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    • 4. 发明专利
    • 除草組成物 HERBICIDAL COMPOSITIONS
    • 除草组成物 HERBICIDAL COMPOSITIONS
    • TWI365715B
    • 2012-06-11
    • TW094123928
    • 2005-07-14
    • 拜耳農業科學股份有限公司
    • 艾爾溫 海格艾克哈德 羅絲漢斯喬格 戴特理奇
    • A01N
    • A01N43/68A01N2300/00
    • 一種除草劑組合,其包含有效量的成分(A)和(B),其中成分(A)為一或多種式(I)的除草劑或其鹽類
      其中R1為H或式CZ1Z2Z3之基,其中Z1、Z2和Z3如申請專利範圍第1項中所定義,R2和R3各自為H、烷基、鹵烷基、烯基、鹵烯基、炔基、鹵炔基,在各情形中具有至多4個碳原子或醯基,R4為H、(C1-C6)-烷基或(C1-C6)-烷氧基;R5、R6、R7和R8各自為H、(C1-C4)-烷基、(C1-C3)-鹵烷基、鹵素、(C1-C3)-烷氧基、(C1-C3)-鹵烷氧基或氰基;A為CH2或O或直接鍵,和成分(B)為一或多種選自下列化合物之除草劑(B1)特別適合於萌芽前施用以抗單子葉或雙子葉有害植物之土壤作用除草劑,(B2)特別適合於萌芽後施用以抗單子葉或雙子葉有害植物之葉作用除草劑,和(B3)適合於萌芽前或萌芽後施用以抗單子葉或雙子葉有害植物之土壤作用和葉作用除草劑,係適合於控制有害植物。
    • 一种除草剂组合,其包含有效量的成分(A)和(B),其中成分(A)为一或多种式(I)的除草剂或其盐类 其中R1为H或式CZ1Z2Z3之基,其中Z1、Z2和Z3如申请专利范围第1项中所定义,R2和R3各自为H、烷基、卤烷基、烯基、卤烯基、炔基、卤炔基,在各情形中具有至多4个碳原子或酰基,R4为H、(C1-C6)-烷基或(C1-C6)-烷氧基;R5、R6、R7和R8各自为H、(C1-C4)-烷基、(C1-C3)-卤烷基、卤素、(C1-C3)-烷氧基、(C1-C3)-卤烷氧基或氰基;A为CH2或O或直接键,和成分(B)为一或多种选自下列化合物之除草剂(B1)特别适合于萌芽前施用以抗单子叶或双子叶有害植物之土壤作用除草剂,(B2)特别适合于萌芽后施用以抗单子叶或双子叶有害植物之叶作用除草剂,和(B3)适合于萌芽前或萌芽后施用以抗单子叶或双子叶有害植物之土壤作用和叶作用除草剂,系适合于控制有害植物。