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    • 60. 发明授权
    • Stitched write head design having a sunken shared pole
    • 拼接写头设计有一个凹陷的共享极点
    • US06469875B1
    • 2002-10-22
    • US09525672
    • 2000-03-15
    • Mao-Min ChenPo-Kang WangCherng-Chyi Han
    • Mao-Min ChenPo-Kang WangCherng-Chyi Han
    • G11B539
    • B82Y25/00B82Y10/00G11B5/3163G11B5/3903G11B5/3967G11B2005/3996Y10T29/49048
    • A structure and a method for a stitched write head having a sunken share pole. The method includes forming a bottom coil dielectric layer over the first half shared pole. Coils are formed over the bottom coil dielectric layer. Next, second half shared poles (P1) are formed over the first half shared pole (S2). We form a top coil dielectric layer over the structure. In a key step, we chemical-mechanical polish the top coil dielectric layer. A write gap layer (WG) is formed over the front second half shared pole and the top coil dielectric layer over the coils. An upper pole (P3) and hard mask are formed over the write gap layer. We etch the write gap layer and the second half shared pole (P1) using the upper pole as an etch mask to remove a portion of the second half shared pole (P1) adjacent to the write gap layer thereby forming a partially trimmed pole.
    • 一种具有凹陷的共享极的缝合写头的结构和方法。 该方法包括在第一半共享极上形成底部线圈电介质层。 线圈形成在底部线圈电介质层上。 接下来,在第一半共享极(S2)上形成第二半共享极(P1)。 我们在结构上形成顶层线圈介电层。 在关键步骤中,我们化学机械抛光顶层线圈介电层。 写入间隙层(WG)形成在线圈上的前第二半共享极和顶部线圈电介质层上。 在写间隙层上形成上极(P3)和硬掩模。 我们使用上极蚀刻写间隙层和第二半共享极(P1)作为蚀刻掩模,以去除与写间隙层相邻的第二半共享极(P1)的一部分,从而形成部分修整的极。