기소자들은균일한간격(ac)을갖는다. 상기칩들은, 상기 X-방향에대해횡방향인기준 Y-방향으로서로인접한각 쌍의칩들이상기 X-방향으로서로오프셋되고, 연속적으로활성화될때, 상기쌍의상기 2개의칩들의방출된레이저빔들이상기이미징표면상에서상기 X-방향으로연장되고상기 Y-방향으로실질적으로균일하게이격된평행한라인들의세트를추적하는방식으로상기지지부상에장착된다. 상기메인어레이의소자들의 M개의행 및 N개의열에더하여, 각칩은상기메인어레이의각 측면에적어도하나의추가적인열을포함하고, 각열은상기지지부상에서상기인접한칩들을상대적으로위치시킬때 상기 Y-방향으로의임의의오정렬을보상할수 있는적어도하나의선택적으로동작가능한레이저방출소자를포함한다.
    • 8. 发明授权
    • 기재의 선택된 구역들에 막을 코팅하기 위한 인쇄 방법 및 장치
    • KR102316761B1
    • 2021-10-25
    • KR1020177035278
    • 2016-05-27
    • B41F23/00B41J2/455C23C16/02G03G15/34G03G15/04
    • 기재의표면의선택된구역들을막으로코팅하는방법및 장치가개시된다. 본방법은, a) 이미징표면을갖는연속적으로이동하는전사부재를제공하는단계; b) 열가소성중합체로형성되거나코팅된개별입자들로상기전사부재의상기이미징표면을코팅하는단계; c) 상기이미징표면과직접접촉하지않는실질적으로모든입자를제거하여상기이미징표면상에균일한단일층 입자코팅이남게하는단계; d) 상기선택된구역들내 상기입자들을점착성으로되게하는데 충분한파워의복사선에상기코팅된이미징표면의선택된구역들을노출시키는단계; e) 복사선조사동안또는복사선조사후에상기코팅된이미징표면및 상기기재표면을서로가압하여, 점착성으로된 상기입자코팅의구역들만을상기기재의표면으로전사시켜, 상기점착성구역이막을형성하게하는단계; 및 f) 단계 b) 및 c)를반복하여상기이전에도포된단일층코팅이단계 e)에서상기기재표면으로전사된상기선택된구역들에입자들의새로운단일층코팅을도포하여, 입자들의단일층으로다시균일하게코팅된상기이미징표면이남게하는단계를포함한다.
    • 9. 发明公开
    • 이미징 장치
    • 成像设备
    • KR20180013951A
    • 2018-02-07
    • KR20177035276
    • 2016-05-27
    • G03G15/04B41J2/447B41J2/455G03F7/20G03G15/043G03G15/34
    • G03F7/70025B41J2/447B41J2/45B41J2/451B41J2/455G03G15/04072G03G15/043G03G15/342
    • 개별적으로제어가능한레이저빔들을기준 X-방향으로이미징장치에대해이동가능한이미징표면상으로투사하기위한이미징장치가제시된다. 상기이미징장치는복수의반도체칩을포함하고, 각반도체칩은 M개의행 및 N개의열의 2차원메인어레이로배열된복수의레이저빔 방출소자를포함한다. 각행 내의상기소자들은균일한간격(A)을갖고, 각열 내의상기소자들은균일한간격(a)을갖는다. 상기칩들은, 상기 X-방향에대해횡방향인기준 Y-방향으로서로인접한각 쌍의칩들이상기 X-방향으로서로오프셋되고, 연속적으로활성화될때, 상기쌍의상기 2개의칩들의방출된레이저빔들이상기이미징표면상에서상기 X-방향으로연장되고상기 Y-방향으로실질적으로균일하게이격된평행한라인들의세트를추적하는방식으로상기지지부상에장착된다. 상기메인어레이의소자들의 M개의행 및 N개의열에더하여, 각칩은상기메인어레이의각 측면에적어도하나의추가적인열을포함하고, 각열은상기지지부상에서상기인접한칩들을상대적으로위치시킬때 상기 Y-방향으로의임의의오정렬을보상할수 있는적어도하나의선택적으로동작가능한레이저방출소자를포함한다.
    • 公开了一种成像装置,用于在基准X方向上将可单独控制的激光束相对于成像装置投影到移动的成像表面上。 成像装置包括多个半导体芯片,每个半导体芯片包括排列成M行N列的二维主阵列中的多个激光发射元件。 每行中的元素具有均匀的间距(A),并且每列中的元素具有均匀的间距(a)。 芯片被布置为使得当在与X方向交叉的基准Y方向上彼此相邻的每对芯片在X方向上彼此偏移并且被连续激活时, 横梁以这样的方式安装在支撑件上,即它们横过在成像表面上在X方向上延伸的一组平行线并且在Y方向上基本均匀地间隔开。 除了主阵列的M行和N列元件之外,每个芯片在主阵列的每一侧上还包括至少一个附加行,每行具有Y 并且至少一个可选择性操作的激光发射元件能够补偿在 - 方向上的任何未对准。