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    • 3. 发明专利
    • 除草組成物 HERBICIDAL COMPOSITIONS
    • 除草组成物 HERBICIDAL COMPOSITIONS
    • TW200948270A
    • 2009-12-01
    • TW098105274
    • 2009-02-19
    • 拜耳農業科學股份有限公司
    • 海格 艾爾溫哈斯 馬汀希爾斯 馬汀邦菲皮卡 喬治奧樂 湯馬士
    • A01NC07DA01P
    • A01N43/68A01N41/10A01N43/12A01N43/40A01N43/54A01N43/56A01N43/80A01N43/90A01N47/36A01N47/38A01N2300/00
    • 一種適合於控制有害植物或調節植物生長之除草組合物,其包含有效量的成分(A)和(B),其中成分(A)為一或多種式(I)的除草劑或其鹽類
      其中R 1 為H或式CZ 1 Z 2 Z 3 之基,其中Z 1 、Z 2 和Z 3 係如申請專利範圍第1項中所定義,R 2 和R 3 各自為H、在各情形中具有至多4個碳原子之烷基、鹵烷基、烯基、鹵烯基、炔基、鹵炔基、或醯基,R 4 為H、(C1-C6)-烷基或(C1-C6)-烷氧基;R 5 、R 6 、R 7 和R 8 各自為H、(C1-C4)-烷基、(C1-C3)-鹵烷基、鹵素、(C1-C3)-烷氧基、(Cl-C3)-鹵烷氧基或氰基;A為CH2或O或直接鍵,且成分(B)為一或多種選自包下列化合物所組成的群組之除草劑:(B1)噻克松(thiencarbazone)、特滅酮(tembotrione)、SYN-523、甲氧磺草胺(pyroxsulam)、平速爛(penoxsulam)、SYN-449,(B2)匹拉沙托(pyrasulfotole)、三氟啶磺隆(trifloxysulfuron)、沙弗芬那斯(saflufenacil)、氯氨基吡啶酸(aminopyralid)、乙氧呋草黃(ethofumesate)、胺環吡克(aminocyclopyrachlor),及(B3)吡舒磺(pyroxasulfone)(KIH-485)。
    • 一种适合于控制有害植物或调节植物生长之除草组合物,其包含有效量的成分(A)和(B),其中成分(A)为一或多种式(I)的除草剂或其盐类 其中R 1 为H或式CZ 1 Z 2 Z 3 之基,其中Z 1 、Z 2 和Z 3 系如申请专利范围第1项中所定义,R 2 和R 3 各自为H、在各情形中具有至多4个碳原子之烷基、卤烷基、烯基、卤烯基、炔基、卤炔基、或酰基,R 4 为H、(C1-C6)-烷基或(C1-C6)-烷氧基;R 5 、R 6 、R 7 和R 8 各自为H、(C1-C4)-烷基、(C1-C3)-卤烷基、卤素、(C1-C3)-烷氧基、(Cl-C3)-卤烷氧基或氰基;A为CH2或O或直接键,且成分(B)为一或多种选自包下列化合物所组成的群组之除草剂:(B1)噻克松(thiencarbazone)、特灭酮(tembotrione)、SYN-523、甲氧磺草胺(pyroxsulam)、平速烂(penoxsulam)、SYN-449,(B2)匹拉沙托(pyrasulfotole)、三氟啶磺隆(trifloxysulfuron)、沙弗芬那斯(saflufenacil)、氯氨基吡啶酸(aminopyralid)、乙氧呋草黄(ethofumesate)、胺环吡克(aminocyclopyrachlor),及(B3)吡舒磺(pyroxasulfone)(KIH-485)。